处理液供给装置及方法、处理液及基板处理装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术的处理液供给装置(100)用于从喷出口(53)喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物(W)，包括：第一管(51)，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口(53)相连通；X射线照射单元(62)，用于向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。所述第一管(51)的管壁上具有开口(52)，所述开口(52)被窗构件(71)堵塞，所述窗构件(71)由能够使X射线透过的材料形成，所述X射线照射单元(62)，经由所述窗构件(71)向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】处理液供给装置及方法、处理液及基板处理装置及方法
本专利技术涉及处理液供给装置、基板处理装置、处理液供给方法、基板处理方法、处理液处理装置及处理液处理方法。使用处理液进行处理的处理对象物包括基板、容器、光学器件等。作为处理对象物来使用的基板，例如包括半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、等离子显示器用基板、FED(FieldEmissionDisplay：场发射显示器)用基板、OLED(有机电致发光显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板。
技术介绍
在半导体器件、液晶显示装置的制造工序中，进行如下处理等，即：向半导体晶片、液晶显示板用玻璃基板等基板的表面供给处理液，利用处理液清洗该基板表面。例如，一张一张地对基板进行处理(单张式清洗处理)的基板处理装置包括：旋转卡盘，用多个卡盘销大致水平地保持基板，并使该基板旋转；处理液喷嘴，用于向借助该旋转卡盘旋转的基板表面供给处理液。在基板处理中，通过旋转卡盘使基板旋转。另外，从喷嘴将药液供给至旋转的基板表面。供给至基板表面的药液受到因基板旋转而产生的离心力，在基板表面上向周边流动。由此，使药液遍及基板表面的整个区域，从而使用药液对基板表面进行处理。另外，在所述使用药液的处理之后，进行用纯水洗掉附着在基板上药液的漂洗处理。即，从处理液喷嘴向通过旋转卡盘旋转的基板表面供给纯水，该纯水受到因基板旋转而产生的离心力而扩散，由此使附着在基板表面的药液被洗掉。在该漂洗处理之后，进行使基板干燥的如下旋转干燥处理，即：使通过旋转卡盘旋转的基板的转速上升，由此甩掉附着在基板上的纯水(参照下述专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：JP特开2005-191511号公报
技术实现思路
要解决的技术问题然而，就这样的现有基板处理装置而言，在漂洗处理时，在旋转状态的基板表面和纯水之间发生接触和分离，有可能使基板因纯水的流动而带电(flowelectrification)。在基板为玻璃基板或硅晶片的情况下，基板带正电荷。若基板带电，则放出该电荷时，有可能破坏形成在基板表面的器件。另外，在半导体器件、液晶显示装置等的制造工序中，也采用对多张基板同时进行处理的成批处理型(batchtype)基板处理装置。成批处理型基板处理装置例如包括多个处理槽，所述多个处理槽包括储存有药液的药液处理槽及储存有水的漂洗处理槽。在对多张基板同时进行处理的情况下，基板依次浸泡于药液处理槽及漂洗处理槽。在漂洗处理槽中的漂洗处理过程中，有可能发生基板带电的现象。在基板为硅晶片或玻璃基板的情况下，基板带正电荷。若经过一连串处理后的基板带电，则在放出该电荷的时，有可能破坏形成在基板表面的器件。另外，即使处理对象物在搬入处理槽之前就带电，也有可能会发生同样的问题。因此，需要力求实现基板的防止带电及除静电的同时，进行漂洗处理(使用处理液的处理)。使用处理液的处理中防止带电及除静电的问题，并不是局限于处理对象物为基板的情况下的问题，是处理对象为容器或其他光学器件等的情况下也存在的相同的问题。于是，本专利技术的目的在于，提供一种能够在防止处理对象物带电或实现除静电的同时能够向该处理对象物供给处理液的处理液供给装置及处理液供给方法。另外，本专利技术的其他目的在于，提供一种能够在防止基板带电或实现除静电的同时能够使用处理液对该基板进行处理的基板处理装置及基板处理方法。本专利技术的其他目的在于，提供一种能够在防止处理对象物带电或实现除静电的同时能够使用处理液对该处理对象物进行处理的处理液处理装置及处理液处理方法。用于解决问题的手段本专利技术的第一形态提供一种处理液供给装置，用于从喷出口喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物，其特征在于，包括：第一管，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口相连通；X射线照射单元，用于向在所述第一管内存在的处理液照射X射线。若根据该结构，则向在第一管内存在的处理液照射X射线。而且，从与第一管的内部相连通喷出口喷出的处理液供给至处理对象物。在处理液中被照射X射线的部分(下面，称之为“处理液中的照射部分”)，因水分子被激发而从该水分子放出电子，其结果，处于水分子的正离子和电子混合在一起的等离子状态。从喷出口喷出的处理液，供给至处理对象物并与该处理对象物相接触。下面，对于从喷出口喷出的处理液在喷出口和处理对象物之间以液体状连接在一起情形进行说明。在这样的情况下，处理对象物和处理液中的照射部分经由处理液连接在一起。此时，若处理对象物带正电荷，则在处理液中的照射部分和带正电荷的处理对象物之间发生电位差，使得来自处理液中的照射部分的电子顺着以液体状连接在一起的处理液，向与处理对象物相接触的处理液移动。由此，使与处理对象物相接触的处理液具有大量的电子，所以带正电荷的处理对象物被除静电。另一方面，若处理对象物带负电荷，则来自处理对象物的电子顺着以液体状连接在一起的处理液向处理液中的照射部分的正离子移动。由此，使带负电荷的处理对象物被除静电。因此，能够防止处理对象物在处理液的供给中带电。另外，即使处理对象物在供给处理液之前就带正或负电荷，根据上述的原理，也能够使该处理对象物经由以液体状连接在一起的处理液被除静电。因此，能够在防止处理对象物带电或实现除静电的同时向该处理对象物供给处理液。此外，在本说明书及权利要求书中，“X射线”是指具有0.001nm～10nm左右的波长的电磁波，包括波长相对长的“软X射线”(0.1nm～10nm左右)和波长相对短的“硬X射线”(0.001nm～0.1nm左右)。另外，在本说明书及权利要求书中，“处理对象物”包括基板、容器、光学器件等。在本专利技术的一实施方式中，在所述第一管的管壁上具有开口，所述开口被窗构件堵塞，所述窗构件由能够使X射线透过的材料形成，所述X射线照射单元，经由所述窗构件向在所述第一管内存在的处理液照射X射线。若根据该结构，则由能够使X射线透过的材料形成窗构件。另外，从X射线照射单元照射的X射线，经由窗构件照射至在所述第一管内存在的处理液。由此，在处理液中的照射部分，能够良好地形成水分子的正离子和电子混合在一起的等离子状态。在这样的情况下，所述窗构件也可以由铍或聚酰亚胺树脂形成。若采用如铍那样的原子量小的物质，则也能够使透过力弱的X射线透。因此，通过由铍形成窗构件，能够使X射线透过窗构件。另外，在由聚酰亚胺树脂形成窗构件的情况下，能够使X射线透过窗构件。而且，由于聚酰亚胺树脂具有优异的化学稳定性，所以能够长期持续地使用窗构件。另外，优选地，在窗构件的存在处理液的一侧的壁面具有亲水性。在这样的情况下，能够抑制或防止气泡混入该壁面和处理液之间。由此，对在第一管内存在的处理液，能够良好地照射X射线。在所述窗构件的存在处理液的一侧的壁面，可以形成有保护膜。由此，能够对照射窗进行保护。尤其是，在由抗酸特性差的铍形成窗构件的情况下，能够良好地保护窗构件受到酸性处理液的影响。该保护膜优选由亲水性材料形成。在这样的情况下，能够抑制或防止气泡混入该保护膜和处理液之间。由此，对在第一管内存在的处理液，能够良好地照射X射线。在这样的情况下，所述保护膜，可以是含有聚酰亚胺树脂、类金刚石碳、氟类树脂及烃类树脂中的一种以上材料的保护膜。所述X本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理液供给装置，用于从喷出口喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物，其特征在于，包括：第一管，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口相连通；X射线照射单元，用于向在所述第一管内存在的处理液照射X射线。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.27 JP 2012-215293;2012.09.27 JP 2012-215291.一种处理液供给装置，用于从喷出口喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物，其特征在于，包括：第一管，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口相连通；X射线照射单元，用于向在所述第一管内存在的处理液照射X射线；在所述第一管的管壁上具有开口，所述开口被窗构件堵塞，所述窗构件由能够使X射线透过的材料形成，所述X射线照射单元，经由所述窗构件向在所述第一管内存在的处理液照射X射线。2.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述窗构件由铍或聚酰亚胺树脂形成。3.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，在所述窗构件的存在处理液的一侧的壁面，形成有保护膜。4.如权利要求3所述的处理液供给装置，其特征在于，所述保护膜是含有聚酰亚胺树脂、类金刚石碳、氟类树脂及烃类树脂中的一种以上材料的保护膜。5.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述X射线照射单元包括X射线发生器，所述X射线发生器用于发生X射线，并具有与所述窗构件相向配置的照射窗，从所述照射窗照射所发生的X射线。6.如权利要求5所述的处理液供给装置，其特征在于，所述X射线照射单元还包括：罩体，以与所述X射线发生器相隔开的方式包围该X射线发生器的周围；气体供给单元，用于向所述罩体的内部供给气体。7.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述第一管包括处理液管，在所述处理液管的内部，处理液向所述喷出口流动，所述X射线照射单元向在所述第一管内流动的处理液照射所述X射线。8.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述处理液供给装置还包括处理液管，在所述处理液管的内部，处理液向所述喷出口流动，所述第一管包括从所述处理液管分支而成的分支管。9.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括配置在所述喷出口的纤维状物质，从该喷出口喷出的处理液沿着该纤维状物质流动。10.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括：电极，配置在所述第一管上的比所述X射线的照射位置更靠处理液流动方向上的下游侧的位置；电源，用于对所述电极施加电压。11.如权利要求10所述的处理液供给装置，其特征在于，所述电极配置在所述第一管的前端部。12.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括：处理液检测单元，用于检测在所述第一管的所述X射线的照射位置是否存在处理液；X射线照射控制单元，在所述照射位置存在处理液时，使所述X射线照射单元照射X射线，在所述照射位置不存在处理液时，使所述X射线照射单元不照射X射线。13.一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板保持单元，用于保持基板，权利要求1～7、9～12中任一项所述的处理液供给装置；从所述喷出口喷出的处理液供给至所述基板的主面。14.如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板保持单元包括基板保持旋转单元，该基板保持旋转单元用于将基板保持为水平姿势，并使该基板绕着铅垂方向的规定的旋转轴线旋转，所述基板处理装置还包括筒状的液体阻挡构件，该液体阻挡构件包围所述基板保持旋转单元的周围，所述处理液供给装置还包括处理液管，在所述处理液管的内部，处理液向所述喷出口流动，所述处理液供给装置的所述第一管包括从所述处理液管分支而成的分支管，所述分支管包括用于向所述液体阻挡构件喷出处理液的液体阻挡构件用喷出口。15.如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板保持单元包括基板保持旋转单元，该基板保持旋转单元将基板保持为水平姿势，并使该基板绕着铅垂方向的规定的旋转轴线旋转，所述基板保持旋转单元具有支撑构件，所述支撑构件与所述基板的下表面的至少一部分接触，来将该基板支撑为水平姿势，所述支撑构件由多孔材料形成，从所述喷出口喷出的处理液供给至所述支撑构件。16.如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板保持单元包括基板保持搬运单元，所述基板保持搬运单元一边保持所述基板，一边向规定的搬运方向搬运该基板。17.如权利要求16所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板保持搬运单元，在以相对于水平面倾斜的姿势保持所述基板的情况下，沿着所述搬运方向搬运所述基板。18.一种处理液供给方法，用于从处理液供给装置的喷出口喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物，其特征在于，包括：相向配置工序，使所述喷出口与所述处理对象物相向，第一X射线照射工序，将X射线经由窗构件照射至在第一管的内部存在的处理液，其中，所述窗构件由能够使X射线透过的材料形成且堵塞在与所述喷出口连通的所述第一管的管壁上形成的开口；处理液喷出工序，与所述第一X射线照射工序并行地从所述喷出口喷出处理液；在所述处理液喷出工序中，处理液在所述喷出口和所述处理对象物之间以液体状连接在一起。19.如权利要求18所述的处理液供给方法，其特征在于，在所述处理液喷出工序中，从所述喷出口喷出的处理液呈将该喷出口和所述处理对象物连接起来的连续液流形状。20.如权利要求18或19所述的处理液供给方法，其特征在于，所述处理对象物为内部流动液体的第二管。21.如权利要求18或19所述的处理液供给方法，其特征在于，所述处理对象物为用于收容物品的容器。22....

【专利技术属性】
技术研发人员：宫城雅宏，荒木浩之，铃木政典，佐藤朋且，川濑信雄，
申请(专利权)人：斯克林集团公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP