应用于Crius机型的石墨盘，石墨盘结构，反应腔室制造技术

本申请公开了应用于Crius机型的石墨盘，石墨盘结构，反应腔室。该石墨盘，具有用于放置衬底的凹槽，凹槽在石墨盘的外圈设置的数目为十八个；凹槽在石墨盘的中圈设置的数目为十二个；凹槽在石墨盘的内圈设置的数目为六个；凹槽在石墨盘的中心设置的数目为一个；凹槽在石墨盘的外圈的尺寸为：石墨盘表面到放片槽内台阶上表面的垂直距离为0.43mm；放片槽中心点与该放片槽内台阶底角的垂直距离为0至0.015mm；凹槽内石墨盘径向上距离石墨盘圆心近的一端的台阶的垂直高度为0至0.03mm；凹槽内石墨盘径向上距离石墨盘圆心远的一端的直角台阶垂直高度为0至0.02mm。本实用新型专利技术能够解决生产实际中存在的波长均匀性差的问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种应用于Crius机型的石墨盘，具有用于放置衬底的凹槽，其特征在于：所述凹槽在石墨盘的外圈设置的数目为十八个；所述凹槽在石墨盘的中圈设置的数目为十二个；所述凹槽在石墨盘的内圈设置的数目为六个；所述凹槽在石墨盘的中心设置的数目为一个；所述凹槽在石墨盘的外圈的尺寸为：所述石墨盘表面到放片槽内台阶上表面的垂直距离为0.43mm；所述放片槽中心点与该放片槽内台阶底角的垂直距离为0至0.015mm；凹槽内石墨盘径向上距离石墨盘圆心近的一端的台阶的垂直高度为0至0.03mm；凹槽内石墨盘径向上距离石墨盘圆心远的一端的直角台阶垂直高度为0至0.02mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱耀强，
申请(专利权)人：湘能华磊光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43