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株式会社SK电子专利技术
株式会社SK电子共有26项专利
RFID标签制造技术
本发明的课题在于提供一种能够以简单的结构谋求天线效率提高的RFID标签。具有:用于与读写器进行信号的收发的天线(3);和连接有该天线(3)的IC芯片(1),在与形成有天线(3)的绝缘层上的外周端缘相比的内侧部分具有多个连接端子(5A、5...
光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法技术
提供能够兼顾图案的细微化和多灰阶的半色调掩模。在透明基板上具有相移膜和半透膜的层叠区域、以及由曝光光的光透过率比上述层叠区域高的半透膜构成的半透过区域,上述层叠区域具有与上述半透过区域和/或露出透明基板的透明区域接触的边界部,上述相移膜...
相移掩模的缺陷修正方法技术
本发明提供一种相移掩模的缺陷修正方法,其特征在于包括以下步骤:第一步骤(S1),针对在透明基板上具有由相移膜形成的、包含缺损部的图案的光掩模基板,测定缺损部的位置和尺寸;第二步骤(S2),判断所述相移膜上的所述缺损部的尺寸是否为1.0μ...
半色调掩模和半色调掩模坯制造技术
在现有的多灰阶的半色调掩模中,利用缺陷检查装置检测半透膜上形成的针孔缺陷,并进行修正,因此难以对于例如检测极限以下的细微的针孔缺陷进行修复。本发明提供一种半色调掩模,通过将半色调掩模的半透膜相对于透明基板的相位差设为60度~90度、相对...
光掩模坯料和光掩模组制造技术
本实用新型提供能够降低半色调掩模重合误差的光掩模坯料和光掩模组。本实用新型提供一种在四边形的4个顶点具备对准图形且关联有各对准图形的坐标位置的数据信息的光掩模坯料,通过参照上述坐标位置的数据信息修正形成于所述光掩模坯料上的转印图形,能够...
多调光掩模及其修正方法技术
本发明涉及多调光掩模及其修正方法。在多调光掩模的修正工序中,在必要的范围防止形成修正半透膜时可能发生的透过率的异常部的产生。本发明的多调光掩模(10)是在透明基板上设有透光部、遮光部、半透光部。其中,半透光部由半透膜图形(4a)形成。该...
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