【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种金属有机化学气相沉积装置，包括反应腔，设置于所述反应腔外的手套箱和大气‑特气缓冲室，位于所述反应腔顶部的气体喷淋组件以及与所述气体喷淋组件相对设置的基座，所述基座可以相对所述气体喷淋组件旋转，所述气体喷淋组件包括第一进气管路、第二进气管路、气体分配单元和若干板部件，所述第一、第二进气管路分别用于将第一气体和第二气体传输至所述气体分配单元，所述气体分配单元具有排气面，其特征在于，所述气体分配单元为一体成型的单层结构，所述气体分配单元包括A型气体分配腔和B型气体分配腔，所述A型气体分配腔和B型气体分配腔间隔设置，分别用于分配所述第一气体和第二气体，所述气体分配单元下部安装有所述板部件，所述板部件包括A型板部件和B型板部件，所述A型板部件与所述A型气体分配腔相对设置，所述B型板部件与所述B型气体分配腔相对设置，所述A型板部件和B型板部件具有排气孔，分别用于排出所述第一气体和第二气体，所述A形板部件和B形板部件相互拼接，并将所述气体分配单元与所述基座隔开。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马悦，奚明，萨尔瓦多，
申请(专利权)人：理想晶延半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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