薄型玻璃基板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种薄型玻璃基板的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供玻璃基板(1)，对所述玻璃基板(1)进行抛光制程；步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板(1)进行蚀刻；该方法通过在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程，减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良，然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法，对玻璃基板进行蚀刻；在实现玻璃基板薄化的同时，有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生，提升了制程的良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种薄型玻璃基板的制作方法。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)等平板显示技术已经逐步取代阴极射线管(CathodeRayTube，CRT)显示器。基于平面光源技术的平面显示器已经接近市场化量产水平。在这些平面显示器中，一般将玻璃基板作为衬底基板并在其表面形成各种膜层结构。随着显示技术的发展，显示装置的轻薄化是当今的发展趋势，其中一个方向就是使用超薄玻璃基板作为显示面板的衬底基板。因此，玻璃基板的薄型化是平面显示器产品实现薄型化的核心技术。目前手机的液晶面板中的彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate)和薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)使用的都是0.4t或者以上的玻璃基板，为了使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供玻璃基板(1)，对所述玻璃基板(1)进行抛光制程；步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板(1)进行蚀刻。

【技术特征摘要】
1.一种薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供玻璃基板(1)，对所述玻璃基板(1)进行抛光制程；
步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所
述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板(1)进行蚀刻。
2.如权利要求1所述的薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，所述
步骤1中的抛光制程包括：
步骤11、提供抛光设备(10)，所述抛光设备(10)包括重力平台
(11)、及位于所述重力平台(11)下方的研磨平台(12)；所述重力平台
(11)表面设有真空吸盘(115)；所述研磨平台(12)表面设有抛光粉
(13)；
步骤12、所述重力平台(11)通过所述真空吸盘(115)吸附所述玻璃
基板(1)，并将其放置于所述研磨平台(12)的抛光粉(13)上，之后通过
所述重力平台(11)的重力作用将其压合于重力平台(11)与研磨平台
(12)之间；
步骤13、控制所述研磨平台(12)使其与所述玻璃基板(1)之间产生
相对运动，从而通过所述抛光粉(13)与玻璃基板(1)之间的摩擦实现对所
述玻璃基板(1)表面的抛光。
3.如权利要求2所述的薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，还包
括步骤14、采用步骤11至步骤13的方法对所述玻璃基板(1)的另一表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑自可，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42