【技术实现步骤摘要】
蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备
本技术涉及喷淋处理
，特别是涉及一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备。
技术介绍
现有的喷淋处理设备通常通过朝下喷淋处理液对水平移动的材料进行化学反应或清洗，处理液因重力作用在水平移动的基材上面形成一层水膜，阻碍新的处理液与材料接触而造成上表面存在“水池效应”，从而使得喷淋的液体不能直接喷洒到水平移动基材上，造成化学反应或清洗不均匀。 因此，需要提供一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备，以解决上述问题。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备，能够避免与基材反应过的处理液阻挡新的处理液与基材反应，能够提升处理液处理基材的均匀性。 为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是:提供一种喷淋处理设备，喷淋处理设备包括:支撑装置，用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置，用于向倾斜设置的基材喷淋处理液。 其中，支撑装置设有用于传送基材的传送机构。 其...
【技术保护点】
一种喷淋处理设备，其特征在于，所述喷淋处理设备包括：支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋处理液。
【技术特征摘要】
1.一种喷淋处理设备，其特征在于，所述喷淋处理设备包括: 支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜； 喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋处理液。2.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置设有用于传送基材的传送机构。3.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置的两侧均设置有喷淋装置。4.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑平面与水平面的夹角为2?70度。5.根据权利要求4所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置还包括用于调节所述支撑平面的倾斜角度的角度调节装置。6.根据权利要求1所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述喷淋装置与所述支撑装置平行设置，且所述喷淋装置喷出处理液的方向与所述支撑装置支撑的基材表面垂直；或者所述喷淋装置水平设置，且所述喷淋装置喷出处理液的方向与水平面垂直。7.根据权利要求1-6任一项所述的喷淋处理设备，其特征在于，所述支撑装置包括至少两个子支撑装置，所述喷淋装置包括至少两个子喷淋装置，且每个所述子支撑装置对应设置至少一个子喷淋装置。8.根据权利要求7所述的喷淋处理...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙尚传，
申请(专利权)人：安徽省大富光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。