基板盒清洗装置制造方法及图纸

能够防止在基板盒被清洗后污染物质从把持柄转移而污染基板盒的情况。在未设置基板的状态下对容纳基板的基板盒(C)进行清洗，具备室(10)，所述室(10)形成洁净的空间，在室(10)内具备清洗槽(40、50)，所述清洗槽(40、50)在将基板盒(C)的各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件，具备搬送机构(60)，所述搬送机构(60)利用把持柄(70)把持基板盒(C)的各部件而将这些部件相对于清洗槽(40、50)进行搬送，在清洗基板盒(C)时使把持柄(70)在室(10)内的待机位置(Q)处待机，设置有清洗单元(80)，在清洗各部件时所述清洗单元(80)对把持柄(70)进行清洗。清洗单元(80)构成为具备：喷射嘴(81)，其对把持柄(70)喷射气体；和排气扇(82)，其将气体从室(10)内排出。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板盒清洗装置
本专利技术涉及对基板盒进行清洗的基板盒清洗装置，该基板盒是在对转印电子部件的电路图案时使用的掩模基板或晶片等半导体基板等基板进行保管或者搬运时使用的基板盒。
技术介绍
以往，作为这种基板盒清洗装置，已知例如专利文献1(日本特开2005-109523号公报)中公开的基板盒清洗装置。如图22所示，在未设置基板的状态下，该基板盒清洗装置Sa对由底座Cb和覆盖该底座Cb的壳Cs构成且内部容纳基板(未图示)的基板盒C进行清洗。基板盒清洗装置Sa具备形成洁净的空间的室200，在该室200内设置有清洗槽201，所述清洗槽201在将底座Cb和壳Cs各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件。清洗槽201具备：槽主体202，其具有向上方敞开的开口；和盖203，其对槽主体202的开口进行开闭。在室200的外部设置有载置基板盒C的载置台204。手臂机器人205利用把持柄207把持载置于载置台204上的基板盒C并搬送到设置在室200的内部的支承台206。并且，手臂机器人205利用把持柄207把持被支承于支承台206的基板盒C的壳Cs而搬送并放置于清洗槽201的槽主体202内，将基板盒C的底座Cb搬本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板盒清洗装置，其在未设置基板的状态下对基板盒进行清洗，该基板盒具备底座和覆盖该底座的壳，并且在内部容纳上述基板，其中，该基板盒清洗装置具备：室，其形成洁净的空间；清洗槽，其设置在该室内，在将上述基板盒的底座和壳各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件；搬送机构，其利用把持柄把持上述基板盒的各部件而将这些部件相对于清洗槽进行搬送；以及清洗单元，在清洗上述基板盒时使上述把持柄在室内的待机位置处待机，在清洗上述各部件时该清洗单元对上述把持柄进行清洗。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.20 JP 2012-2070501.一种基板盒清洗装置，其在未设置基板的状态下对基板盒进行清洗，该基板盒具备内部容器和外部容器，上述内部容器具有内部底座和内部壳，并且在上述内部容器的内部容纳上述基板，上述外部容器具有外部底座和外部壳，并且收纳上述内部容器，其中，该基板盒清洗装置具备：室，其形成洁净的空间；清洗槽，其设置在该室内，在将上述基板盒的内部容器的内部底座和内部壳以及外部容器的外部底座和外部壳的各部...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂下俊也，
申请(专利权)人：修谷鲁电子机器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP