一种可以提高直拉法单晶生长速度的冷却装置制造方法及图纸

技术编号:10154973 阅读:217 留言:0更新日期:2014-06-30 20:21
本实用新型专利技术公开了一种可以提高单晶生长速度的冷却装置。该装置为有锥度的筒状组合部件,由三层组成,最外层为低发射率的钼筒,中间层为内部通冷却介质的绕制铜管,铜管穿出炉外后,连接炉台冷却介质管路,最内层为铜筒。铜筒和绕制铜管之间充分焊接接触。铜筒的下端内径大于或等于导流筒的下端内径。该装置结构设计合理,铜管按照一定锥度绕制后,穿出炉外,杜绝了冷却介质在炉内泄漏的可能。导流筒可以避免熔体飞溅到冷却装置。在直拉法单晶炉热场中采用该装置,可以强化生长界面附近的晶体冷却效果,增大晶体的纵向温度梯度,从而大幅提高晶体的生长速度。达到快速生长晶体,降低晶体加工成本的目的。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种可以提高直拉法单晶生长速度的冷却装置,其安装于单晶炉内,其特征在于,该冷却装置由具有锥度的三层部件组合而成,最外层为钼筒(4),中间层为内部通冷却介质的绕制铜管(3),最内层为铜筒(2)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄小卫吴亮孟召标刘辉伍耀川陈龙
申请(专利权)人:上海涌真机械有限公司苏州协鑫工业应用研究院有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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