AMOLED器件及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种AMOLED器件制备方法。所述方法包括：形成聚合物基板；在所述聚合物基板上制作基板阻障层，所述基板阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层；在所述基板阻障层上制作薄膜晶体管阵列以及有机发光功能材料层，并进行阴极蒸镀形成阴极；在所述阴极上制作封装阻障层，所述封装阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。本发明专利技术还相应公开了一种AMOLED器件。应用本发明专利技术技术方案，能够满足AMOLED器件的高柔性要求。

【技术实现步骤摘要】
AMOLED器件及制备方法
本专利技术涉及显示器件
，特别是涉及一种AMOLED器件及制备方法。
技术介绍
AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting D1de,有源矩阵有机发光二极管)是新一代显示面板，相比于一般的液晶面板，具有反应速度更快、对比度更高、视角更广的技术优点。 柔性AMOLED的基板材料通常为聚合物基板，其水汽透过率和氧气透过率比较高，水汽或氧气进入AMOLED器件，会造成有机发光功能材料的降解，因此，需要在基板以及器件的封装结构上制作阻障层(barrier)来阻挡水汽和氧气的进入。 专利技术人在研究中发现，传统技术的问题在于，现有的阻障层材料一般选取AlOx、SiNx, S1x等无机材料，这些材料的脆性比较高，不能满足AMOLED器件的高柔性的要求。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种AMOLED器件制备方法，应用本方法，能够满足AMOLED器件的高柔性要求。 一种AMOLED器件制备方法,包括: 形成聚合物基板； 在所述聚合物基板上制作基板阻障层，所述基板阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层； 在所述基板阻障层上制作薄膜晶体管阵列以及有机发光功能材料层，并进行阴极蒸镀形成阴极； 在所述阴极上制作封装阻障层，所述封装阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。 在一个实施例中，所述形成聚合物基板的步骤，包括: 采用狭缝式涂布或旋转涂布的方式，在载体上形成聚合物基板。 在一个实施例中，所述聚合物基板为PEN基板、PI基板、PES基板、PEEK基板中的一种。 在一个实施例中，在载体上形成的聚合物基板的厚度为5-100微米。 在一个实施例中，在所述聚合物基板上制作基板阻障层的步骤，至少包括制作石墨烯膜的过程； 在所述阴极上制作封装阻障层的步骤，至少包括制作石墨烯膜。 在一个实施例中，所述制作石墨烯膜的步骤，包括: 采用氧化还原法直接制备石墨烯膜；或者 先采用气相沉积法在金属箔上沉积石墨烯膜，再进行化学或电化学转移。 在一个实施例中，所述石墨烯膜的厚度为30纳米至I微米。 在一个实施例中，在所述聚合物基板上制作基板阻障层的步骤，还包括制作有机物膜的过程； 在所述阴极上制作封装阻障层的步骤，还包括制作有机物膜。 在一个实施例中，所述有机物膜为PCL膜、PMMA膜、HMDSO膜中的一种。 在一个实施例中，所述石墨烯膜和所述有机物膜的层数同时为I至10层。 基于此，还有必要提供一种AMOLED器件，能够满足AMOLED器件的高柔性要求。 一种AMOLED器件，包括: 聚合物基板； 制作于所述聚合物基板上的基板阻障层，所述基板阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层； 制作于所述基板阻障层上的薄膜晶体管阵列以及有机发光功能材料层，所述有机发光功能材料层上设有经阴极蒸镀形成的阴极； 制作于所述阴极上的封装阻障层，所述封装阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。 在一个实施例中，所述聚合物基板为采用狭缝式涂布或旋转涂布的方式形成的聚合物基板；所述聚合物基板为PEN基板、PI基板、PES基板、PEEK基板中的一种；所述聚合物基板的厚度为5-100微米。 在一个实施例中，所述基板阻障层为多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层； 所述封装阻障层为多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层； 所述石墨烯膜的厚度为30纳米至I微米； 所述有机物膜为PCL膜、PMMA膜、HMDSO膜中的一种； 所述石墨烯膜和所述有机物膜的层数同时为I至10层。 上述AMOLED器件制备方法和器件，在制作基板阻障层和封装阻障层时，选用由多层石墨烯膜形成的阻障层，或由多层石墨烯膜和有机物膜交替形成的阻障层，相比于传统技术中选用无机材料，由于石墨烯材料高阻隔性和高柔韧型，不仅满足阻障层对水汽和氧气的阻挡要求，还可以满足高柔性要求。 【附图说明】 图1为一个实施例中的AMOLED器件制备方法的流程示意图； 图2为一个实施例中的AMOLED器件的结构示意图。 【具体实施方式】 为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。 参见图1，在一个实施例中提供了一种AMOLED器件制备方法。该方法可以用于制备满足高柔性AMOLED器件的应用场景。该方法包括: 步骤101，形成聚合物基板。 具体的,在本实施例中，可以采用狭缝式涂布(slit coating)或旋转涂布(spincoating)的方式,在玻璃载体上形成聚合物基板。该聚合物基板可以但不限于为PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜)基板、PI (聚酰亚胺薄膜)基板、PES (聚醚砜树脂)基板、PEEK (聚醚醚酮)基板中的一种。聚合物基板的厚度为5-100微米。 步骤102,在聚合物基板上制作基板阻障(barrier)层。 具体在本实施例中，基板阻障层可以是包含多层石墨烯膜的阻障层，也可以是多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。 作为一种可选方式，基板阻障层为多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。制作基板阻障层的步骤就包括制作石墨烯膜和制作有机物膜的过程。在本实施例中，石墨烯具有已有材料中最高的阻隔性能，并且柔韧型非常好。 其中，制作石墨烯膜可以采用氧化还原法或气相沉积法。若采用氧化还原法直接制备石墨烯膜，首先制备氧化石墨，先将石墨粉分散在强氧化性混合酸中，如浓硝酸和浓硫酸，然后加入高锰酸钾或氯酸钾等强氧化剂得到氧化石墨，再经过超声处理得到氧化石墨烯，最后通过还原得到石墨烯。若采用气相沉积法，先采用气相沉积法在金属箔，如铜箔或镍箔上沉积石墨烯膜，再进行化学或电化学转移到基板上。本实施例中，石墨烯膜的厚度为30纳米至I微米。 有机物膜可以是PCL(聚己内酯)膜、PMMA(亚克力)膜、HMDSO(六甲基二甲硅醚)膜中的一种。有机物膜与石墨烯膜相互交替，层数同时为I至10层。 步骤103，在基板阻障层上制作薄膜晶体管阵列以及有机发光功能材料层，并在有机发光功能材料层上进行阴极蒸镀形成阴极。 具体的，本步骤中制作薄膜晶体管阵列(TFT array)、有机发光功能材料层、阴极蒸镀可以参照传统技术。AMOLED作为OLED的一种,其利用有机半导体材料和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合从而导致发光。 步骤104，在阴极上制作封装阻障层。 具体的，在阴极上制作封装阻障层，封装阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。 在本步骤中，制作石墨烯膜的过程与步骤102中相同，在此不再详细赘述。若本步骤封装阻障层采用石墨烯膜和有机物膜交替，其层数同时为I至10层，有机物膜为PCL膜、PMMA膜、HMDSO膜中的一种。 上述实施例中的AMOLED器件制备方法，在制作基板阻障层和封装阻障层时，选用由多层石墨烯膜形成的阻障层，或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种AMOLED器件制备方法，其特征在于，所述方法包括：形成聚合物基板；在所述聚合物基板上制作基板阻障层，所述基板阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层；在所述基板阻障层上制作薄膜晶体管阵列以及有机发光功能材料层，并进行阴极蒸镀形成阴极；在所述阴极上制作封装阻障层，所述封装阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。

【技术特征摘要】
1.一种纟10120器件制备方法，其特征在于，所述方法包括: 形成聚合物基板； 在所述聚合物基板上制作基板阻障层，所述基板阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层； 在所述基板阻障层上制作薄膜晶体管阵列以及有机发光功能材料层，并进行阴极蒸镀形成阴极； 在所述阴极上制作封装阻障层，所述封装阻障层为包含多层石墨烯膜的阻障层，或多层石墨烯膜与有机物膜相互交替的阻障层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成聚合物基板的步骤，包括: 采用狭缝式涂布或旋转涂布的方式，在载体上形成聚合物基板。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述聚合物基板为？别基板、？I基板、？￡3基板、？￡￡1(基板中的一种。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在载体上形成的聚合物基板的厚度为5-100微米。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述聚合物基板上制作基板阻障层的步骤，至少包括制作石墨烯膜的过程； 在所述阴极上制作封装阻障层的步骤，至少包括制作石墨烯膜。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述制作石墨烯膜的步骤，包括: 采用氧化还原法直接制备石墨烯膜；或者 先采用气相沉积法在金属箔上沉积石墨烯膜，再进行化学或电化学转移。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述石墨烯膜的厚度为30纳米至1微米。8.根据权利要求5至7任一项所述的方法，其特征在于，在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：何剑，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44