一种显影装置及显影方法、曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述缓冲膜能够调节所述显影液的浓度。该缓冲膜解决显影系统中光刻胶浓度不稳定对显影液显影能力的影响；并且能够减少显影液的使用量，节约成本。

【技术实现步骤摘要】
一种显影装置及显影方法、曝光装置
本专利技术涉及平板显示技术，特别涉及一种显影装置，及其显影方法，以及包括该显影装置的曝光装置。
技术介绍
显示面板目前被广泛的应用于手机、掌上电脑(PersonalDigitalAssistant,PDA)等便携式电子产品中，例如：薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,TFT-LCD)、有机发光二级管显示器(OrganicLightEmittingDiode,OLED)、低温多晶硅(LowTemperaturePoly-silicon,LTPS)显示器以及等离子体显示器(PlasmaDisplayPanel,PDP)等。在显示面板上制备电路等图形时，需要采用曝光装置对显示面板的基板上涂布的材料进行曝光、显影等处理。而在显影过程中，基板上会涂布有光刻胶，当基板浸泡在显影液中时，基板上的光刻胶会有一部分被溶解在显影液中，光刻胶的存在相当于显影过程的催化剂，光刻胶的溶解不影响显影液中显影成分的浓度，但会与显影液中的有效显影成分共同作用使得基板上光刻胶更易于溶解，提高显影能力，光刻胶的存在会有两本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述显影液包括光刻胶，所述缓冲膜能够调节所述显影液中光刻胶的浓度。

【技术特征摘要】
1.一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述显影液包括光刻胶，所述缓冲膜能够调节所述显影液中光刻胶的浓度。2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述缓冲膜是复合材料，至少包括氧化石墨烯与壳聚糖。3.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述缓冲膜通过粘结胶贴附在所述内壁上。4.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述光刻胶在所述显影液中的浓度为0.5mg/L-1.5mg/L；所述缓冲膜中光刻胶的浓度为1mg/L。5.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述内壁包括四个表面，其中，至少一个所述表面设置有所述缓冲膜。6.一种显影方法，应用于权利要求1所述的显影装置，其特征在于，将所述缓冲膜浸泡在光刻胶浓度为1mg/L的第一显影液中，将浸泡后的所述缓冲膜贴附在所述内壁上；在贴附有所述缓冲膜的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚宇环，
申请(专利权)人：上海天马有机发光显示技术有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31