烧穿制剂制造技术

对于太阳能电池制造，向可印刷介质添加前体以辅助蚀刻穿过氮化硅或氧化硅层，从而得到与在氮化物或氧化物层之下的基材的接触。蚀刻机制可能是通过原位形成的熔融的陶瓷、基于氟化物的蚀刻和两者的结合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本申请要求美国专利临时申请系列61／484,039号和美国实用申请系列13／465,244号的优先权，其通过引用纳入本文。
本专利技术涉及用于太阳能电池的金属化的油墨和糊料制剂，其中采用“烧穿”(例如，渗透通过如氮化硅层)与下面的材料接触。背景和概述可以在硅和其他基材上制造氮化硅或氧化硅层。这些层可以作为减反射、钝化或电绝缘层。通过设计，氮化物层和氧化物层对于材料扩散是高度抵抗的并且对于大多数反应也是耐化学性的。当需要形成与在这样的层之下的基材的直接接触时，这样的层存在障碍。在一些情况下，需要以需要的图案选择性地蚀刻所述的这些不可渗透的层的特定区域，同时保持其余的涂层完整。图案蚀刻的一般方法是使用光刻胶层或保护性掩模的激光烧蚀和化学蚀刻。激光烧蚀使用聚焦的激光和循迹反光镜(tracking mirror)以从表面有效去除氮化硅层。激光功率和波长的调节使得能够选择性地仅去除硅顶部上的氮化物层或氧化物层。化学蚀刻是另一种用于去除表面涂层的方法。考虑使用含有金属的油墨本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括金属颗粒、溶剂、分散剂和低熔点陶瓷前体的油墨。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.05.09 US 61/484,039;2012.05.07 US 13/465,2441.一种包括金属颗粒、溶剂、分散剂和低熔点陶瓷前体的油墨。
2.如权利要求1所述的油墨，其特征在于，所述低熔点陶瓷前体在加热
后形成陶瓷，其中所述陶瓷与氮化硅反应使得金属颗粒扩散经过氮化硅。
3.如权利要求1所述的油墨，其特征在于，所述陶瓷前体的组分选自氧
化物、氢氧化物和氟化物。
4.如权利要求3所述的油墨，其特征在于，所述氧化物、氢氧化物和氟
化物选自硅、硼、磷、铋、锌、铅、锡、锑、砷、铈、铜、银、铟、铍、钒、
钍和镉。
5.如权利要求1所述的油墨，其特征在于，所述低熔点陶瓷前体配置成
使得当在升高的温度下处理后形成氧化物、氢氧化物或氟化物。
6.如权利要求5所述的油墨，其特征在于，所述前体的原子通过共价键、
配位键或盐与其他原子连接。
7.如权利要求6所述的油墨，其特征在于，所述陶瓷前体选自苯基硼酸、
硼酸三异丙酯、二苯基硼酸、硼酸、氧化二丁基锡、Zn-EDTA络合物、乙酰
丙酮酸铅、氟化铍、氯化锌、乙酸铅和四氟硼酸四乙基铵。...

【专利技术属性】
技术研发人员：O·阿拜德，李运钧，J·P·诺瓦克，S·金，P·弗格森，
申请(专利权)人：应用纳米技术控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US