阵列基板的制造方法及应用其制造的阵列基板技术

本发明专利技术公开一种阵列基板的制造方法及应用其制造的阵列基板，涉及显示装置技术，解决隔垫物与阵列基板贴合时易产生静电，从而对液晶的控制造成干扰，影响显示效果的问题。阵列基板的制造方法，包括：1，在基板上形成栅极；2，在栅极上依次形成栅极绝缘层，有源层以及源、漏极；3，在源、漏极上形成钝化层，并在相应位置形成过孔；4，在钝化层上依次形成导电材料层和第一光刻胶层；5，对第一光刻胶层进行曝光、显影，在非像素区形成隔垫物、同时在像素区形成第一图案化光刻胶层；6，沿第一图案化光刻胶层对导电材料层进行刻蚀，形成像素电极；7，对基板进行曝光、显影，去除第一图案化光刻胶层。本发明专利技术主要用于显示装置生产中。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开一种阵列基板的制造方法及应用其制造的阵列基板，涉及显示装置技术，解决隔垫物与阵列基板贴合时易产生静电，从而对液晶的控制造成干扰，影响显示效果的问题。阵列基板的制造方法，包括：1，在基板上形成栅极；2，在栅极上依次形成栅极绝缘层，有源层以及源、漏极■’3，在源、漏极上形成钝化层，并在相应位置形成过孔；4，在钝化层上依次形成导电材料层和第一光刻胶层；5，对第一光刻胶层进行曝光、显影，在非像素区形成隔垫物、同时在像素区形成第一图案化光刻胶层；6，沿第一图案化光刻胶层对导电材料层进行刻蚀，形成像素电极；7，对基板进行曝光、显影，去除第一图案化光刻胶层。本专利技术主要用于显示装置生产中。【专利说明】阵列基板的制造方法及应用其制造的阵列基板
本专利技术涉及显示装置
，尤其涉及一种阵列基板的制造方法及应用其制造 的阵列基板。
技术介绍
TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显不 器）具有高响应度、高亮度和高对比度等优点，备受人们的青睐，已成为显示装置中的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：步骤1，在基板上形成栅极；步骤2，在所述栅极上沉积形成栅极绝缘层，在所述栅极绝缘层上形成源、漏极以及连接所述源、漏极的有源层；步骤3，在完成步骤2的所述基板上形成钝化层，同时在所述钝化层上相应位置形成过孔；步骤4，在完成步骤3的所述基板上依次形成导电材料层和第一光刻胶层；步骤5，使用掩膜版对所述第一光刻胶层进行曝光、显影，在非像素区形成隔垫物、同时在像素区形成第一图案化光刻胶层；步骤6，沿所述第一图案化光刻胶层对所述导电材料层进行刻蚀，形成像素电极；步骤7，使用掩膜版对完成步骤6的所述基板进行曝光、显影，去除所述第一图案化光刻胶层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：白金超，郭总杰，丁向前，刘晓伟，刘耀，张光明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11