阵列基板制备方法和阵列基板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种阵列基板制备方法和阵列基板、显示装置，涉及显示领域，能够解决因有源层残留导致的开口率降低的技术问题。本发明专利技术的阵列基板制备方法，包括：形成栅金属层的工序，所述栅金属层包括栅线；有源层的成膜工序和信号线金属层的成膜工序，所述信号线金属层包括数据线；以及，通过半色调掩膜工艺同时形成有源层图形和信号线金属层图形的工序；在所述有源层的成膜工序之后，所述信号线金属层的成膜工序之前，还包括：通过构图工艺，将所述有源层的第一区域镂空，所述第一区域位于显示区域的数据线下方，且，所述数据线与所述栅线的交叠区域除外。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板制备方法和阵列基板、显示装置
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板制备方法和阵列基板、显示装置。
技术介绍
液晶显示器因其具有体积小、重量轻、低功耗、低电压以及无辐射等特点，已广泛替代了传统CRT显示装置，应用于在生活工作中。液晶显示器由阵列基板和彩膜基板对盒而成，如图1和图2所示，图1为现有技术中一种阵列基板的平面结构，图2为沿B-B’的剖面结构示意图，在基板7上，顺序形成有栅金属层(包括栅极和图中的栅线8)、栅绝缘层4、有源层5、信号线金属层、像素电极层、钝化层2和公共电极层，信号线金属层包括薄膜晶体管的源极、漏极和图中的数据线6，像素电极层包括图中的像素电极I，公共电极层包括图中的公共电极3。其中，形成有源层5及信号线金属层的图形时可采用半色调掩膜工艺，此过程中因有源层5和信号线金属层材料不同，刻蚀难易程度也不同，结果往往会存在有源层残留(active tail)现象。例如图2所示，显示区域数据线6下方的有源层边缘存在残留，见图中的A区域，而一般而言为避免发生短路及信号干扰等原因，像素电极I需要远离数据线6 —定距离，但因该有源层残留区域(即图中A区域)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板制备方法，包括：形成栅金属层的工序，所述栅金属层包括栅线；有源层的成膜工序和信号线金属层的成膜工序，所述信号线金属层包括数据线；以及，通过半色调掩膜工艺同时形成有源层图形和信号线金属层图形的工序；其特征在于，在所述有源层的成膜工序之后，所述信号线金属层的成膜工序之前，还包括：通过构图工艺，将所述有源层的第一区域镂空，所述第一区域位于显示区域的数据线下方，且，所述数据线与所述栅线的交叠区域除外。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板制备方法，包括:形成栅金属层的工序，所述栅金属层包括栅线；有源层的成膜工序和信号线金属层的成膜工序，所述信号线金属层包括数据线；以及，通过半色调掩膜工艺同时形成有源层图形和信号线金属层图形的工序；其特征在于，在所述有源层的成膜工序之后，所述信号线金属层的成膜工序之前，还包括: 通过构图工艺，将所述有源层的第一区域镂空， 所述第一区域位于显示区域的数据线下方，且，所述数据线与所述栅线的交叠区域除外。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括在所述栅金属层上方且所述有源层下方形成栅极绝缘层的工序； 通过所述构图工艺，除将所述有源层的所述第一区域镂空外，还将栅极绝缘层对应所述第一区域的位置镂空。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，通过所述构图工艺还同步形成栅极绝缘层通孔，所述栅极...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文余，谢振宇，郭建，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11