负型感光性着色组合物、固化膜、触摸面板用遮光图案和触摸面板的制造方法技术

技术编号:12175066 阅读:79 留言:0更新日期:2015-10-08 12:32
本发明专利技术的目的是提供适合形成白色系遮光图案的负型感光性着色组合物,所述白色系遮光图案不仅耐化学品性优异、而且耐热性极其优异、即使经过高温处理也不会产生泛黄和龟裂。本发明专利技术提供负型感光性着色组合物,其含有(A)白色颜料、(B)将包含特定结构化合物的烷氧基硅烷化合物进行共水解产物缩合而得的聚硅氧烷、(C)多官能丙烯酸单体、(D)光自由基聚合引发剂、以及(E)有机溶剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及负型感光性着色组合物、固化膜、触摸面板用遮光图案W及触摸面板 的制造方法。
技术介绍
近年来,智能手机和平板电脑等、使用了投影型电容式触摸面板的移动设备不断 迅速普及。通常,投影型电容式触摸面板是在屏面区域形成IT0(氧化铜锡,IndiumTin 化ide)膜的图案,在其周边部进一步形成钢等金属配线部。于是,为了隐蔽该种金属配线 部,大多在投影型电容式触摸面板的保护玻璃的内侧形成黑色或白色等的遮光图案。 触摸面板的方式大致分为;在保护玻璃和液晶面板之间形成触摸面板层的 Out-cell型、在液晶面板上形成触摸面板层的化-cell型、在液晶面板的内部形成触摸面 板层的In-cell型、W及在保护玻璃上直接形成触摸面板层的〇GS(X)neGlassSolution) 型,但从实现比W往更加薄型化和轻量化的观点考虑,日益盛行OGS型的触摸面板的开发。 另一方面,已知含有氧化娃化合物的负型感光性组合物(专利文献1~4)。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 ;日本特开2010-03905号公报 专利文献2 ;日本专利第5078475号公报 专利文献3 ;日本专利第4110401号公报 专利文献4 ;国际公开第2010/061744号。
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题 本专利技术人等认为,含有氧化娃化合物的负型感光性组合物通常耐热性优异,因此适合 在触摸面板的制造中形成白色系遮光图案。然而,没有在W往的负型感光性组合物中含有 白色颜料的具体例子,它们含有白色颜料时,由于高温处理而使所得固化膜很可能产生泛 黄和龟裂等,因此很难用于IT0制膜等必须进行高温处理的0GS型触摸面板的制造。 因此,本专利技术的目的在于提供适合形成白色系遮光图案的负型感光性着色组合 物,其不仅耐化学品性优异,而且耐热性极其优异,即使经高温处理也不会产生泛黄和龟 裂。 解决技术问题用的手段 为了解决上述技术问题,本专利技术人等关注于含有白色颜料的、含有氧化娃化合物的负 型感光性组合物中聚硅氧烷的结构,并进行了仔细研究。然后发现在含有组合多种具有特 定结构的烷氧基硅烷化合物并将它们进行共水解产物缩合而得的聚硅氧烷时,发挥出显著 的效果。目P,本专利技术提供W下记载的负型感光性着色组合物、W及使其固化而成的固化膜 等。 负型感光性着色组合物,其含有: (A)白色颜料、 炬)将包含由下述通式(1)表示的化合物、由下述通式(2)表示的化合物和由下述通式 (3)表示的化合物的烷氧基硅烷化合物进行共水解产物缩合而得的聚硅氧烷、 (C)多官能丙締酸单体、 值)光自由基聚合引发剂、W及 巧)有机溶剂, Ri2Si(0R2)2 (1) Ri各自独立地表示甲基或苯基,R2各自独立地表示氨或碳原子数1~4的烷基;R3表示甲基或氨,R4表示碳原子数1~4的亚烷基,R5各自独立地表示氨或碳原子数 1~4的烷基,R6各自独立地表示碳原子数1~6的烷基,n表示1~3的整数;1表示0~2的整数,m表示1~3的整数,R7表示碳原子数1~4的亚烷基,R8各自 独立地表示氨或碳原子数1~4的烷基,R9各自独立地表示碳原子数1~6的烷基。 专利技术效果 根据本专利技术的负型感光性着色组合物,可W形成不仅耐化学品性优异,而且耐热性极 其优异,即使经高温处理也不会产生泛黄和龟裂的白色系固化膜。【附图说明】 图1 ;示出遮光性固化膜、图案IT0、透明绝缘膜和MAM配线的制作过程的概略图; 图2 ;示出本专利技术的实施例42中制作的触摸面板基板的截面的概略图。【具体实施方式】 本专利技术的负型感光性着色组合物的特征在于,含有;(A)白色颜料、炬)将包含由 下述通式(1)表示的化合物、由下述通式(2)表示的化合物和由下述通式(3)表示的化合 物的烷氧基硅烷化合物进行共水解产物缩合而得的聚硅氧烷、(C)多官能丙締酸单体、值) 光自由基聚合引发剂、W及巧)有机溶剂, Ri2Si(0R2)2 (1) Ri各自独立地表示甲基或苯基,R2各自独立地表示氨或碳原子数1~4的烷基;R3表示甲基或氨,R4表示碳原子数1~4的亚烷基,R5各自独立地表示氨或碳原子数 1~4的烷基,r6各自独立地表示碳原子数1~6的烷基,n表示1~3的整数;1表示0~2的整数,m表示0~2的整数,R7表示碳原子数1~4的亚烷基,R8各自 独立地表示氨或碳原子数1~4的烷基,R9各自独立地表示碳原子数1~6的烷基。 作为由通式(1)表示的化合物,例如可列举;二甲氧基二甲基硅烷、二己氧基二甲 基硅烷、二甲氧基二苯基硅烷、二己氧基二苯基硅烷、二哲基二苯基硅烷、二甲氧基(甲基) (苯基)硅烷、一己氧基(甲基)(苯基)硅烷、一甲氧基(甲基)(苯己基)硅烷、一环戊基 二甲氧基硅烷或环己基二甲氧基(甲基)硅烷,为了提高耐龟裂性,优选二甲氧基二苯基娃 烧、^己氧基^苯基硅烷或^哲基^苯基硅烷。 在供于共水解产物缩合的烷氧基硅烷化合物中,由通式(1)表示的化合物所占的 比例优选为25~75摩尔%。如果由通式(1)表示的化合物的比例不足10摩尔%,则耐龟 裂性变低,能一次成膜的固化膜的膜厚受到限制。另一方面,如果超过75摩尔%,则所得固 化膜的耐化学品性降低。另外,在供于共水解产物缩合的烷氧基硅烷化合物中,二甲氧基二 苯基硅烷、二己氧基二苯基硅烷和二哲基二苯基硅烷所占的比例优选为10~45摩尔%。 作为由通式(2)表示的化合物,例如可列举;3-甲基丙締酷氧丙基S甲氧基硅烷、 3-甲基丙締酷氧丙基=己氧基硅烷、3-丙締酷氧丙基=甲氧基硅烷、3-甲基丙締酷氧丙基 甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙締酷氧丙基甲基二己氧基硅烷、3-丙締酷氧丙基甲基二甲氧 基硅烷、3-丙締酷氧丙基=己氧基硅烷或3-丙締酷氧丙基甲基二己氧基硅烷。在供于共水 解产物缩合的烷氧基硅烷化合物中,由通式(2)表示的化合物所占的比例优选为10~45 摩尔%。如果由通式(2)表示的化合物不足10摩尔%,则耐化学品性降低。另一方面,如果 超过45摩尔%,则耐热性降低。 作为由通式(3)表示的化合物,例如可列举;3-S甲氧基甲娃烷基丙基班巧酸酢、 3-=己氧基甲娃烷基丙基班巧酸酢、3-=甲氧基甲娃烷基己基班巧酸酢或3-=甲氧基甲 娃烷基了基班巧酸酢、3-二己氧基甲基甲娃烷基丙基班巧酸酢、3-二甲氧基甲基甲娃烷基 己基班巧酸酢或3-二甲氧基甲基甲娃烷基了基班巧酸酢。在供于共水解产物缩合的烧氧 基硅烷化合物中,由通式(3)表示的化合物所占的比例优选为1~20摩尔%。如果由通式 (3)表示的化合物不足1摩尔%,则对于显影残渣的边界变小。另一方面,如果超过20摩 尔%,则耐化学品性降低。 为了提高所得固化膜的耐化学品性,供于共水解产物缩合的烷氧基硅烷化合物优 选进而含有由通式(5)表示的化合物。作为由通式(5)表示的化合物,例如可列举;3-缩 水甘油氧基丙基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基二己氧基硅烷、3- (3, 4-环氧环己基) 丙基S甲氧基硅烷、3-(3, 4-环氧环己基)丙基S己氧基硅烷。供于共水解产物缩合的烧氧 基硅烷化合物中,由通式(5)表示的化合物所占的比例优选为10摩尔% ^下。如果由通式 (5)表示的化合物超过10摩尔%,则耐热性降低, Ri2Si(0Ri3)3 (5) 本文档来自技高网...

【技术保护点】
负型感光性着色组合物,其含有:(A)白色颜料、(B)将包含由下述通式(1)表示的化合物、由下述通式(2)表示的化合物和由下述通式(3)表示的化合物的烷氧基硅烷化合物进行共水解产物缩合而得的聚硅氧烷、(C)多官能丙烯酸单体、(D)光自由基聚合引发剂、以及(E)有机溶剂,        R12Si(OR2)2     (1)其中,R1各自独立地表示甲基或苯基,R2各自独立地表示氢或碳原子数1~4的烷基;其中,R3表示甲基或氢,R4表示碳原子数1~4的亚烷基,R5各自独立地表示氢或碳原子数1~4的烷基,R6各自独立地表示碳原子数1~6的烷基,n表示1~3的整数;其中,l表示0~2的整数,m表示1~3的整数,R7表示碳原子数1~4的亚烷基,R8各自独立地表示氢或碳原子数1~4的烷基,R9各自独立地表示碳原子数1~6的烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:荒木齐诹访充史冈泽彻井上欣彦石川晓宏佐伯昭典
申请(专利权)人:东丽株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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