本发明专利技术使光的入射角的差别对图像的质量的影响减少。光学滤波器部件包含：由透光性材料构成的基体(31)、和设于基体(31)的表面的光学膜。光学膜包含层叠各自折射率不同的多个电介质层的第1、第2以及第3电介质多层膜(32～34)。第1电介质多层膜(32)具有可见光的波长范围中的第1光透过范围(W1)。第2电介质多层膜(33)具有包含在第1光透过范围(W1)内的第2光透过范围(W2)，并具有高于第1电介质多层膜(32)的平均折射率。第3电介质多层膜(34)包含第2光透过范围(W2)，使第2光透过范围(W2)的中心波长的2倍的波长的光截止。第2电介质多层膜(33)与第1电介质多层膜(32)或者所述第3电介质多层膜(34)一起设置在基体的相同的主面侧。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学滤波器部件以及具备该光学滤波器部件的摄像装置
本专利技术涉及光学滤波器部件以及具备其的摄像装置。
技术介绍
例如在具有C⑶或CMOS等的摄像元件的彩色摄像装置等中，作为截止包含在可见 光区外的波长范围的红外线的部件，使用具有在由透光性材料构成的基体的表面形成光学 膜的结构的光学滤波器部件。在彩色摄像装置等中，由于在包含在可见光区外的波长范围 的红外线入射到摄像元件时，摄像的精度降低，因此使用截止红外线的光学滤波器。光学滤 波器部件中的光学膜是以例如40?50层交替层叠折射率相互不同的2个种类的光学层而 得到的电介质多层膜。另外，摄像装置有时在光学滤波器部件具有会聚光的透镜。（例如参 考专利文献1)。 在先技术文献 专利文献 专利文献1 :JP特开2008-60121号公报 专利技术的概要 专利技术要解决的课题 伴随着近年的摄像装置的薄型化，透镜与光学滤波器部件间的距离不断变窄，在 入射到光学滤波器部件的中央区域的光和入射到光学滤波器部件的周边区域的光，光的入 射角的差别不断变大。构成光学膜的电介质多层膜因光的入射角的差别而具有不同的光学 特性，因光的入射角的差别而在摄像图像的中心区域和周边区域的色调上易于出现差，有 时会给图像的画质带来影响。另外，关于光学滤波器部件，还有希望提升可见光中的所期望 的波长范围的光的透过率来提升图像的画质的要求。
技术实现思路
用于解决课题的手段 本专利技术的一个方式的光学滤波器部件具备由透光性材料构成的成基体、和设于基 体的表面的光学膜，光学膜包含层叠各自折射率不同的多个电介质层的第1、第2以及第3 电介质多层膜，第1电介质多层膜具有可见光的波长范围中的第1光透过范围，第2电介质 多层膜具有包含在第1光透过范围内的第2光透过范围，并且具有高于第1电介质多层膜 的平均折射率，第3电介质多层膜具有第3光透过范围，该第3光透过范围包含第2光透过 范围，具有比第1光透过范围的上限波长高的上限波长，并且使第2光透过范围的中心波长 的2倍的波长的光截止，第2电介质多层膜与基体相接，与第1电介质多层膜或第3电介质 多层膜一起设置在所述基体的相同的主面侧。 本专利技术的其它方式的摄像装置包含上述构成的光学滤波器部件、和设置在光学滤 波器部件的下方的摄像元件。 专利技术的效果 本专利技术的一个方式光学滤波器部件能减少因光的入射角的差别所引起的光学特 性的变化，且能确保所期望的光透过范围。 本专利技术的其它方式的摄像装置通过包括光学滤波器部件而能提升摄像图像的画 质。 【附图说明】 图1是表示本专利技术的实施方式中的摄像装置的纵截面图。 图2是表示图1所示的摄像装置中的光学滤波器部件的纵截面图。 图3是在图2所示的光学滤波器部件中用标号A示出的部分的放大图。 图4(a)是表示本专利技术的实施方式的光学滤波器部件中的第2电介质多层膜的透 过特性的图表，（b)是表示第3电介质多层膜的透过特性的图表。 图5(a)是表示透过本专利技术的实施方式的光学滤波器部件中的第2以及第3电介 质多层膜的双方的情况下的透过特性的图表，（b)是表示第1电介质多层膜的透过特性的 图表，（c)是表示光学滤波器部件的透过特性的图表。 图6是在图3所示的光学滤波器部件中用标号B表示的第2电介质多层膜的部分 的放大图。 图7是在图3所示的光学滤波器部件中用标号B表示的第2电介质多层膜的部分 放大图的其它示例。 图8(a)是表示本专利技术的实施方式的光学滤波器部件中的第1电介质多层膜的高 折射率层和低折射率层的厚度的分布的一例的图表，（b)是表不本专利技术的实施方式的光学 滤波器部件中的第2以及第3电介质多层膜的高折射率层和低折射率层的厚度的分布的一 例的图表。 图9是表示图1所示的摄像装置中的光学滤波器部件的其它示例的纵截面图。 图10(a)是表示图9所示的光学滤波器部件中的第2以及第1电介质多层膜的高 折射率层和低折射率层的厚度的分布的一例的图表，（b)是表示图9所示的光学滤波器部 件中的第2以及第3电介质多层膜的高折射率层和低折射率层的厚度的分布的一例的图 表。 图11(a)是表示用于说明在图2所示的光学滤波器部件中的第2电介质多层膜减 少应力差的功能的示意图，（b)是用于对在图9所示的光学滤波器部件中的第2电介质多 层膜减少应力差的功能进行说明的示意图。 图12是表示图1所示的摄像装置中的光学滤波器部件的其它示例的纵截面图。 图13(a)是表示图12所示的光学滤波器部件中的第1电介质多层膜的高折射率 层和低折射率层的厚度的分布的一例的图表，（b)是表示图12所示的光学滤波器部件中的 第2以及第3电介质多层膜的高折射率层和低折射率层的厚度的分布的一例的图表。 图14是用于对图12所示的光学滤波器部件的第2电介质多层膜的应力调整层的 功能进行说明的示意图。 图15 (a)?（d)分别是表示在图2所示的光学滤波器部件的制造方法中通过各工 序得到的结构物的纵截面图。 图16是表示图2所示的光学滤波器部件的其它示例的纵截面图。 【具体实施方式】 以下参考附图来说明本专利技术的例示的实施方式。 如图1所示那样，本专利技术的实施方式中的摄像装置包括：元件搭载用部件1、搭载 在元件搭载用部件1的摄像元件2、和设置在摄像元件2的上方的光学滤波器部件3。光学 滤波器部件3进行入射到摄像装置的光中的特定的波长范围的截止。在本实施方式中，光 学滤波器部件3例如使红外线的波长范围的光截止。 首先，参考图2?图7来说明本实施方式中的光学滤波器部件3。在后面叙述摄 像装置中的其他构成。另外，在图2?图7中示出第2电介质多层膜33和第3电介质多层 膜34 -起设置在基体31的相同的主面侧、第1电介质多层膜32设置在基体31在另一主 面侧的示例。 光学滤波器部件3包括：由无色透明的平板构成的基体31、和设置在基体31的表 面的光学膜。光学膜包括折射率分别不同的多个电介质层层叠而成的第1电介质多层膜 32、第2电介质多层膜33以及第3电介质多层膜34。 第1电介质多层膜32与基体31的一个主面相接而设，第2电介质多层膜33与基 体31的另一个主面相接而设。第3电介质多层膜34设置在第2电介质多层膜33上。 基体31例如由硼硅酸玻璃等的玻璃材料、铌酸锂、水晶或蓝宝石等具有双折射的 材料、或者丙稀酸树脂等的_分子材料构成。 在基体31由玻璃材料构成的情况下，使熔融的高纯度的玻璃原料流入到由熔点 高于玻璃的熔融温度的金属构成的容器内、优选能有效果地防止杂质的熔入的容器（例如 钼（Pt))内，之后跨数日慢慢冷却，形成为块状。然后，切断为给定的板厚以及外形尺寸。之 后，使用由氧化铝等构成的研磨件进行抛光研磨，进而使用由氧化铝、氧化铈等构成的研磨 件进行光学研磨，能由此做出基体31。通过如此进行制作，能防止产生给摄像元件2带来不 良影响的a射线的杂质熔入到高纯度的玻璃原料中。 另外，硼硅酸玻璃通过在玻璃原料中加入硼酸而成为耐热性或耐化学性卓越的材 料，进而由于透明、且具有平坦的无孔性的表面，因此适于作为光学上缺陷少的材料来使 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学滤波器部件，其特征在于，具备：由透光性材料构成的基体；和设置于该基体的表面的光学膜，该光学膜包含层叠了各自折射率不同的多个电介质层的第1、第2以及第3电介质多层膜，所述第1电介质多层膜具有可见光的波长范围中的第1光透过范围，所述第2电介质多层膜具有包含在所述第1光透过范围内的第2光透过范围，并且具有比所述第1电介质多层膜高的平均折射率，所述第3电介质多层膜具有第3光透过范围，该第3光透过范围包含所述第2光透过范围，具有比所述第1光透过范围的上限波长高的上限波长，并且使所述第2光透过范围的中心波长的2倍的波长的光截止，所述第2电介质多层膜与所述基体相接，与所述第1电介质多层膜或者所述第3电介质多层膜一起设置在所述基体的相同的主面侧。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.10.26 JP 2012-236963;2012.11.22 JP 2012-256391. 一种光学滤波器部件，其特征在于，具备： 由透光性材料构成的基体；和 设置于该基体的表面的光学膜， 该光学膜包含层叠了各自折射率不同的多个电介质层的第1、第2以及第3电介质多层 膜， 所述第1电介质多层膜具有可见光的波长范围中的第1光透过范围， 所述第2电介质多层膜具有包含在所述第1光透过范围内的第2光透过范围，并且具 有比所述第1电介质多层膜高的平均折射率， 所述第3电介质多层膜具有第3光透过范围，该第3光透过范围包含所述第2光透过 范围，具有比所述第1光透过范围的上限波长高的上限波长，并且使所述第2光透过范围的 中心波长的2倍的波长的光截止， 所述第2电介质多层膜与所述基体相接，与所述第1电介质多层膜或者所述第3电介 质多层膜一起设置在所述基体的相同的主面侧。2. 根据权利要求1所述的光学滤波器部件，其特征在于， 所述第2电介质多层膜与所述第3电介质多层膜一起设置在所述基体的相同的主面 侧。3. 根据权利要求1所述的光学滤波器部件，其特征在于， 所述第1以及第2电介质...
【专利技术属性】
技术研发人员：中尾贵博，
申请(专利权)人：京瓷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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