化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件制造技术

技术编号:35849552 阅读:22 留言:0更新日期:2022-12-07 10:32
本发明专利技术提供一种化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件。所述化学增幅型正型感光性树脂组合物的感度及显影密着性良好。化学增幅型正型感光性树脂组合物包括含酸解离性基的树脂(A)、光酸产生剂(B)、溶剂(C)、硅烷化合物(D)以及封闭型异氰酸酯化合物(E)。硅烷化合物(D)具有如式(D

【技术实现步骤摘要】
化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件


[0001]本专利技术涉及一种化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件,尤其涉及一种化学增幅型正型感光性树脂,其具有感度及显影密着性良好的优点,以及其所制得的保护膜及包含该保护膜的元件。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管型液晶显示元件或有机电致发光元件(organic electro

luminescence device,有机EL元件)等显示元件,通常包含层间绝缘膜或平坦化膜等绝缘膜,而此种绝缘膜通常使用感放射线性组合物来形成。为符合图案化性能的需求,通常可使用包含萘醌二叠氮化物(naphthoquinone diazide)等酸产生剂的正型感光性树脂组合物(参照日本专利特开2001

354822号公报),但近年来仍有许多其他的感光性组合物被提出。
[0003]举例而言,例如日本专利特开2004

4669号公报,是关于一种正型化学增幅材料,其形成显示元件用的硬化膜,所述正型化学增幅材料较前述使用萘醌二叠氮化物等酸产生剂的正型感光性树脂组合物,具有更高的感度。所述正型化学增幅材料含有交联剂、酸产生剂及酸解离性树脂,其中酸解离性树脂具有可被酸作用而解离的保护基,虽然酸解离性树脂本身不溶或难溶于碱性水溶液中,但通过酸的作用,使保护基解离而可溶于碱性水溶液中。另外,例如日本专利特开2004

264623号公报、日本专利特开2011

215596号公报以及日本专利特开2008

304902号公报也提出了含有具有缩醛结构和/或缩酮结构以及环氧基的树脂及酸产生剂的正型感光性组合物。
[0004]此类感光性树脂组合物中,除需具有高光感度外,所述硬化膜亦必须于显影后与基板充分密合而不易剥离,才得以形成理想的图案。
[0005]然而,目前的感光性树脂组合物仍有显影密着性及感度不佳的问题,而仍无法为业界所接受。

技术实现思路

[0006]有鉴于此,本专利技术提供一种化学增幅型正型感光性树脂组合物,其能够改善上述显影密着性及感度不佳的问题。
[0007]本专利技术提供一种化学增幅型正型感光性树脂组合物,包括:含酸解离性基的树脂(A)、光酸产生剂(B)、溶剂(C)、硅烷化合物(D)以及封闭型异氰酸酯化合物(E)。
[0008]硅烷化合物(D)具有如下述式(D

1)所示的结构。
[0009](R1O)
n
R
3(3

n)

Si

C
m
H
2m

S

Si(R2)3ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
式(D

1)
[0010]式(D

1)中,R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基。
[0011]R2各自独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至
10的烯基或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基。
[0012]R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基。
[0013]n为1至3的整数;且m为1至3的整数。
[0014]在本专利技术的一实施例中,上述的含酸解离性基的树脂(A)包括含酸解离性基的树脂(A1),
[0015]含酸解离性基的树脂(A1)是由第一混合物经共聚合而形成的共聚物。第一混合物包括不饱和羧酸单体(a1

1)、具有由下述式(a1

II)所示的酸解离性基的含酸解离性基的单体(a1

2)以及含内酯结构的不饱和单体(a1

3),
[0016][0017]式(a1

II)中,R
11
和R
12
各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基,其中所述烷基、脂环式烃基或芳基所具有的氢原子可部分或全部被取代,且R
11
及R
12
不同时为氢原子。R
13
为烷基、脂环式烃基、芳烷基或芳基,其中所述烷基、脂环式烃基、芳烷基及芳基所具有的氢原子可部分或全部被取代。R
11
与R
13
可相互键结而与R
11
所键结的碳原子以及R
13
所键结的氧原子共同形成环状醚结构。
[0018]在本专利技术的一实施例中,上述的含内酯结构的不饱和单体(a1

3)为由下述式(a1

III)所示的化合物,
[0019][0020]式(a1

III)中,R
X1
为氢原子或烷基;R
A2
为碳数1至8的烷基、碳数3至7的环烷基、碳数1至8的烷氧基、碳数2至8的烷氧基羰基、羧基、卤素原子、羟基、氰基或酸分解性基,当n2大于1时,多个R
A2
可相同或不同。A1为单键或二价连结基;Z2为含有

O

C(=O)

的单环或多环结构;n2为0以上的整数。
[0021]在本专利技术的一实施例中,上述的光酸产生剂(B)包括具有下述式(B

1)结构的光酸产生剂(B1),
[0022][0023]式(B

1)中,R
21
表示碳数为1至12的卤烷基或碳数为6至10的卤芳基,R
22
表示碳数为1至6的烷基,R
23
表示碳数为1至8的卤烷基或碳数为1至8的烷基。
[0024]在本专利技术的一实施例中,还包括由下述式(F

1)所示的碱性化合物(F),
[0025]N(Y)
x
(Z)3‑
x
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
式(F

1)
[0026]式(F

1)中,Y各自独立表示碳数为4以上的烷基、碳数为3以上的环烷基、苯基或芳烷基;
[0027]Z各自独立表示氢原子或碳数为3以下的烷基;
[0028]x表示1至3的整数。
[0029]在本专利技术的一实施例中,上述的封闭型异氰酸酯化合物(E)是由肟化合物、内酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亚甲基化合物以及吡唑化合物中的任一者形成封端结构的化合物。
[0030]在本专利技术的一实施例中,基于含酸解离性基的树脂(A)的使用量为100重量份,光酸产生剂(B)的使用量为0.3重量份至3重量份,溶剂(C)的使用量为150重量份至1200重本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学增幅型正型感光性树脂组合物,包括:含酸解离性基的树脂(A);光酸产生剂(B);溶剂(C);硅烷化合物(D);以及封闭型异氰酸酯化合物(E),所述硅烷化合物(D)具有下述式(D

1)所示的结构,(R1O)
n
R
3(3

n)

Si

C
m
H
2m

S

Si(R2)3ꢀꢀ
式(D

1)式(D

1)中,R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;R2各自独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;n为1至3的整数;且m为1至3的整数。2.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组合物,其中所述含酸解离性基的树脂(A)包括含酸解离性基的树脂(A1),所述含酸解离性基的树脂(A1)是由第一混合物经共聚合而形成的共聚物,所述第一混合物包括不饱和羧酸单体(a1

1)、具有由下述式(a1

II)所示的酸解离性基的含酸解离性基的单体(a1

2)以及含内酯结构的不饱和单体(a1

3),式(a1

II)中,R
11
和R
12
各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基,其中所述烷基、脂环式烃基或芳基所具有的氢原子未经取代或部分或全部被取代,且R
11
及R
12
不同时为氢原子;R
13
为烷基、脂环式烃基、芳烷基或芳基,其中所述烷基、脂环式烃基、芳烷基及芳基所具有的氢原子未经取代或部分或全部被取代;R
11
与R
13
可相互键结而与R
11
所键结的碳原子以及R
13
所键结的氧原子共同形成环状醚结构。3.根据权利要求2所述的化学增幅型正型感光性树脂组合物,其中所述含内酯结构的不饱和单体(a1

3)为由下述式(a1

III)所示的化合物,
式(a1

III)中,R
X1
为氢原子或烷基;R
A2
为碳数1至8的烷基、碳数3至7的环烷基、碳...

【专利技术属性】
技术研发人员:施俊安刘骐铭
申请(专利权)人:奇美实业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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