【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种介质窗密封结构，其特征在于：包括介质窗、密封转接件、压板、第一密封圈、第二密封圈、缓冲件和安装底座；所述压板、介质窗和密封转接件依次连接形成上腔室组件；所述密封转接件与所述介质窗之间设置有所述第一密封圈和所述缓冲件，所述密封转接件上设置有第一凹槽，所述第一密封圈和缓冲件置于所述第一凹槽内，所述第一密封圈镶嵌在所述缓冲件与所述密封转接件形成的密封槽中；所述安装底座上设置有第二凹槽，所述密封转接件设置在所述第二凹槽内，所述密封转接件与所述安装底座之间设置有所述第二密封圈，所述上腔室组件与所述安装底座相配合形成密闭的腔体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：佘清，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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