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本发明公开了一种工艺管排气装置,将半导体立式热处理设备工艺管的排气口与连通排气管路的排气管采用法兰相对接,法兰连接面之间具有间隙,并设有密封圈密封,在一侧法兰的连接面位于密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,吹气口通过法兰本体内的吹气腔道连通至...该专利属于北京七星华创电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京七星华创电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种工艺管排气装置,将半导体立式热处理设备工艺管的排气口与连通排气管路的排气管采用法兰相对接,法兰连接面之间具有间隙,并设有密封圈密封,在一侧法兰的连接面位于密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,吹气口通过法兰本体内的吹气腔道连通至...