氟气制造装置及光散射检测器制造方法及图纸

提供能够抑制由雾引起的配管、阀的堵塞的氟气制造装置。氟气制造装置的流路具有经由从流体除去雾的雾除去部而从电解槽的内部向氟气分选部输送流体的第1流路和以不经由雾除去部的方式从电解槽的内部向氟气分选部输送流体的第2流路，并且具有根据由平均粒径测定部测定出的雾的平均粒径来切换流通流体的流路的流路切换部。流路切换部在由平均粒径测定部测定出的雾的平均粒径为预先设定的基准值以下的情况下，从电解槽的内部向第1流路输送流体，在由平均粒径测定部测定出的雾的平均粒径比预先设定的基准值大的情况下，从电解槽的内部向第2流路输送流体。第2流路具有抑制由雾引起的第2流路的堵塞的堵塞抑制机构。起的第2流路的堵塞的堵塞抑制机构。起的第2流路的堵塞的堵塞抑制机构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氟气制造装置及光散射检测器


[0001]本专利技术涉及氟气制造装置及光散射检测器。

技术介绍

[0002]氟气能够通过对含有氟化氢和金属氟化物的电解液进行电解来合成(电解合成)。通过电解液的电解，与氟气一起也产生雾(例如电解液的雾)，因此，在从电解槽送出的氟气中伴随有雾。伴随于氟气的雾有可能成为粉体而堵塞在氟气的输送中使用的配管、阀。因此，有时不得不使制造氟气的运转中断或者停止，成为了通过电解法制造氟气时的连续运转的障碍。
[0003]为了抑制由雾导致的配管、阀的堵塞，专利文献1公开了将伴随有雾的氟气或者供该气体通过的配管加热到电解液的熔点以上的技术。另外，专利文献2公开了具有气体扩散部和填充材料容纳部的气体生成装置，所述气体扩散部是进行雾的粗处理的空间，所述填充材料容纳部容纳用于吸附雾的填充材料。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本国专利公报第5584904号
[0007]专利文献2：日本国专利公报第5919824号

技术实现思路
r/>[0008]专本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种氟气制造装置，对含有氟化氢及金属氟化物的电解液进行电解来制造氟气，具备：电解槽，容纳所述电解液，进行所述电解；平均粒径测定部，对在所述电解液的电解时在所述电解槽的内部产生的流体中包含的雾的平均粒径进行测定；雾除去部，从所述流体除去所述雾；氟气分选部，从所述流体分选并取出氟气；及流路，从所述电解槽的内部向所述氟气分选部输送所述流体，所述流路具有经由所述雾除去部从所述电解槽的内部向所述氟气分选部输送所述流体的第1流路和以不经由所述雾除去部的方式从所述电解槽的内部向所述氟气分选部输送所述流体的第2流路，并且具有根据由所述平均粒径测定部测定出的所述雾的平均粒径来切换流通所述流体的流路的流路切换部，所述流路切换部，在由所述平均粒径测定部测定出的所述雾的平均粒径为预先设定的基准值以下的情况下，从所述电解槽的内部向所述第1流路输送所述流体，在由所述平均粒径测定部测定出的所述雾的平均粒径比所述预先设定的基准值大的情况下，从所述电解槽的内部向所述第2流路输送所述流体，所述第2流路具有抑制由所述雾引起的所述第2流路的堵塞的堵塞抑制机构。2.根据权利要求1所述的氟气制造装置，所述平均粒径测定部对在所述电解槽的阳极产生的流体中包含的雾的平均粒径进行测定。3.根据权利要求1或2所述的氟气制造装置，所述堵塞抑制机构是管径比所述第1流路大的配管。4.根据权利要求1～3中任一项所述的氟气制造装置，所述堵塞抑制机构是在相对于水平方向倾斜且从上...

【专利技术属性】
技术研发人员：三神克己，福地阳介，小林浩，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：