株式会社SK电子专利技术

株式会社SK电子共有26项专利

  • 本发明提供光掩模及其制造方法。光掩模(100)的制造方法具有:在透明基片(1)形成相移膜(2)、蚀刻阻挡膜(3)和上层膜(4)的工序;形成抗蚀剂图案(5a)的工序;以抗蚀剂图案(5a)为掩模有选择地对上层膜(4)进行蚀刻的第1蚀刻工序;...
  • 本发明的课题在于提供一种光掩模的制造方法以及光掩模,该制造方法能够实现光掩模的高精细化以及能够形成的图案形状的多样化两者。本发明的光掩模的制造方法的要点在于,在构图工序中,形成第一次抗蚀剂图案,第一次抗蚀剂图案的一部分具有曝光量不同的区...
  • 本发明提供一种FPD用光掩模,其以合适的形态形成用于保证二维地排列的各单位图案的位置精度的位置测量用标记。FPD用光掩模(1)具备:图案形成区域(1A),由多个单位图案形成区域(1Aa)、
  • 本发明的课题在于提供一种在光掩模的制造时容易进行图案的尺寸控制,能够在光掩模中提高图案的尺寸精度的光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法。该光掩模坯的制造方法用于制造将透明基板(3)的表面划分为第一图案区域和第二图案区域,在第一图案区域...
  • 本发明提供一种光掩模和光掩模的制造方法,具有半透光图案的光掩模能够在光刻步骤中有效地降低来自光掩模的曝光光线的反射。本发明的光掩模,在透明基板(1)上具有由半透光膜(6)构成的半透光图案(6a),和由第1反射抑制膜(2)、遮光膜(3)以...
  • 本发明的目的在于一次进行大规模的图案修正。本发明的一个方式的图案修正方法是对于通过包含第一材料的第一遮光膜(11)已经形成有图案的光掩模(10)新修正图案的图案修正方法,包括:成膜工序,将包含与所述第一材料不同的第二材料的第二遮光膜(2...
  • 本发明的目的在于提供一种能够搬运的抗癌剂容器,其用于防止在进行使用清洗液的系统清洗时,由于因拆下连接器的操作产生的药液漏出而对人体的暴露、感染。提供一种带防药剂暴露功能的加压式药品注入器,其包括系统清洗功能,该带防药剂暴露功能的加压式药...
  • 本发明提供能够无需对准的多色调光掩模的制造方法及多色调光掩模。多色调光掩模的制造方法包括:准备中间体的工序,中间体由下列层叠膜结构构成,即中间体具有:在透明基板2上层叠的半透膜3;具有与半透膜3不同的蚀刻特性、以在半透膜3上重合的方式进...
  • 本发明的目的在于使感光性抗蚀剂从中央向外侧缓缓地倾斜。光掩模(1A)在透明基板上具有多个图案形成区域A和透光部(7),所述多个图案形成区域(A)通过所述半透过膜的图案与遮光膜的图案以部分重叠的方式层叠而形成且具有规定的形状,所述透光部(...
  • 本发明提供一种具备IC芯片的非接触信息载体,所述IC芯片具有电特性良好的片上天线。所述非接触信息载体是在IC芯片上具备螺旋布线的非接触信息介质,在具有第1电极及第2电极的IC芯片上具有螺旋布线,该螺旋布线具有与第1电极及第2电极电连接的...
  • 本发明提供能够将微细的孔图案稳定地析像的光掩模。本光掩模具备露出透过性基板的透过部、以及以包围透过部的方式将曝光光的相位反转的第一相移部和第二相移部。第二相移部介于第一相移部与透过部之间,第二相移部对曝光光的透射率比第一相移部的透射率低...
  • 本发明的课题在于提供良好地修正相移光掩模的相移膜的白缺陷的方法。本发明的光掩模的修正方法,其是具备由相移膜构成的相移图案的光掩模的修正方法,包括:取得修正膜的光学特性的膜厚依赖性的步骤;为了使得从由修正膜构成的图案和相移图案转印的光致抗...
  • 本发明提供一种能够以抑制曝光时的重合误差的产生的方式形成具有不同光学特性的图案的光掩模的制造方法。在该光掩模的制造方法中,准备在透射性基片上具有半透射膜、中间膜、上层膜的光掩模坯件,对形成在上层膜上的光致抗蚀剂膜进行曝光,形成曝光量不同...
  • 本发明的课题在于提供一种能够以简单的结构谋求天线效率提高的RFID标签。具有:用于与读写器进行信号的收发的天线(3);和连接有该天线(3)的IC芯片(1),在与形成有天线(3)的绝缘层上的外周端缘相比的内侧部分具有多个连接端子(5A、5...
  • 本发明提供能够稳定地解像微细的孔图案的光掩模。该光掩模具备:露出透过性基板的透过部;以及包围透过部的、将曝光光的相位反转的第1相移部和第2相移部。第2相移部介于第1相移部与透过部之间,第2相移部对曝光光的透射率比第1相移部的透射率低。另...
  • 本发明的课题是提供可进行极高精度的缺陷修正的半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法,以及缺陷被极高精度地修正的半色调掩模。本发明的半色调掩模的缺陷修正方法通过在半透射部3的缺陷修正对象区域5形成修正膜10,从而修正在半透射部3产...
  • 本发明为LC共振天线,所述LC共振天线具备:电感器层,其设有线圈状的电感器;电容器层,其在该电感器的线圈中心的轴线方向上层叠于该电感器层,在所述电容器层上设有与所述电感器连接的电容器,该电容器具备一对电极板,该一对电极板以在所述层叠方向...
  • 本发明为LC共振天线,具有:电感器层,其设有线圈状的电感器;电容器层,其设有电容器且层叠于该电感器层,所述电容器具有多个电极板,该多个电极板在所述电感器层与所述电容器层的层叠方向上与所述电感器排列、且在与该层叠方向正交的面方向上扩展,所...
  • 本发明的课题在于提供一种能够兼顾图案细微化和多灰阶的半色调掩模。其解决手段在于在透明基板上具有:包括第一半透膜的第一半透过区域;包括上述第一半透膜与第二半透膜的叠层的第二半透过区域;透明区域;以及第一半透过区域与第二半透过区域邻接的区域...
  • 本发明提供一种能够曝光细微光致抗蚀剂图案的多灰阶半色调掩模。其解决方法在于,在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部,相位偏移膜使曝光光的相位反转,相位偏移膜的透过率低于半透膜的透过率。并且,在...