用于烧结碳化硅陶瓷膜的专用陶瓷材料制造技术

本发明专利技术公开了一种用于烧结碳化硅陶瓷膜的专用陶瓷材料，选用原位合成高纯6H-SiC结晶砂为原料加工而成：首先将原料粉碎整形，得到60-350微米、圆形度大于0.93的颗粒料；采用负压引风、分级自动化控制系统，再次整形后得到160-280微米、圆形度大于0.95颗粒料；利用全自动振动筛，对颗粒料进行二次分级，得到170-230微米的颗粒料；物理除磁、水洗精分后得到170-190微米、190-230微米、圆形度大于0.95的合格微粉料。采用该材料烧结的碳化硅陶瓷膜可用于多种介质的精密过滤、浓缩与气体分离；耐酸碱性好，机械强度高；具有良好的耐急热急冷性能；陶瓷膜自身清洁状态好，可适用于无菌处理操作；陶瓷膜使用寿命长，便于清洗再利用。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种用于烧结碳化硅陶瓷膜的专用陶瓷材料，选用原位合成高纯6H-SiC结晶砂为原料加工而成：首先将原料粉碎整形，得到60-350微米、圆形度大于0.93的颗粒料；采用负压引风、分级自动化控制系统，再次整形后得到160-280微米、圆形度大于0.95颗粒料；利用全自动振动筛，对颗粒料进行二次分级，得到170-230微米的颗粒料；物理除磁、水洗精分后得到170-190微米、190-230微米、圆形度大于0.95的合格微粉料。采用该材料烧结的碳化硅陶瓷膜可用于多种介质的精密过滤、浓缩与气体分离；耐酸碱性好，机械强度高；具有良好的耐急热急冷性能；陶瓷膜自身清洁状态好，可适用于无菌处理操作；陶瓷膜使用寿命长，便于清洗再利用。【专利说明】用于烧结碳化硅陶瓷膜的专用陶瓷材料
本专利技术涉及陶瓷材料，尤其是涉及一种用于烧结碳化硅陶瓷膜的专用陶瓷材料。
技术介绍
陶瓷膜也称CT膜，是固态膜的一种，具有分离效率高、效果稳定、化学稳定性好、耐酸碱、耐有机溶剂、耐高温、分离过程简单等众多优势。目前用于烧结陶瓷膜的材料种类繁多，如用于烧结过滤强酸(硫酸、硝酸、盐酸)、强碱(氢本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于烧结碳化硅陶瓷膜的专用陶瓷材料，其特征在于：包括下述加工步骤：第一步，原料选取：选用原位合成高纯6H‑SiC结晶砂为原料，所述高纯6H‑SiC结晶砂中的碳化硅含量≥99%，莫氏硬度 9.3‑9.5，韧性值≥70%；第二步，粉碎整形颗粒：将上述原料入数控球磨机进行粉碎整形：控制给料速度2000kg/h，磨体转速28r/min，研磨介质球配Φ20:Φ30＝ 8:2；粉碎整形20‑25分钟，得到D50 值60‑350微米、圆形度大于0.93的颗粒料；第三步，气流整形及一次分级：采用负压引风、分级自动化控制系统，控制给料1300kg/h，转速25‑30 r/min，引风量8000‑10000m...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨东平，
申请(专利权)人：河南晟道科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41