用于掩膜地蚀刻出一种刺穿元件的方法技术

本申请涉及一种用于掩膜蚀刻出刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：纵长延伸的杆部（16）；在远端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿着所述杆部（16）一直伸展到所述尖端（18）的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽（22）。为此，将双面的蚀刻掩膜（10）施加到基体（12）的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件地形成所述刺穿元件（14），其中给所述蚀刻掩膜（10）的槽侧面（28）配备了用于单面地蚀出所述收集槽（22）的槽蚀刻缝隙（38）。在此建议，所述槽蚀刻缝隙（38）的、远端的和/或近端的端部区段（40、60）构造为朝向缝隙端部变细的结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本申请涉及一种用于掩膜蚀刻出刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：纵长延伸的杆部（16）；在远端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿着所述杆部（16）一直伸展到所述尖端（18）的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽（22）。为此，将双面的蚀刻掩膜（10）施加到基体（12）的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件地形成所述刺穿元件（14），其中给所述蚀刻掩膜（10）的槽侧面（28）配备了用于单面地蚀出所述收集槽（22）的槽蚀刻缝隙（38）。在此建议，所述槽蚀刻缝隙（38）的、远端的和/或近端的端部区段（40、60）构造为朝向缝隙端部变细的结构。【专利说明】本专利技术涉及一种，所述刺穿元件具有:纵长延伸的杆部；远端地伸出的尖端；近端的保持件；以及沿着所述杆部一直伸展到所述尖端的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽，其中分别将双侧面的蚀刻掩膜的一侧面施加到基体的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件来形成所述刺穿元件，其中给所述蚀刻掩膜的槽侧面配备了用于单面地蚀刻出所述收集槽的槽蚀刻缝隙。此外，本专利技术涉及一种相应地制造的刺穿元件。在WO 2006/066744 Al中建议了一种这样的蚀刻方法，用于提供一次性的刺穿元件，所述刺穿元件则用来提取像比如为了现场的血糖测定而作为毛细血液从皮肤刺孔中提取的那样的较小的试样量。不过，在那里设置了用于正面敞开的并且在近端封闭的毛细孔槽的蚀刻掩膜布置结构，其中刺尖在背向所述槽的背面上在远端伸出。在这种情况中也成问题的是，在刺入过程中避免通过在正面伸出的槽壁引起的干扰轮廓。以此为出发点，本专利技术的任务是，进一步地对于在现有技术中知道的蚀刻方法以及用其制造出来的刺穿元件进行优化，并且在所集成的诊断的系统中在取样或者转交试样方面对其进行改进。为了解决该任务，建议了在独立权利要求中所说明的特征组合。本专利技术的有利的设计方案及改进方案由从属权利要求中获得。本专利技术以以下构思为出发点:在端面对于用于取样及试样转交的收集槽进行优化。相应地，按照本专利技术建议，将所述槽蚀刻缝隙的近端的和/或远端的端部区段构造为朝向缝隙端部变细的结构。由此，一方面可以保证，在蚀刻过程中在前面的、远端的尖端区域中槽横截面变细或者至少保持相同，并且没有由于蚀刻剂的、在槽末端上的流动过程而出现骨头状的扩展现象。即使对于在所述尖端区域中的液体获取来说首先可以将这样的“骨头形成现象”分级为不危险，但是这在所述尖端的区域中可能由于材料厚度的降低而导致蚀穿(Durchjitzen)。相应地,所述收集槽可能不能向前引导得较远，并且在尖端与槽末端之间的、扩大的间距必定会导致更深的刺入深度以及由此提高了的疼痛感。为了降低刺入深度、并且保证最佳的试样或者血液获取，因此决定性的是，毛细孔槽在所述刺入过程中在皮肤下面已经与血液或者组织液体相接触。这样的蚀刻件设计方案通过一种蚀刻掩膜来实现，所述蚀刻掩膜的槽蚀刻缝隙一直引导到所述远端的尖端区域中并且在那附近变细。另一方面，通过在近端的端部上的蚀刻缝隙变细来实现这一点:所蚀刻出来的收集槽在后面的端部上以保持相同的或者甚至减小的毛细管直径来结束，从而没有像在通过常见的蚀刻方法来产生毛细管扩展时不可避免的那样提前中断毛细管输送过程。一种有利的设计方案规定，所述槽蚀刻缝隙的端部区段线性地变细，使得所蚀出的收集槽朝向变细部的方向以保持相同的或者连续减小的横截面伸展。为了支持毛细活性的试样转移，有利的是，所述槽蚀刻缝隙如此定位在所述蚀刻掩膜的近端的部分中，使得所蚀出的收集槽在端面敞开地汇入在所述保持件上。关于在所集成的测试配置中的试样处理方面的进一步的改进能够通过以下方式来实现:给所述蚀刻掩膜配备朝近端的方向连接到所述槽蚀刻缝隙上的法兰形成区域，并且通过对于法兰形成区域的掏蚀(Untedtzen)来产生尤其是用于将测试元件用法兰连接在所述保持件上的、形成了所述收集槽的汇入处的、优选笔直的法兰边缘。为了平坦地限制所述汇入处，有利的是，所述法兰形成区域具有横向于所述槽蚀刻缝隙地越过其近端的缝隙端部伸展的掩膜桥。一种关于所述保持件的所定义的设计方案的、进一步的改进方案规定，给所述蚀刻掩膜配备一种以近端的间距布置在所述槽蚀刻缝隙后面的、用于在所述收集槽的汇入区域中将蚀刻剂的作用遮蔽住的牺牲性突缘。为了对于掩膜边缘后面的半空间进行径向的遮蔽，有利的是，所述在掩膜边缘上自由地伸出的牺牲性突缘在背向所述槽蚀刻缝隙近端缝隙端部的边沿区域中弓形地、尤其是圆弧形地受到限制。在这种情况中，应该如此使所述牺牲性突缘的尺寸与所述蚀刻剂的掏蚀宽度相匹配，从而完全地蚀刻除去所述牺牲性突缘一直到其近端的基础。原则上也可以设想所述牺牲性突缘的其它几何形状，比如矩形或者三角形，用于提供进行遮蔽的表面，所述进行遮蔽的表面拥有合适的边缘间距以及一定的伸展度，用于防止所述收集槽的汇入区域受到蚀刻介质的影响。另一种优选的实施方式规定，在两个基体侧面上面给所述蚀刻掩膜配备了用于构成尖端轮廓的尖端形成区域，其中所述槽侧面的尖端形成区域在远端布置在所述处于相反侧面上的尖端形成区域的前面。通过这种方式，在所述尖端的区域中也有足够的基体材料供给尽可能往前拉的收集槽所使用，而切割作用没有通过在所述相反侧面上的干扰轮廓受到阻碍。为了进一步减少可能的干扰轮廓，有利的是，所述蚀刻掩膜在其背向所述槽蚀刻缝隙的相反侧面上具有尤其是为了在所述尖端的区域中避免侧凹的边缘的辅助开口。所述辅助开口有利地在所述蚀刻掩膜的尖端形成区域中相对于掩膜边缘以侧向的间距来布置。在这方面，特别有利的是，所述辅助开口具有两条朝着远端的方向V形地朝彼此靠近的辅助开口侧腿以及一个朝远端的方向越过所述辅助开口侧腿延伸的、优选构造为缝隙或者系列孔的、远端的辅助开口突缘。`为了避免倒钩或者不受欢迎的隆起，所述辅助开口突缘的端部朝近端的方向看应该处于有待形成的尖端的、远端的端部之后。因此有利的是，所述辅助开口构造为Y形，其中离开所述有待形成的尖端轮廓以一种远端的间距来布置所述朝彼此靠近的开口侧腿。对于已经在皮肤中进行的取样来说，特别有利的是，所述槽蚀刻缝隙如此远地延伸到所述蚀刻掩膜的、远端的尖端形成区域中，使得所述收集槽以50到ΙΟΟΟμπκ优选150到400 μ m的间距在所述尖端的、远端的端部之前终止。另一种有利的设计方案规定，将所述槽蚀刻缝隙的、变细的端部区段在处于100与300 μ m之间的范围内的长度范围上在宽度方面朝向较钝的端部边缘降低了其开始宽度的0.4到0.6倍。另一个专利技术方面涉及一种刺穿元件，该刺穿元件具有:纵长延伸的杆部；在远端伸出的尖端；近端的保持件；以及沿着所述杆部一直伸展到所述尖端的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽，其中所述收集槽在至少一个端部区段上以连续减小的横截面伸展，并且通过一种尤其是按照前述权利要求中任一项所述的掩膜蚀刻方法来形成。下面借助于在附图中示意性地示出的实施例来对于本专利技术进行详细解释。附图示出: 图1是用于制造设有收集槽的刺穿元件的蚀刻掩膜的远端的、槽侧面的掩膜区段的俯视图； 图2是所述刺穿元件的、利用按照图1的掩膜区段所产生的区域； 图3是远端的、背侧面的、掩膜区段的、与图1相对应的图本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于掩膜蚀刻出一种刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：纵长延伸的杆部（16）；在远端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿着所述杆部（16）一直伸展到所述尖端（18）的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽（22），其中将双侧面的蚀刻掩膜（10）施加到基体（12）的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件地形成所述刺穿元件（14），其中给所述蚀刻掩膜（10）的槽侧面（28）配备了用于单面地蚀刻出所述收集槽（22）的槽蚀刻缝隙（38），其特征在于，所述槽蚀刻缝隙（38）的、近端的和/或远端的端部区段（40、60）构造为朝向缝隙端部变细的结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：M齐普费尔，A洛佩斯姆拉斯，
申请(专利权)人：霍夫曼拉罗奇有限公司，
类型：
国别省市：