用于有机电子器件的基板制造技术

本发明专利技术涉及一种用于有机电子器件的基板、一种有机电子设备、一种制造所述基板或所述设备的方法、以及一种照明设备。本申请的用于有机电子器件的基板例如可用于制造一种有机电子设备，其防止外界物质例如湿气和氧气渗入，且具有增加的耐久性和优异的光提取效率。另外，通过使用所述基板，封装结构用于密封有机电子设备，所述基板可稳定地粘附于所述封装结构，能够制造在电极层被磨损或从外部施加压力的环境下具有优异的耐久性的器件。并且有机电子设备的外部端子部的表面硬度可保持在合适的水平。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于有机电子器件的基板
本申请涉及用于有机电子器件的基板、有机电子设备、制造所述设备或所述基板的方法、以及照明设备。
技术介绍
有机电子器件(OED；OrganicElectronicDevice)是一种包括至少一个能够传导电流的有机材料层的器件。有机电子器件的类型包括有机发光器件(OLED)、有机太阳能电池、有机光导体(OPC)或有机晶体管等。有机发光器件，作为有机电子器件的代表，通常依次包括基板、第一电极层、有机层和第二电极层。在一种已知为底部发光器件(bottomemittingdevice)的结构中，第一电极层可形成为透明电极层，且第二电极层可形成为反射电极层。在一种已知为顶部发光器件(topemittingdevice)的结构中，第一电极层可形成为反射电极层，且第二电极层可形成为透明电极层。由电极层注入的电子(electron)和空穴(hole)在存在于有机层的发光层中重新结合(recombination)以产生光子。对于底部发光器件，光子可向基板侧发射，而对于顶部发光器件，光子可向第二电极层侧发射。在有机发光器件结构中，通常用作透明电极层的铟锡氧化物(ITO，IndiumTinOxide)、有机层和通常为玻璃的基板的折射率分别为约2.0、1.8、1.5。由于这些折射率之间的关系，例如，底部发光器件的发光层中产生的光子可被介于有机层和第一电极层的界面中或基板中的全内反射(totalinternalreflection)现象等而捕获(trap)，因此，仅发射极少量的光子。有机发光器件中应考虑的另一重要问题在于耐久性。由于有机层或电极层等极易被湿气或氧气等的外界物质氧化，因此确保对环境因素的耐久性是非常重要的。为此，例如，对比文件1至4等提出可阻止外界物质侵入的结构。现有技术文献：专利文献专利文献1：美国专利第6,226,890号专利文献2：美国专利第6,808,828号专利文献3：日本公开专利第2000-145627号专利文献4：日本公开专利第2001-252505号
技术实现思路
技术问题本专利技术提供一种用于有机电子器件的基板、有机电子设备、制造所述基板或设备的方法以及照明设备。技术方案用于有机电子器件的示例性的基板包括基础层、光学功能层、及电极层。如上所述，光学功能层和电极层可依次层叠于基础层上，因此，光学功能层可位于基础层和电极层之间。图1和图2示出示例性的基板，其中，光学功能层103和电极层102依次形成于基础层101上。所述光学功能层可以具有与所述基础层相比小的投影面积，电极层可以具有与所述光学功能层相比大的投影面积。本说明书中使用的术语“投影面积”是指，从所述基板表面的法线方向的上方观察基板时可分辨的对象物的投影面积，例如，所述基础层、光学功能层、电极层、或后述的中间层的面积。因此，例如，由于光学功能层的表面形成为凹-凸形状等，因此，在所述光学功能层的实际表面积比电极层大的情况下，若从上方观察所述光学功能层时可分辨的面积与从上方观察所述电极层时可分辨的面积相比更小，则解释为所述光学功能层具有与所述电极层相比小的投影面积。若光学功能层的投影面积比基础层小，且其投影面积比电极层小，则光学功能层可以以各种形态存在。例如，如图1所示，光学功能层103可以仅在不包括基础层101的外围的区域形成，或如图2所述，光学功能层103可以在基础层101的外围上部分地保留。图3是示出从上方观察图1中的基板的示例性实施方案的示意图。如图3所示，从上方观察基板时可以分辨的电极层的面积(A)，即电极层的投影面积(A)大于位于电极层下部的光学功能层的投影面积(B)。电极层投影面积(A)与所述光学功能层的投影面积(B)之比值(A/B)可以为例如1.04以上、1.06以上、1.08以上、1.1以上、1.15以上。若光学功能层的投影面积与所述电极层的投影面积相比小时，则可以实现后述的光学功能层不暴露在外部的结构，因此，所述投影面积的比值(A/B)的上限不作特别限制。考虑到基板的一般制作环境，所述比值(A/B)的上限可以为，例如约2.0、约1.5、约1.4、约1.3、约1.25。在所述基板中，电极层还可形成于未形成光学功能层的所述基础层的上方。所述电极层以接触所述基础层的方式形成，或在与基础层之间包括附加的元件如后述的中间层等的方式形成。通过上述方式，在制造有机电子器件时，所述结构中的光学功能层不暴露于外界环境。例如，如图3所示，电极层可以为在从上方观察时还在超过光学功能层的全部外围的区域形成。此时，例如，如图2所示，在基础层上存在多个光学功能层的情况下，电极层可形成至超过至少一个光学功能层的全部外围的区域，例如，如下所述，光学功能层为例如包括至少一个其上待形成有机层的光学功能层。例如，如果在图2结构的右侧和左侧的光学功能层上也将形成有机层，则图2的结构可发生变化，以使电极层通过延伸至光学功能层的右侧和左侧而形成至超过位于所述右侧和左侧的光学功能层的全部外围的区域。在上述结构中，光学功能层不暴露于外部的结构，可通过将后述的封装结构附着于在下方未形成光学功能层的电极层或形成导电层而形成。光学功能层的投影面积与电极层的投影面积不相同，电极层也形成在未形成有光学功能层的基础层的上方的情况下，通过在未形成有光学功能层的基础层上形成的电极层(下面，可简称为基础层上的电极层)和在光学功能层上形成的电极层(下面，可简称为光学功能层上的电极层)的界面的高度差(例如，在图1中以附图标记X表示的区域中的高度差)，可能会导致增加电极层的电阻。在使用所述基板而制造有机电子设备的情况下，这种电阻的增加可能会导致使施加于所述设备的电压上升，由此产生降低效率的问题。因此，考虑到这种问题，需要将在所述光学功能层上形成的电极层和在未形成有所述光学功能层的基础层上形成的电极层之间的电阻调节在适当的范围内。例如，以平行于在所述光学功能层上形成的电极层和在未形成所述光学功能层的基础层上形成的电极层的界面的方式，在所述界面两侧的规定距离形成平行电极，在所述两个平行电极之间测量的电阻率(resistivity)为：8.5Ω·cm至20Ω·cm、8.5Ω·cm至15Ω·cm、8.5Ω·cm至13Ω·cm、或9Ω·cm至12Ω·cm的程度。本说明书中使用的术语“电阻率”是指以如下方式测量的电阻值。即，首先，切割用于有机电子器件的基板而制作试样。例如，如图4所示，试样可以形成平行电极401而制作，其中平行电极401是以在光学功能层上形成的电极层1022和在未形成有光学功能层的基础层上形成的电极层1021的界面为基准，横向长度(D1+D2，D1＝D2)为3mm、纵向长度(D4)为10mm程度的平行电极401。如上所述的平行电极与待测量的电极层1021、1022相比，可以以面电阻低10倍以上的物质形成，例如，可以使用银焊膏而形成，其横向长度(D3)为约3mm或3mm以上。接着，在该平行电极401连接电阻测量仪402后，通过所述测量仪402可以测量电阻率。即，所述电阻率是，在所述平行电极401之间测量的电阻除以所述平行电极401间的宽度的数值。上述的长度方向是电流流动的方向，即为垂直于所述平行电极的长度方向的方向，宽度方向是指与所述平行电极平行的方向。另一方面，对在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述用于有机电子器件的基板包括：基础层；光学功能层，其在所述基础层上形成，并具有与所述基础层相比小的投影面积；电极层，其具有与所述光学功能层相比大的投影面积，并且均形成在所述光学功能层的上方和未形成有所述光学功能层的基础层的上方；及导电物质，其均与在所述光学功能层的上方形成的电极层和在未形成有所述光学功能层的所述基础层的上方形成的电极层电连接。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.03.23 KR 10-2012-0030249;2012.07.31 KR 10-2011.一种用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述用于有机电子器件的基板包括：基础层；光学功能层，其在所述基础层上形成，并具有与所述基础层相比小的投影面积；一个电极层，其具有与所述光学功能层相比大的投影面积，并且均形成在所述光学功能层的上方和未形成有所述光学功能层的基础层的上方；及导电物质，其均与在所述光学功能层的上方形成的电极层和在未形成有所述光学功能层的所述基础层的上方形成的电极层电连接；其中所述光学功能层由所述基础层、所述电极层、及所述导电物质密封。2.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述电极层的投影面积(A)与所述光学功能层的投影面积(B)之比值(A/B)为1.04以上。3.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述基础层具有透光性。4.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述导电物质包括选自银、铜、镍、钼、及铝中的一种以上。5.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述电极层为空穴注入电极层或电子注入电极层。6.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光学功能层是光散射层。7.根据权利要求6所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光散射层包含基体材料和光散射颗粒，所述光散射颗粒的折射率和所述基体材料的折射率不相同。8.根据权利要求7所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述基体材料包含聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亚胺。9.根据权利要求7所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光散射颗粒的折射率为1.0-3.5。10.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：金荣银，金钟硕，文英均，黄珍夏，李渊槿，朴祥准，金勇男，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR