尾气处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种尾气处理装置，包括壳体、进气部、排气部以及设置在所述壳体内的过滤部和支架部。所述尾气处理装置的自所述壳体的顶部指向所述壳体的底部的方向设置有过滤孔径依次增加的N个子过滤部，使得所述待处理废气在所述尾气处理装置内自底部向顶部运动的过程中，所述过滤部能够依次拦截所述待处理废气中不同粒径的固态颗粒，减小气体运行过程中的阻力，减少真空泵的能耗和维修次数，有利于提高生产效率。另外所述支架部的底部支架使所述过滤部的下端面高于所述进气口的顶端水平面，且每个子过滤部的径向尺寸与所述壳体的内径相适应，能够保证对全部所述待处理废气进行有效的过滤处理。

Tail gas treatment unit

The invention provides an exhaust gas treatment device, which comprises a shell, an air inlet part, an exhaust part and a filter part and a bracket part arranged in the shell body. In the direction from the top of the shell to the bottom of the shell, the tail gas treatment device is provided with n sub filter sections with filter apertures increasing in turn, so that in the process of the waste gas to be treated moving from the bottom to the top in the tail gas treatment device, the filter section can successively intercept the solid particles with different particle sizes in the waste gas to be treated and reduce the gas operation process It can reduce the energy consumption and maintenance times of the vacuum pump and improve the production efficiency. In addition, the bottom support of the support part makes the lower end surface of the filter part higher than the top horizontal surface of the air inlet, and the radial dimension of each sub filter part is suitable for the inner diameter of the shell, so as to ensure the effective filtering treatment of all the waste gas to be treated.

【技术实现步骤摘要】
尾气处理装置
本专利技术涉及半导体加工
，尤其涉及一种尾气处理装置。
技术介绍
在太阳能电池硅片制造过程中，以原子层沉积(AtomicLayerDeposition，ALD)工艺为例，将两种或两种以上的前驱气体在流量控制和脉冲控制下导入工艺腔，并对工艺腔内进行温度控制和压力控制，使基板的表面发生物理吸附和表面化学反应，以控制生成的功能膜，例如氧化铝或氧化硅等场效应钝化膜的厚度和均匀度，有效弥补基板表面的缺陷。然而，由于沉积反应在真空条件下进行，前驱体之间发生化学反应生成的产和副产物，以及工艺腔内的粉尘等固态颗粒会被设置在工艺腔外的真空泵抽出，未反应的前驱气体经真空泵抽出工艺腔后，由于腔外的温度和压力变化也会转变为固态颗粒。这些固态颗粒一旦进入真空泵的泵体内，会影响真空泵的使用寿命。真空泵一旦反复出现故障，停机检修不仅会增加维护成本，更重要的是会影响整个生产线的生产效率。公告号为CN104107601A的中国专利技术专利申请公开了一种颗粒收集装置，该颗粒收集装置内部设置有滤网，以拦截尾气中的固态颗粒。然而，该颗粒收集装置的各层滤网均为80目规格，一旦尾气中的固态颗粒的平均粒径分布很宽，且排放量加大，气体在真空泵的抽力作用下自下而上流经滤网的过程中遇到的阻力明显加大，从而增加真空泵的能耗，并影响真空泵的使用寿命。因此，需要开发一种新型的尾气处理装置以避免现有技术中存在的上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种尾气处理装置，以用于在有效拦截待处理废气中的固态颗粒的同时能够降低真空泵的能耗和维修次数，从而有利于提高生产效率。本专利技术的所述尾气处理装置包括壳体、进气部、排气部以及设置在所述壳体内的过滤部和支架部，所述支架部包括底部支架；所述进气部通过所述壳体侧壁的进气口与所述壳体内部相通，所述进气部贯穿所述壳体的顶部以与所述壳体内部相通；所述底部支架设置于所述壳体的底部与所述过滤部之间，以支撑所述过滤部，使所述过滤部的下端面高于所述进气口的顶端水平面；所述过滤部包括沿所述壳体的第一轴向方向依次设置，且相互平行的第一子过滤部至第N子过滤部，N为大于等于3的自然数；每个子过滤部的径向尺寸与所述壳体的内径相适应；不同子过滤部的过滤孔径沿所述壳体的第一轴向方向依次增加，所述壳体的第一轴向方向自所述壳体的顶部指向所述壳体的底部。本专利技术的所述尾气处理装置的有益效果在于：所述尾气处理装置中，所述进气部贯穿所述壳体侧壁，所述排气部贯穿所述壳体顶部，且自所述壳体的顶部指向所述壳体的底部的方向，即沿所述第一轴向方向设置有过滤孔径依次增加的N个子过滤部，使得所述待处理废气在所述尾气处理装置内自底部向顶部运动的过程中，所述过滤部能够依次拦截所述待处理废气中不同平均粒径的固态颗粒，减小气体运行过程中的阻力，从而减少真空泵的能耗以及维修次数，有利于延长真空泵的使用寿命，以提高生产效率。另外，所述底部支架部使所述过滤部的下端面高于所述进气口的顶端水平面，且每个子过滤部的径向尺寸与所述壳体的内径相适应，能够保证所述待处理废气全部流经所述过滤部，以对固态颗粒进行有效的过滤处理。优选的，所述第一子过滤部的过滤孔径为1-1.5毫米，所述第N子过滤部的过滤孔径为4-6毫米。其有益效果在于：有利于依次拦截不同平均粒径的固态颗粒，减小气体运行过程中的阻力。优选的，每个子过滤部包括相互平行，且结构相同的M层过滤网，M为大于等于1的自然数。其有益效果在于：进一步提升对固态颗粒的拦截能力。进一步优选的，所述支架部还包括支撑支架，相邻过滤网之间或相邻子过滤部之间设置有所述支撑支架。其有益效果在于：进一步加强对每个过滤网或每个子过滤部的支撑作用，从而保证气流通道的稳定。进一步优选的，每层过滤网包括复数个过滤网孔，相邻过滤网孔的最小边距为1.5-3.5毫米。更进一步优选的，复数个所述过滤网孔沿所述过滤网的中心以环形阵列或方形阵列的形式分布。优选的，所述过滤部还包括微孔滤膜，所述微孔滤膜固定连接在所述第一子过滤部的上端面，且孔径为5-10微米。其有益效果在于：进一步阻隔所述待处理废气中的粒度很小的固态颗粒，提升所述尾气处理装置的过滤能力。优选的，还包括设置在所述壳体内的提拉导向部，所述提拉导向部的固定端与所述底部支架固定连接，提拉端贯穿所述过滤部，以与所述过滤部固定连接。其有益效果在于：便于通过所述提拉导向部将所述过滤部和所述支架部一次性提出所述壳体，以快速清理拦截的固态颗粒。优选的，所述壳体包括上盖、下盖和筒体，所述上盖与所述筒体顶部之间以及所述下盖与所述筒体底部之间均通过锁紧结构可拆卸固定连接，以加强所述壳体的密封性能。进一步优选的，所述上盖与所述筒体顶部之间以及所述下盖与所述筒体底部之间均具有密封结构，以进一步加强所述壳体的密封性能。进一步优选的，所述支架部还包括顶部支架，所述顶部支架设置于所述过滤部的上端面，且高度与所述过滤部的上端面与所述上盖的下端面之间限定空间的垂直高度相适应。其有益效果在于：所述顶板支架与所述支架部共同进一步加强对所述过滤部的支撑作用。进一步优选的，所述筒体的内侧壁具有防粘结层，以避免所述固态颗粒因堆积固结而影响气体通道。更进一步优选的，所述支架部的表面或所述过滤部的表面具有所述防粘结层。优选的，所述进气部的接口端以及所述排气部的接口端还分别设置有进气转接部和排气转接部。附图说明图1为本专利技术实施例1的第一尾气处理装置的工作状态示意图；图2为本专利技术实施例2的第二尾气处理装置的剖视图；图3a为本专利技术实施例3的一种过滤网的结构示意图；图3b为本专利技术实施例3的另一种过滤网的结构示意图；图4为本专利技术实施例4的第二底部支架的结构示意图；图5为本专利技术实施例5的支撑支架的结构示意图；图6为本专利技术实施例6的第一顶部支架的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。针对现有技术存在的问题，本专利技术的实施例提供了一种尾气处理装置。图1为本专利技术实施例1的第一尾气处理装置的工作状态示意图。参照图1，第一尾气处理装置11位于工艺腔体12和集气设备13之间，进气通道14的两端分别连通所述工艺腔体12的底部和所述第一尾气处理装置11的侧壁，排气通道15分别连通所述第一尾气处理装置11的顶部和所述集气设备13内设置的真空泵(图中未标示)。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种尾气处理装置，其特征在于，用于拦截待处理废气中的固态颗粒，所述尾气处理装置包括壳体、进气部、排气部以及设置在所述壳体内的过滤部和支架部，所述支架部包括底部支架；/n所述进气部通过所述壳体侧壁的进气口与所述壳体内部相通，所述排气部贯穿所述壳体的顶部以与所述壳体内部相通；/n所述底部支架设置于所述壳体的底部与所述过滤部之间，以支撑所述过滤部，使所述过滤部的下端面高于所述进气口的顶端水平面；/n所述过滤部包括沿所述壳体的第一轴向方向依次设置，且相互平行的第一子过滤部至第N子过滤部，N为大于等于3的自然数；/n每个子过滤部的径向尺寸与所述壳体的内径相适应；/n不同子过滤部的过滤孔径沿所述壳体的第一轴向方向依次增加，所述壳体的第一轴向方向自所述壳体的顶部指向所述壳体的底部。/n

【技术特征摘要】
1.一种尾气处理装置，其特征在于，用于拦截待处理废气中的固态颗粒，所述尾气处理装置包括壳体、进气部、排气部以及设置在所述壳体内的过滤部和支架部，所述支架部包括底部支架；
所述进气部通过所述壳体侧壁的进气口与所述壳体内部相通，所述排气部贯穿所述壳体的顶部以与所述壳体内部相通；
所述底部支架设置于所述壳体的底部与所述过滤部之间，以支撑所述过滤部，使所述过滤部的下端面高于所述进气口的顶端水平面；
所述过滤部包括沿所述壳体的第一轴向方向依次设置，且相互平行的第一子过滤部至第N子过滤部，N为大于等于3的自然数；
每个子过滤部的径向尺寸与所述壳体的内径相适应；
不同子过滤部的过滤孔径沿所述壳体的第一轴向方向依次增加，所述壳体的第一轴向方向自所述壳体的顶部指向所述壳体的底部。


2.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，所述第一子过滤部的过滤孔径为1-1.5毫米，所述第N子过滤部的过滤孔径为4-6毫米。


3.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，每个所述子过滤部包括相互平行，且过滤孔径相同的M层过滤网，M为大于等于1的自然数。


4.根据权利要求3所述的尾气处理装置，其特征在于，所述支架部还包括支撑支架，相邻所述过滤网之间或相邻所述子过滤部之间设置有所述支撑支架。


5.根据权利要求3所述的尾气处理装置，其特征在于，所述过滤网包括复数个过滤网孔，相邻所述过滤网孔的最小边距为1.5-3.5毫米。


6.根据权利要求5所述的尾气处理装置，其特征在于，复数个所述过滤网孔沿所述过滤网的中心以...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡兵，王祥，
申请(专利权)人：理想晶延半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31