【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶领域,特别是涉及一种彩膜基板及液晶显示器。
技术介绍
现有的液晶显示器一般被划分为水平取向模式和垂直取向模式两种。其中,典型的水平取向模式包括IPS(In-Plane Switching,平面转换)技术和ADS(Advanced Super Dimension Switch,高级超维场转换)技术。在IPS、ADS等水平取向模式的液晶显示装置中,在常黑模式下显示面板的周边会因为液晶盒厚度(Cell Gap)的差异而造成边缘暗态不均也即漏光现象。因此,如何改善显示面板边缘漏光导致均一性较差的问题成为急需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及液晶显示器,能够改善显示面板边缘漏光的问题,从而提高显示面板的均一性。为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种彩膜基板,该彩膜基板包括基板本体和设置于基板本体上的色阻层,色阻层包括依次重复排列的色阻,色阻层包括第一显示区域和位于第一显示区域外围的第二显示区域,其中,位于第二显示区域的色阻的厚度高于位于第一显示区域的色阻的厚度,以使对应于第二显示区域的显示面板的穿透率小于对应于第一显示区域的显示面板的穿透率。其中,位于第二显示区域的色阻的厚度与位于第一显示区域的色阻的厚度的关系为: 0 < e - K ...
【技术保护点】
一种彩膜基板,其特征在于,包括基板本体和设置于所述基板本体上的色阻层,所述色阻层包括依次重复排列的色阻,所述色阻层包括第一显示区域和位于所述第一显示区域外围的第二显示区域,其中,位于所述第二显示区域的色阻的厚度高于位于所述第一显示区域的色阻的厚度,以使对应于所述第二显示区域的显示面板的穿透率小于对应于所述第一显示区域的显示面板的穿透率。
【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括基板本体和设置于所述基板本
体上的色阻层,所述色阻层包括依次重复排列的色阻,所述色阻层包括
第一显示区域和位于所述第一显示区域外围的第二显示区域,其中,位
于所述第二显示区域的色阻的厚度高于位于所述第一显示区域的色阻
的厚度,以使对应于所述第二显示区域的显示面板的穿透率小于对应于
所述第一显示区域的显示面板的穿透率。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,位于所述第二显
示区域的色阻的厚度与位于所述第一显示区域的色阻的厚度的关系为:
0 < e - K ( l s - l m ) < 1 ]]>其中,K表示材料的吸收系数,Lm表示第一显示区域的色阻的厚度,
Ls表示第二显示区域的色阻的厚度。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一显示区
域呈矩形设置,两个所述第二显示区域沿第一方向设置于所述第一显示
区...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙海雁,李得俊,唐岳军,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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