表面等离子体微纳结构成形方法：（１）根据需要选择腐蚀材料作为基底；（２）在基底材料表面蒸镀一层金属掩蔽膜层；（３）在金属膜层材料表面涂光刻胶，并根据目标结构中的线条分布情况，采用光刻工艺使光刻胶和金属膜层图形化；（４）将带有图形化的金属...

一种透射式金属光栅，包括金属基板、金属基板上下表面的光栅亮条纹和金属基板上的暗条纹，光栅亮条纹为金属基板上的缝隙，其透光率为１００％，暗条纹为金属基板本身，不透光；金属基板为不锈钢、铜、铝的薄片或金属尺；透射式金属光栅的制造方法是：先对...

多层膜反射式高精度金属圆光栅，其特征在于：包括金属基板，在金属基板上蒸镀至少４层膜的膜层，其膜层顺序为介质膜、亮线条、介质膜、暗线条，其制作方法如下：（１）光栅金属基坯材料，如不锈钢、钛合金等抗腐蚀性好的材料经失效、粗磨、光学抛光至金属...

移动灰阶掩模微纳结构成形方法，根据所制作的微浮雕结构进行编码设计光刻掩模，利用编码掩模对所有通光面积内的曝光量分布进行调制，其次需要在曝光过程中移动掩模，使每个灰度单元对其覆盖的面积及周边面积进行局部曝光量匀滑调制，从而使元件达到理想的...

一种二维扫描精密激光曝光系统，由圆刻机工作台、被刻码盘、激光器、掩模、摆动扫描系统、精密激光步进台、掩模抬起机构及计算机控制系统组成，激光器作为光源，光束整形后投射到摆动扫描系统上，计算机控制系统经过控制摆动扫描系统和精密激光步进台的运...

个性化隐形眼镜定制设备由均匀照明系统、灰度图像生成系统、投影光学系统、工件台系统和对准系统组成，均匀照明系统产生经过均匀的平行照明光，该光束通过灰度图像生产系统，根据人眼的像差检查的结果，通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像，再通过...

ＳＵ－８环氧树脂的分离方法，其特征在于步骤如下：　　　　（１）首先采用柱层析法分离ＳＵ－８环氧树脂，得到不同组成成分；　　　　（２）再利用高压液相色谱－尺寸排阻色谱法进一步表征步骤（１）分离得到的不同组分的分子量分布。

光刻定位自组装填充方法，其特征在于包括下列步骤：（１）设计列阵型微区掩模，根据设计结果采用激光直写机制作出列阵型微区掩模板，每个微区均用坐标值定位；（２）选取镀铬玻璃板作为基底材料，应用曝光、显影、溶液腐蚀等微细加工的方法把定位微区掩模...

大面积微纳结构软压印方法：首先采用光刻方法在硬质基底表面加工需要微纳图形结构，在加工完成的硬质模板表面涂预聚的有机材料ＰＤＭＳ，完成软质模板的制作；将软质模板的非图形面黏附于经过双面抛平的基片表面，并滴加有机材料抗蚀剂进行旋涂，旋涂后从...

微纳结构压印复制用紫外光固化自由基型刻蚀胶，其特征在于：是一种可以吸收紫外光，并获得光子能量来引发溶液固化的溶液，包含下列组份和质量百分比：　　　　双酚Ａ环氧丙烯酸酯或酚醛环氧丙烯酸酯的固化主体１∶２４－４８％；　　　　三丙二醇类丙烯酸...

一种用于大面积微纳结构制作的装置，其特征在于：反射镜和样品台互相垂直并固定在精密转台上，入射激光束同时照射在反射镜和样品台上，反射光和部分入射光在样品区域形成干涉。主要包括相干光源、快门、空间滤波器、光阑、样品台、反射镜、精密转台、二维...

一种位相共轭成像光刻系统包括：激光器、第一分光镜、第二分光镜、反射镜、第一扩束镜、第二扩束镜、第三扩束镜、非线性介质、对称分光棱镜、掩膜和硅片，激光器发出的光经第一分光镜分成两路：一路经第二分光镜后又分成两路，其中一路经过第一扩束镜扩束...

一种基于负折射率透镜的亚波长连续面形微结构制备方法：（１）对目标结构进行量化分解，并制作图形特征尺寸为纳米量级的半色调光刻掩模；（２）在基片表面涂覆光刻胶，然后在光刻剂的基片表面涂覆间隔层，再在间隔层表面蒸镀厚度１０ｎｍ－１２０ｎｍ左右...

本发明提供了一种具有反射式光学系统的亚波长光刻方法和系统，利用反射镜阵列汇聚光束，运用光束相干叠加技术，通过调整多相干光的参数（振幅、相位、偏振等）实现亚波长的光学聚焦，并利用聚焦光斑进行光刻。系统包括激光器、激光能量调节装置、光分束装...

一种基于ＰＤＭＳ模板和银板材料的超分辨光刻方法：在基底表面蒸镀与基底黏结能力较弱的金属膜层，并在其表面制作目标微纳结构；将ＰＤＭＳ与固化剂进行混合，并浇铸于金属膜层表面；在２５－９５℃的环境中固化，形成弹性膜；掀起ＰＤＭＳ膜，去除黏附在...

一种基于微透镜阵列的连续面形微结构成形方法，其特征在于步骤如下：　　　　（１）在基底表面涂覆光刻胶；　　　　（２）将基底的光刻胶面和掩模图形分别放置于微透镜阵列的像面和物面处；　　　　（３）在掩模图形上方放置毛玻璃，并利用光源照射毛玻璃...

一种利用金属层缩小π位相偏移光刻特征尺寸的方法：依据ＰＤＭＳ的折射率计算产生π位相光程差需要的深度Ｈ；制作浮雕深度为Ｈ的高陡直度结构；将ＰＤＭＳ倾倒于高陡直度结构表面，在３０－９０℃的环境中固化，冷却后，剥离已经固化的ＰＤＭＳ膜，形成π...

一种基于干法刻蚀负载效应的亚波长连续面形微结构制备方法，（１）首先选择基底材料，然后对干法刻蚀设备进行标定，建立缝宽与刻蚀速率的关系；（２）依据标定的结果，设计与目标结构相应的干法刻蚀掩模图形，并在基底表面制作金属材质的干法刻蚀掩模图形...

一种基于金属局域化效应的光刻方法：（１）首先在玻璃表面制作金属结构；（２）将ＰＤＭＳ预聚物倾倒于金属结构表面，并在３０℃－９０℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固化的ＰＤＭＳ膜和金属结构从玻璃表面掀起，金属结构将嵌套于ＰＤＭＳ材料之...

一种成形微透镜列阵结构的方法，其步骤为：（１）选择基底，在其表面涂布抗蚀剂层；（２）将涂有抗蚀剂层的基底进行前烘处理；（３）对三维微透镜列阵目标面形进行抽样，设计掩模；（４）采用上述设计的掩模，进行曝光；（５）将曝光后的基底进行显影和后...