昭和电工株式会社专利技术

昭和电工株式会社共有2541项专利

  • 提供不使用等离子体就能够相对于特定的非蚀刻对象物选择性地对蚀刻对象物进行蚀刻的蚀刻方法,蚀刻对象物含有硅化合物,硅化合物具有氮原子和氧原子中的至少一者以及硅原子。一种蚀刻方法,具备蚀刻工序,蚀刻工序在等离子体不存在的条件下使含有氟气的蚀...
  • 磁传感器具备非磁性的基板和感应元件31,所述感应元件31具有长边方向和短边方向,在与长边方向交叉的方向上具有单轴磁各向异性,并通过磁阻抗效应来感应磁场,感应元件31具有多个软磁体层105a~105d、和由非磁体构成且层叠于多个软磁体层1...
  • 提供一种氮化硅膜的蚀刻速度大的等离子体蚀刻方法。一种等离子体蚀刻方法,具备:使用将含有七氟化碘的蚀刻气体等离子体化而得到的等离子体,来蚀刻形成于基板(20)上的氮化硅膜的蚀刻工序。膜的蚀刻工序。膜的蚀刻工序。
  • 提供一种五氟化溴的制造方法,能够制造残存的未反应的氟气量少且高纯度的五氟化溴。一种五氟化溴的制造方法,具有反应工序和分离工序,反应工序以氟原子和溴原子的摩尔比F/Br为3.0以上且4.7以下的方式向反应器(1)内供给含溴化合物和氟气,进...
  • 提供一种烯烃回收方法,所述烯烃回收方法在通过变压吸附法从以烯烃为原料的化学反应工艺流中回收未反应的烯烃的方法中,可以在较高的脱附操作压力、更优选常压以上的压力下脱附气体而将分离剂再利用。所述烯烃回收方法使用金属络合物作为分离剂,就该金属...
  • 提供能够抑制由雾引起的配管、阀的堵塞的氟气制造装置。氟气制造装置的流路具有经由从流体除去雾的雾除去部而从电解槽的内部向氟气分选部输送流体的第1流路和以不经由雾除去部的方式从电解槽的内部向氟气分选部输送流体的第2流路,并且具有根据由平均粒...
  • 提供能够将副生氟化氢作为由电解法制造氟气的原料再利用的氟气制造方法,副生氟化氢是使氟气与原料化合物反应氟化而制造目标成分的氟化物时附带生成的。氟气制造方法具备氟化工序、分离工序、提纯工序、电解工序和导入工序,氟化工序得到含有原料化合物氟...
  • 提供能够抑制由雾引起的配管、阀的堵塞的氟气的制造方法。通过以下方法来制造氟气,该方法包括:电解工序,在电解槽内进行电解液的电解;平均粒径测定工序,测定在电解液的电解时在电解槽的内部产生的流体中包含的雾的平均粒径;及送气工序,从电解槽的内...
  • 提供能够不用将腔室拆卸就除去在腔室的内表面或与腔室连接的配管的内表面上附着的含硒附着物的附着物除去方法和成膜方法。通过使在腔室(10)的内表面和与腔室(10)连接的排气用配管(15)的内表面中的至少一者上附着的含硒附着物,与含有含氟化合...
  • 本发明的一实施方式涉及氯丁二烯共聚物胶乳、氯丁二烯共聚物胶乳的制造方法、氯丁二烯共聚物胶乳组合物、氯丁二烯共聚物橡胶成型物或浸渍制品,该氯丁二烯共聚物胶乳含有源自2
  • 本发明提供一种图像分析装置,其使判定对象物的图像中含有的各粒子时的判定精度提高。本发明的一个实施方式的图像分析装置具有形状判定部,其对自对象物的图像抽出的粒子图像的各粒子的形状进行判定,获得满足关于规定的形状的基准的OK粒子的OK粒子图...
  • 本发明提供可以抑制显影工序中的被膜剥落的、含有着色剂的高灵敏度的感光性树脂组合物。一实施方案的感光性树脂组合物包含粘合剂树脂(A)、具有三嗪环且由式(1)表示的化合物(B)、放射线敏感化合物(C)、和选自黑色染料和黑色颜料中的着色剂(D...
  • 提供耐蚀性被膜即使经受热履历也难以从基材剥离的耐蚀性构件。一种耐蚀性构件,具备:金属制的基材(10)、形成于基材(10)的表面的耐蚀性被膜(30)以及形成于基材(10)与耐蚀性被膜(30)之间的缓冲层(20)。基材(10)含有:在基材(...
  • 提供附着物除去方法及成膜方法,能够将附着于腔室的内表面或连接于腔室的配管的内表面的含有硒的附着物以不将腔室拆开的方式进行除去。通过使附着于腔室(10)的内表面及连接于腔室(10)的排气用配管(15)的内表面中的至少一方的含有硒的附着物与...
  • 提供能够抑制由雾导致的配管、阀的堵塞的氟气的制造方法。通过包括电解工序、水分浓度测定工序以及送气工序的方法制造氟气,电解工序在电解槽内进行电解液的电解,水分浓度测定工序对电解时在阴极室所产生的流体中的水分浓度进行测定,送气工序从电解槽的...
  • 提供一种氟气的制造方法,其能够抑制由雾导致的配管、阀的堵塞。采用具备在电解槽内进行电解液的电解的电解工序、测定电解中生成氟气的电流效率的电流效率测定工序、以及将电解液的电解时在电解槽的内部产生的流体从电解槽的内部经由流路向外部输送的送气...
  • 本发明目的在于提供一种氯丁二烯系聚合物胶乳的制造方法,其可以在抑制凝聚物从氯丁二烯系聚合物胶乳析出的同时,有效地除去残留挥发性有机物质。本发明的氯丁二烯系聚合物胶乳的制造方法,在通过挥发来除去所述胶乳中含有的残留挥发性有机物质时,在比饱...
  • 本发明提供一种在700℃的温度区域稳定地保持反应性优异的锐钛矿型的晶相,并且为微粒且具有均匀的粒度分布的高耐热性锐钛矿型氧化钛。本发明的高耐热性锐钛矿型氧化钛,其具有全部晶相中的锐钛矿晶相的含有率为85%以上的氧化钛粒子、和前述设置于氧...
  • 提供能够有效率地将N
  • 提供能够有效率地将N