【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁传感器
[0001]本专利技术涉及磁传感器。
技术介绍
[0002]作为公报中记载的现有技术,存在下述磁阻抗效应元件,其具备:薄膜磁铁,其形成于非磁性基板上,并且由硬磁体膜形成;绝缘层,其将前述薄膜磁铁的上部覆盖;和感磁部,其形成于前述绝缘层上,被赋予了单轴各向异性,并且由一个或多个长方形的软磁体膜形成(参见专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特开2008
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249406号公报
技术实现思路
[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]在使用具有软磁体层的感应元件作为磁阻抗效应元件的磁传感器中,根据感应元件的层叠结构的不同,有时来自磁传感器的输出中的信号(Signal)与噪声(Noise)之比即SN比降低。
[0008]本专利技术的目的是抑制利用了磁阻抗效应的磁传感器的输出中的SN比的降低。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]应用了本专利技术的磁传感器具备非磁性的基 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.磁传感器,其具备:非磁性的基板;和感应元件,所述感应元件具有长边方向和短边方向,在与该长边方向交叉的方向上具有单轴磁各向异性,并通过磁阻抗效应来感应磁场,所述感应元件具有多个软磁体层、和由非磁体构成且层叠于多个该软磁体层之间的多个非磁体层,夹着各个该非磁体层而相对的该软磁体层是经反铁磁性耦合的。2.如权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:远藤大三,筱龙德,坂胁彰,利根川翔,渡边恭成,
申请(专利权)人:昭和电工株式会社,
类型:发明
国别省市:
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