离型膜及其制备方法技术

技术编号:12313267 阅读:280 留言:0更新日期:2015-11-11 22:37
本发明专利技术提供了一种离型膜及其制备方法。该离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层,其中,中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基的树脂涂层。本发明专利技术通过在基材原膜和离型层之间增加中间层,并利用中间层来改善本发明专利技术提供的离型膜的密着性和耐久性,并使离型膜具有光学外观良好、便于产线线上监控的特点,从而提高了产品的使用寿命,降低了产品的造价。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜
,具体而言,涉及一种。
技术介绍
目前,市场上的离型膜多用于半导体元器件、液晶面板、PDP和有机EL等显示器材 的保护膜,或用于不干胶、胶带、止痛膏和风湿膏等的背贴,用来防止上述物品的保护膜或 者上述物品自行粘连在一起。离型膜通常是在薄膜基材的一面或者是双面涂布上硅系或氟 系离型树脂所构成。 近些年来,随着显示器材向着大尺寸化和高精细化的发展,对离型膜的品质要求 也越来越高,主要体现在需要离型膜上没有异物并保证一定的清洁度,以防止异物在生产 过程中转移到产品当中。与此同时,随着人们生活品质的不断提高,对不干胶、胶带、止痛膏 和风湿膏等的洁净程度要求也越来越高,离型膜上没有异物这一要求也纳入了用户要求。 对上述离型膜的异物或者缺陷的检查,通常是通过生产线上的图像分析检测装置 来完成的。有时候,也会通过人眼目视来进行检测。特殊情况下,还会出现上述产品带着背 贴(离型膜)来进行在线检测。然而,人眼目视检测会因为生产线速度过快,从而出现漏检 或误检,还很容易出现检测疲劳。所以,生产线上的图像分析检测装置来完成检测是现在的 生产主流。但是,这就要求离型膜要具有很好的光学特性(较低的反射率,干涉条纹等),才 能最大限度的减少检测装置的误判,漏检或过度检测。 同时,随着分工的细化、产地的多元化以及运输距离的延长,在库调整时期的延长 等因素的影响,对离型膜的耐久性也有了更高的要求,尤其是不干胶、胶带、止痛膏和风湿 膏等使用寿命长的产品。为了延长离型膜的寿命,改善离型膜的离型效果,很多厂家采用加 厚硅胶涂层的做法,这样一来,增加了成本,同时又带来了干涉条纹增多的风险。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种,以提高离型膜的光学性能 和耐久性。 为了实现上述目的,根据本专利技术的一个方面,提供了一种离型膜,该离型膜包括由 下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层,其中,中间层为包含环氧基和/或不饱 和官能基团的树脂涂层。 进一步地,中间层还包含羟基。 进一步地,中间层为含硅或含氟的树脂涂层。 进一步地,中间层的结构式如式I或式II所示,其中, 式I 为 式II为且m、n均为大或于等于1的整数,&、1?2和 R3独立地选自H、C1-C8的烷基或者C1-C8的烷基的氟代烷基;R4选自H、C1-C20的烷基或 者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基;R5和1?6独立地选 自CH 2SCF2;R7选自C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的 醚基或者氟代醚基。 进一步地,中间层为由第一硅烷和第二硅烷在酸性环境下反应形成的树脂涂层, 其中,第一硅烷为环氧基硅烷或环氧基氟硅烷,第二硅烷为不饱和官能基硅烷或不饱和官 能基氣硅烷。 进一步地,环氧基硅烷选自环氧基-甲氧基硅烷、环氧基-乙氧基硅烷或环氧 基-丙氧基硅烷;不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-乙 氧基硅烷或不饱和官能基-丙氧基硅烷;环氧基氟硅烷选自环氧基-甲氧基氟硅烷、环氧 基-乙氧基氟硅烷或环氧基-丙氧基氟硅烷;不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧 基氟硅烷、不饱和官能基-乙氧基氟硅烷或不饱和官能基-丙氧基氟硅烷。 进一步地,中间层为由20 %~75% wt的第一硅烷、20 %~75% wt的第二硅烷和 1%~20% wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层;优选的,中间层为由20%~70% wt的第 一硅烷、20%~75% wt的第二硅烷和1 %~20% wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层;优 选的,中间层为由20%~70% wt的第一硅烷、20%~70% wt的第二硅烷和1 %~20% wt 的盐酸溶液反应形成的树脂涂层;优选的,中间层为由20%~70% wt的第一硅烷、20%~ 75% wt的第二硅烷和1%~15% wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层;优选的,中间层为由 20%~70% wt的第一硅烷、20%~70% wt的第二硅烷和1 %~15% wt的盐酸溶液反应 形成的树脂涂层。 进一步地,离型层为含有不饱和官能基的离型涂层。 进一步地,离型层为含硅的离型涂层或者含氟的离型涂层。 进一步地,中间层的厚度小于50纳米,优选为1~20纳米。 进一步地,离型层的厚度小于50纳米,优选为1~30纳米。 进一步地,基材原膜的厚度小于或等于500微米,优选为10~100微米。 根据本申请的另一方面,提供了一种上述的离型膜的制备方法,该制备方法包括: 制备中间层涂布用材料;在基材原膜上涂布述中间层涂布用材料,干燥后得到中间层,中间 层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层;在中间层的表面上形成离型层。 进一步地,制备中间层涂布用材料的步骤包括:将环氧基-甲氧基硅烷、不饱和官 能基-甲氧基硅烷和盐酸按配比混合,并用有机溶剂溶解,加热搅拌后,得到中间层涂布用 材料。 进一步地,形成中间层的步骤包括:将中间层涂布用材料置于基材原膜的一侧表 面上进行刮涂,经过80~120°C的条件下干燥0. 5~5分钟后,得到中间层;形成离型层 的步骤包括:将离型涂料助于述中间层的表面上进行刮涂,经过80~120°C的条件下干燥 0.5~5分钟后,得到离型层。 应用本专利技术的技术方案,本专利技术通过在基材原膜和离型层之间增加中间层,并利 用中间层来改善本专利技术提供的离型膜的密着性和耐久性,并使离型膜具有光学外观良好、 便于产线线上监控的特点,从而提高了产品的使用寿命,降低了产品的造价。【附图说明】 构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解,本专利技术的示 意性实施例及其说明用于解释本专利技术,并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中: 图1示出了根据本专利技术实施方式提供的离型膜的示意图。【具体实施方式】 需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相 互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。 需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述【具体实施方式】,而非意图限制根 据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式 也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语"包含"和/或"包 括"时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。 为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如"在……之上"、"在……上方"、 "在……上表面"、"上面的"等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特 征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位 之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为"在其他器 件或构造上方"或"在其他器件或构造之上"的器件之后将被定位为"在其他器件或构造下 方"或"在其他器件或构造之下"。因而,示例性术语"在……上方"可以包括"在……上方" 和"在……下方"两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方 位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。 现有离型膜的光学性能和耐久性较差。为了解决此问题,本专利技术提供了一种离型 膜,如图1所示:该离型膜包括由下往上依次本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种离型膜,其特征在于,所述离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层,其中,所述中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基团的树脂涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张国臻
申请(专利权)人:张家港康得新光电材料有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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