流延模、模头及薄膜的制造方法技术

本发明专利技术提供一种抑制在模头的基底上设置DLC膜时所产生的龟裂的流延模、模头的制造方法及薄膜制造方法。流延膜在浓液流出口具备拆装自如的模头。模头具有基底、基底层及DLC膜。由不锈钢构成基底，并由碳化钨即WC构成基底层。在基底层上形成DLC膜。形成DLC膜时，以根据由基底与基底层的热膨胀应变产生的外力所求出的作用于基底层的应力小于基底层的断裂应力的方式决定基底与基底层的线膨胀系数、模头的长边方向的长度及气相成膜法中的加热温度的组合。根据该组合来形成基底层与DLC膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流延模、模头的制造方法及薄膜的制造方法。
技术介绍
具有透光性的聚合物薄膜(以下称为薄膜)重量轻，且容易成型，因此被广泛用作光学薄膜。其中，使用纤维素酰化物等的纤维素酯系薄膜除用作照片感光用薄膜之外，还用作液晶显示装置的光学膜(偏光板保护膜或相位差膜等)。众所周知，作为制造薄膜的主要方法有溶液制膜法。溶液制膜法中，依次进行流延膜形成工序、流延膜干燥工序、剥取工序及湿润薄膜干燥工序。在流延膜形成工序中，利用流延模使包含聚合物及溶剂的聚合物溶液(以下，称为浓液(dope))流出，并在移动的支承体上形成流延膜。流延膜干燥工序中，使溶剂从流延膜蒸发或冷却流延膜，直至流延膜能够独立传送。剥取工序中，将从支承体剥离经流延膜干燥工序的流延膜以作为湿润薄膜。薄膜干燥工序中，使溶剂从湿润薄膜蒸发，以作为薄膜。流延模具有并列设置于支承体的移动方向的I对模唇板、覆盖这I对模唇板的两侧端部的I对侧板及被I对模唇板及I对侧板所包围而成的流路。在与浓液的流动方向正交的截面，形成有狭缝状的流路。狭缝形成为由向支承体的移动方向延伸的短边和向与支承体的移动方向正交的方向(宽度方向)延伸的长本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流延模，在浓液流出口具有能够分离的模头且使浓液向支承体流出，所述浓液包含聚合物及溶剂，其中，所述模头具备：不锈钢制基底；基底层，设置于所述基底之上，且所述基底层由硬质材料形成；类钻碳膜，通过气相成膜法设置于所述基底层之上；及使得σ1小于σ2的、所述基底与所述基底层的各线膨胀系数、所述模头的长边方向的长度及形成所述类钻碳膜时的加热温度的组合，其中，σ1：通过因形成所述类钻碳膜时的温度上升引起的所述基底与所述基底层的热膨胀应变而作用于所述基底层的应力；σ2：所述基底层的断裂应力。

【技术特征摘要】
2013.02.26 JP 2013-0358801.一种流延模，在浓液流出口具有能够分离的模头且使浓液向支承体流出，所述浓液包含聚合物及溶剂，其中，所述模头具备: 不镑钢制基底； 基底层，设置于所述基底之上，且所述基底层由硬质材料形成； 类钻碳膜，通过气相成膜法设置于所述基底层之上 '及 使得O 1小于σ 2的、所述基底与所述基底层的各线膨胀系数、所述模头的长边方向的长度及形成所述类钻碳膜时的加热温度的组合，其中， σ 1:通过因形成所述类钻碳膜时的温度上升引起的所述基底与所述基底层的热膨胀应变而作用于所述基底层的应力；σ 2:所述基底层的断裂应力。2.根据权利要求1所述的流延模，其中， 将作用于所述基底的压缩力设为PB，作用于所述基底层的牵引力设为PL，与所述模头的长边方向正交的截面中的所述基底层的截面积设为AL时，根据Ql=(PB-PL) / AL求出作用于所述基底层的应力σ 1。3.根据权利要求2所述的流延模，其中， 将所述模头长边方向的长度设为LY，并将与长边方向正交的截面中的最大长度设为LW时，LY ^ 50.LW，所述长度LY为1500mm以上，所述基底层的厚度为70 μ m以上130 μ m以下，所述类钻碳膜的厚度为0.7 μ m以上2 μ m以下。4.根据权利要求1~3中任一项所述的流延模，其中， 所述基底由SUS316L、SUS329J1、SUS630中的任一个形成，所述基底层由碳化钨形成。5.根据权利要求1~3中任一项所述的流延模，其中， 所述基底层与所述类钻碳膜之间的硬度差在500Hv以内。6.根据权利要求5所述的流延模，其中， 所述类钻碳膜的硬度为1300Hv以上。7.根据权利要求1~3中任一项所述的流延模，其中， 所述气相成膜法为离子蒸镀、离子电镀、等离子体气相沉积中的任一种。8.一种薄膜的制造方法，其中，具备以下步骤: 通过使浓液从...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田忠，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP