一种阵列基板的制备方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种阵列基板的制备方法，涉及显示技术领域，有利于提高显示装置的分辨率。该种阵列基板的制备方法，包括：形成第一绝缘层；对所述第一绝缘层的预形成过孔区域进行亲水处理，所述预形成过孔区域对应薄膜晶体管单元的漏极设置；在所述第一绝缘层之上形成彩膜，其中，亲水处理之后的预形成过孔区域无彩膜覆盖，形成贯穿所述彩膜的第一过孔。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板的制备方法
本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种阵列基板的制备方法。
技术介绍
由于近年来人们对于显示装置的透光率、分辨率、功耗等的要求越来越高，显示装置都在向着高透过率、高分辨率、低功耗等方向发展。其中，分辨率越高，使得每一个像素单元的尺寸越小，当像素单元的边长由几十微米变为十几微米时，显然，像素单元的尺寸得到了大幅度的减小，此时，若划分像素单元的黑矩阵的宽度仍然保持不变，相对于像素单元而言，黑矩阵将变得明显，将会影响显示装置的显示效果。因此,将彩色滤光片与阵列基板集成在一起的一种集成技术(Color Filter onArray，简称C0A)应运而生。由于此时黑矩阵位于阵列基板上，在适当减小黑矩阵的宽度时，也能保证黑矩阵能够充分遮挡栅线、数据线和薄膜晶体管单元等需遮光的结构，同时，减少漏光现象发生的可能性，在提高分辨率、透过率的同时又保证了显示装置的显示效果。专利技术人发现，由于在COA技术中，彩膜通常位于像素电极和薄膜晶体管的漏极之间，因此，为了实现像素电极和漏极的电连接，需要对彩膜进行构图工艺，形成过孔。但由于彩膜的材料的限制，利用构图工艺形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：形成第一绝缘层；对所述第一绝缘层的预形成过孔区域进行亲水处理，所述预形成过孔区域对应薄膜晶体管单元的漏极设置；在所述第一绝缘层之上形成彩膜，其中，亲水处理之后的预形成过孔区域无彩膜覆盖，形成贯穿所述彩膜的第一过孔。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括: 形成第一绝缘层； 对所述第一绝缘层的预形成过孔区域进行亲水处理，所述预形成过孔区域对应薄膜晶体管单元的漏极设置； 在所述第一绝缘层之上形成彩膜，其中，亲水处理之后的预形成过孔区域无彩膜覆盖，形成贯穿所述彩膜的第一过孔。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述第一绝缘层的预形成过孔区域进行亲水处理包括: 利用亲水试剂对所述彩膜的预形成过孔区域进行亲水处理，其中，所述亲水试剂为氨水(NH4OH)或双氧水(H2O2)。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一绝缘层之上形成彩膜之后，还包括: 对所述第一过孔进行灰化工艺。4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，在所述形成第一绝缘层之前，还包括: 形成薄膜晶体管单元。5.根据权利要求4任一项所述的制备方法，其特征在于，在所述第一绝缘层之上形成彩膜之后，还包括: 形成第二绝缘层； 对所述第二绝缘层进行构图工艺，形成贯穿所述第二绝缘层的第二过孔，所述第二过孔和所述第一过孔相连通； 对所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚琪，张锋，曹占锋，徐传祥，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11