新的羟基-6-杂芳基菲啶及其作为PDE4抑制剂的用途制造技术

技术编号:11829372 阅读:96 留言:0更新日期:2015-08-05 13:01
本发明专利技术涉及在药物工业中用于制造药物组合物的新的羟基-6-杂芳基菲啶衍生物——式(I)化合物。式(I)化合物是新的有效的PDE4抑制剂。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
式I化合物及其盐,N-氧化物和N-氧化物的盐其中R1是羟基,1-4C-烷氧基,3-7C-环烷氧基,3-7C环烷基甲氧基,2,2-二氟乙氧基,或是完全或基本上氟取代的1-4C-烷氧基,R2是羟基,1-4C烷氧基,3-7C-环烷氧基,3-7C-环烷基甲氧基,2,2-二氟乙氧基,或是完全或基本上氟取代的1-4C-烷氧基,或者其中R1和R2合起来是一个1-2C-亚烷基二氧基基团,R3是氢或1-4C-烷基,R31是氢或1-4C-烷基,或者,在根据本专利技术的第一实施方案(实施方案a)中,R4是-O-R41,其中R41是氢,1-4C-烷基,1-4C-烷氧基-1-4C-烷基,羟基-2-4C-烷基,1-7C-烷基羰基,或者是完全或基本上氟取代的1-4C-烷基,和R5是氢或1-4C-烷基,或者,在根据本专利技术的第二实施方案(实施方案b)中,R4是氢或1-4C-烷基,和R5是-O-R51,其中R51是氢,1-4C-烷基,1-4C-烷氧基-1-4C-烷基,羟基-2-4C-烷基,1-7C-烷基羰基,或者是完全或基本上氟取代的1-4C-烷基,Har可任选被R6和/或R7和/或R8取代,是一个5-10元单环或稠合双环的不饱和或部分饱和的杂芳基团,它含有1-4个独立选自氧、氮和硫的杂原子,其中R6是卤素,1-4C-烷基,1-4C-烷氧基,1-4C-烷氧基-2-4C-烷氧基,1-4C-烷硫基,硫烷基,氰基,1-4C-烷氧基羰基,羧基,羟基,氧基,-A-N(R61)R62,吡啶基,或者是完全或部分氟取代的1-4C-烷基,其中A是一个键或1-4C-亚烷基,R61是氢或1-4C-烷基,R62是氢或1-4C-烷基,或者R61和R62与它们连接的N原子一起形成一个杂环Het1,其中Het1可任选地被R611取代,是一个3-7元的饱和或不饱和的单环杂环基团,其中含有R61和R62所结合的氮原子,并任选地含1-3个独立选自氧、氮和硫的其它杂原子,其中R611是1-4C-烷基,R7是1-4C-烷基,1-4C-烷氧基,1-4C-烷氧基-2-4C-烷氧基,1-4C-烷硫基,硫烷基,羟基,氧基,氨基或是一或二-1-4C-烷基氨基,R8是卤素,1-4C-烷基或1-4C-烷氧基。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:B施密德特D弗洛克尔茨A哈策尔曼C齐特J巴尔西D马克斯HP克利U考茨
申请(专利权)人:塔科达有限责任公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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