一种工艺管排气装置制造方法及图纸

技术编号:10315951 阅读:98 留言:0更新日期:2014-08-13 17:28
本发明专利技术公开了一种工艺管排气装置,将半导体立式热处理设备工艺管的排气口与连通排气管路的排气管采用法兰相对接,法兰连接面之间具有间隙,并设有密封圈密封,在一侧法兰的连接面位于密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,吹气口通过法兰本体内的吹气腔道连通至吹气进气口,二侧法兰通过夹紧调节机构相固连;冷却吹扫气体经由吹气进气口、吹气腔道、吹气口进入法兰连接面之间的间隙,起到阻隔高温尾气、冷却密封圈及调节排气管内部温度和压力的作用,此外,在工艺处理前,通过气体吹扫,还可以达到净化排气管路的效果。本发明专利技术具有密封性好、提高耐温性、结构设计简单和具有可调性等显著特点。

【技术实现步骤摘要】
一种工艺管排气装置
本专利技术涉及一种半导体立式热处理设备的排气装置,更具体地,涉及一种可通过隔离高温尾气实现有效密封和降温、调节排气管路内部温度和压力并进行净化的半导体立式热处理设备的工艺管排气装置。
技术介绍
半导体立式炉热处理设备是集成电路装备的一种,可以包括中温热处理设备、高温热处理设备等。半导体立式热处理设备在对晶圆进行热处理的过程中,工艺管内的工艺尾气会经排气管路排出。因为是中高温热处理制程,所以,经由排气管路排出的尾气温度一般会在6000C以上。当工艺尾气从半导体热处理设备工艺管的排气口排出后,进入排气管,并沿排气管路经尾气冷却装置冷却后回收。由于工艺气体的尾气为特种气体,所以,对整个排气管路要求具有优异的密封性能。而由于工艺尾气的温度过高,因此,在排气管路的连接处、特别是在半导体热处理设备工艺管的排气口与排气管的连接处,需要设计既能密封又能耐高温的结构。目前,现有的工艺管排气装置在排气口与排气管的连接处,通常采用密封圈形式进行密封。而即使是性能优异的密封圈材料,其最高耐温也只能达到300°C以下。所以,单一的密封圈密封结构并不能满足实际需求。由于工艺管、排气口本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工艺管排气装置,包括半导体立式热处理设备工艺管的排气口,连接排气口的排气管,所述排气管通过排气管路连接至尾气冷却装置,所述排气口与所述排气管的连接处设有密封圈,其特征在于,所述排气口与所述排气管采用法兰相对接,排气口侧法兰与排气管侧法兰的法兰连接面之间具有一定间隙,所述法兰连接面之间通过环绕法兰圆周设置的密封圈相密封;二侧法兰中的其中一侧法兰的连接面位于所述密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,所述吹气口连通该侧法兰本体内的吹气腔道,所述吹气腔道设有通向该侧法兰本体外的吹气进气口;所述二侧法兰通过夹紧调节机构相固连;其中,可由所述吹气进气口吹入不同的冷却吹扫气体,经由所述吹气腔道、所述吹气口进...

【技术特征摘要】
1.一种工艺管排气装置,包括半导体立式热处理设备工艺管的排气口,连接排气口的排气管,所述排气管通过排气管路连接至尾气冷却装置,所述排气口与所述排气管的连接处设有密封圈,其特征在于,所述排气口与所述排气管采用法兰相对接,排气口侧法兰与排气管侧法兰的法兰连接面之间具有一定间隙,所述法兰连接面之间通过环绕法兰圆周设置的密封圈相密封;二侧法兰中的其中一侧法兰的连接面位于所述密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,所述吹气口连通该侧法兰本体内的吹气腔道,所述吹气腔道设有通向该侧法兰本体外的吹气进气口 ;所述二侧法兰通过夹紧调节机构相固连;其中,可由所述吹气进气口吹入不同的冷却吹扫气体,经由所述吹气腔道、所述吹气口进入所述二侧法兰连接面之间的所述间隙,并由所述间隙进入所述法兰内壁,沿所述排气管通过所述排气管路排向所述尾气冷却装置。2.如权利要求1所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述二侧法兰位于所述密封圈与所述法兰内壁之间靠近所述法兰内壁的连接面处具有环绕法兰圆周设置的相配合的凹凸转折面结构,所形成的所述凹凸转折面之间具有一定间隙。3.如权利要求1所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述二侧法兰中的其中一侧法兰的连接面位于所述密封圈与所述吹气口之间处环绕法兰圆周设有一圈凸起的隔档。4.如权利要求3所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述隔档的顶端与其相对侧法兰的连接面...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐冬宋新丰
申请(专利权)人:北京七星华创电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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