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高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷及其制备方法技术

技术编号:10335992 阅读:197 留言:0更新日期:2014-08-20 19:35
本发明专利技术公开了一种高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷,化学式为(Bi1.5Zn0.1Sr0.4)(Zn0.5Nb1.5)O7,x=0.4;采用Bi2O3、Nb2O5、SrCO3和ZnO为原料,于750℃煅烧,925~1000℃烧结,克服了现有技术温度稳定性较差的缺点,提供了一种满足NP0特性(在温度从-55℃到+125℃的范围之内,电容量温度系数(TCC)≤±30×10-6/℃)的高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷及其制备方法。本发明专利技术具有低的介质损耗tanδ≤0.0065,高的介电常数εr在140~150之间,电容量温度系数TCC在-30×10-6/℃~30×10-6/℃范围内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种以成分为特征的陶瓷组合物,特别涉及一种。
技术介绍
近年来,随着电子线路日益微型化、集成化和高频化,电子元件必须尺寸小,具有高频、高可靠、价格低廉和高集成度等特性。多层片式陶瓷电容器(MLCC)凭借其小体积、大比容、耐潮湿、长寿命、高可靠性、片式化以及适应从低频到超高频范围的集成电路的使用等优点,已成为最能适应电子技术飞速发展的元件之一。立方焦绿石Bih5ZnNbh5O7系陶瓷是以Bi2O3-ZnO-Nb2O5三元系统为基础的陶瓷介质,其具有烧结温度低、介电常数高~150)、介电损耗小等优点,并且其不与Ag内电极浆料起反应,可采用低钯含量的银钯浆料作为内电极,应用于多层片式陶瓷电容器(MLCC)的制备,并大大降低多层器件的成本。然而,材料的电容量温度系数非常低(TCC ^-400X io-6/°c),不利于实际应用。以此,调节体系的电容量温度系数,提高体系的温度稳定性,成为研究者急需解决的关键问题。
技术实现思路
本专利技术的目的,是克服体系温度稳定性较差的缺点,提供一种满足NPO特性(在温度从-55°C到+125°C的范围之内,电容量温度系数(TCC) ( ±30X10_6/°C)的高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷及 其制备方法。本专利技术通过如下技术方案予以实现。一种高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷,化学式为(Bih5ZnaiSra4) (Zna5Nb1JO7;该高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷的制备方法,具有如下步骤:(I)将原料 Bi2O3' Nb2O5' SrCO3 和 ZnO 按(Bih5ZnaiSra4) (Zna5Nbh5)O7 的化学计量比称量配料;(2)将步骤(1)配制的粉料放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨4小时;将球磨后的原料置于红外干燥箱中烘干,烘干后过40目筛,获得颗粒均匀的粉料;(3)将步骤⑵处理后的粉料于750°C煅烧,保温4小时,合成主晶相;(4)在步骤(3)煅烧处理后的粉料中外加质量百分比为0.75%的聚乙烯醇,放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨12小时,烘干后过80目筛,再用粉末压片机以2MPa的压力压成坯体;(5)将步骤(4)成型后的坯体于925~1000°C烧结,保温4小时,制成高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷;(6)测试制品的高频介电性能。所述步骤⑵与步骤(4)的烘干温度为100°C。所述步骤⑵与步骤(4)的陶瓷粉体与氧化锆球、去离子水的质量比为1:1:2。所述步骤⑷的还体为Φ IOmmX Imm的圆片。所述步骤(5)的烧结温度为975°C,保温时间为4h。本专利技术的有益效果:提供了一种高介电常数温度稳定型陶瓷电容器介质材料,制得的(Bih5ZnaiSra4) (Zna5Nbh5)O7材料,其具有较低的烧结温度为925~1000。。,低的介质损耗tan δ < 0.0065,高的介电常数ε ^在140~150之间,电容量温度系数TCC在-30 X 10-6/oC~30 X 10_6/°C范围内,符合NPO型介质材料的标准,可用于多层片式陶瓷电容器(MLCC)的制备,大大降低多层器件的成本。【具体实施方式】下面通过具体实施例对本专利技术作进一步说明,实例中所用原料均为市售分析纯试剂,具体实施例如下。实施例1(I)将原料 Bi203、Nb205、SrC03、Zn0 按(Bih5ZnaiSra4) (Zna5Nbh5)O7 的化学计量比称量配料;(2)将步骤(1)配制的粉料放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨4小时,粉体与氧化锆球、去离子水的质量比为1:1: 2;将球磨后的原料置于红外干燥箱中于100°C下烘干,烘干后过40目筛,获得颗粒均匀的粉料;(3)将步骤⑵混合均匀的粉料于750°C煅烧,保温4小时,合成主晶相;(4)在煅烧后的粉料中外加质量百分比为0.75%的聚乙烯醇,放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,粉体与氧化锆球、去离子水的质量比为1:1: 2,球磨12小时,于100°C烘干后过80目筛,再用粉末压片机以2MPa的压力压成Φ IOmmX Imm的还体;(5)将步骤(4)成型后的坯体于975°C烧结,保温4小时,制成高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷;(6)采用Agilent4278A阻抗分析仪测试其介电性能,在IMHz下,ε r =148.4,tan δ = 0.0045,TCC = 0.118 X 1(T6/°C。实施例2-4实施例2-4与实施例1的制备工艺的区别在于烧结温度的不同,其烧结温度与相应的介电性能详见表1。表1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷,化学式为(Bi1.5Zn0.1Sr0.4)(Zn0.5Nb1.5)O7,x=0;该高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷的制备方法,具有如下步骤:(1)将原料Bi2O3、Nb2O5、SrCO3和ZnO按(Bi1.5Zn0.1Sr0.4)(Zn0.5Nb1.5)O7的化学计量比称量配料;(2)将步骤(1)配制的粉料放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨4小时;将球磨后的原料置于红外干燥箱中烘干,烘干后过40目筛,获得颗粒均匀的粉料;(3)将步骤(2)处理后的粉料于750℃煅烧,保温4小时,合成主晶相;(4)在步骤(3)煅烧处理后的粉料中外加质量百分比为0.75%的聚乙烯醇,放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨12小时,烘干后过80目筛,再用粉末压片机以2MPa的压力压成坯体;(5)将步骤(4)成型后的坯体于925~1000℃烧结,保温4小时,制成高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷;(6)测试制品的高频介电性能。

【技术特征摘要】
1.一种高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷,化学式为(Bih5ZnaiSra4) (Zna5Nbh5)O7,x = 0; 该高介电常数温度稳定型高频介质陶瓷的制备方法,具有如下步骤:(1)将原料Bi2O3' Nb2O5' SrCO3 和 ZnO 按(Bih5ZnaiSra4) (Zna5Nbh5)O7 的化学计量比称量配料; (2)将步骤(1)配制的粉料放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨4小时;将球磨后的原料置于红外干燥箱中烘干,烘干后过40目筛,获得颗粒均匀的粉料; (3)将步骤(2)处理后的粉料于750°C煅烧,保温4小时,合成主晶相; (4)在步骤(3)煅烧处理后的粉料中外加质量百分比为0.75%的聚乙烯醇,放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨12小时,烘干后过80目...

【专利技术属性】
技术研发人员:李玲霞金雨馨董和磊于仕辉许丹
申请(专利权)人:天津大学
类型:发明
国别省市:天津;12

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