本文描述一种用于选择性地清洁和/或蚀刻样品的方法。该方法包括在基板的沟槽中选择性地形成膜，使得该沟槽可以被选择性地蚀刻。聚合物膜沉积在沟槽的底表面上而不沉积在侧壁上。第二膜选择性的形成在该沟槽中而不在该聚合物膜上形成该第二膜。然后从该沟...

用于产生蚀刻剂的远程等离子体源(RPS)利用对称的中空阴极腔来增加蚀刻剂速率。RPS包括：具有第一中空腔的上电极，所述第一中空腔被配置为在所述第一中空腔内引起中空阴极效应；具有第二中空腔的下电极，所述第二中空腔被配置为在所述第二中空腔内...

本公开涉及用于控制在基板边缘附近的等离子体壳层的方法和设备。改变跨在基板组件内的内部电极和外部电极的电压/电流分布促成等离子体跨基板的空间分布。所述方法包括：将第一射频功率提供到嵌入在基板支撑组件中的中心电极；将第二射频功率提供到嵌入在...

一种用于在处理腔室中用于支撑晶片的基座，该基座包括：基座基板，在该基座基板的前侧的外周边缘上具有基座凸耳，其中该基座凸耳内的袋部经配置固持处理腔室中的待处理的晶片，及涂层，该涂层沉积在该基座基板上，其中该基座凸耳的表面经纹理化具有多个排...

本文所公开的实施例包括一种半导体处理工具。在一实施例中，半导体处理工具包括腔室、在腔室内被配置为固定基板的基座、以及位于基座上方的等离子体源。在一实施例中，激光源耦合至腔室，并且检测器在激光源对面耦合至腔室。在一实施例中，检测器被配置为...

本文中提供的实施例通常包括设备，例如等离子体处理系统，以及用于在处理腔室中基板的等离子体处理的方法。一些实施例涉及波形产生器。所述波形产生器通常包括第一电压级，其具有：第一电压源；第一开关；接地参考点；具有第一变压比的变压器，所述第一变...

示例性半导体处理系统可包括限定处理区域的处理腔室。系统可包含前级管线，前级管线与处理腔室耦接，前级管线限定流体导管。系统可包含自由基产生器，自由基产生器具有入口与出口。出口可与前级管线流体耦接。系统可包含气体源，气体源与该自由基产生器的...

本文揭露的实施方式包括一种设定目标分布的方法。在一实施方式中，该方法包括：针对一个或多个温度传感器偏移获得第一增益曲线；以及针对一个或多个区乘数获得第二增益曲线。在一实施方式中，该方法进一步包括：将该第一增益曲线和该第二增益曲线结合到热...

一种在基板上形成结构的方法包括在基板的多层级部分内的至少一个开口内形成钨成核层。所述方法包括将成核层暴露于含三氟化氮气体，以抑制成核层在至少一个开口内的狭窄部分处的生长。所述方法包括将至少一个开口暴露于含钨前驱物气体，以在至少一个开口内...

提供了一种形成TFT的方法，所述方法包括在基板上方形成缓冲层。在缓冲层上方形成金属氧化物沟道层，并且使沟道层退火。在沟道层上方形成栅极绝缘体层，并且在栅极绝缘体层上方沉积ILD以形成TFT。就第一退火条件使TFT退火以形成经退火TFT。...

一种化学机械抛光装置，包括：支撑抛光垫的工作台；用于固持基板的表面抵靠抛光垫的承载头；用于产生工作台和承载头之间的相对运动的电机，以便抛光基板上的上覆层；布置在承载头内的声学传感器阵列，用于从基板的表面接收声学信号；以及被配置为基于来自...

本文所公开的实施方式包括一种在半导体处理工具中进行阻抗调谐的方法。在一实施方式中，所述方法包括测量传输线的电压和电流；将模拟电压信号和模拟电流信号转换成数字电压信号和数字电流信号；从所述数字电压信号和所述数字电流信号计算u向量；用所述u...

抛光系统包括：平台，所述平台维持抛光垫；载体头，所述载体头维持基板抵靠所述抛光垫；调节器，所述调节器包括调节器头以维持调节器盘抵靠所述抛光垫；电机，所述电机移动可相对于所述平台横向地移动的所述调节器头；调节盘清洁站，将所述调节盘清洁站相...

用于半导体处理系统的示例性流体输送组件可包括液体输送源。所述组件可包括加热器，所述加热器与所述液体输送源的出口流体耦接。所述组件可包括液体流量控制器，所述液体流量控制器与所述加热器下游的所述液体输送源流体耦接。所述组件可包括液体蒸发器，...

一种化学机械抛光装置，包括：工作台，用于支撑抛光垫；调节器头，用于保持调节器盘与抛光垫接触；电机，用于在抛光垫和调节器盘之间产生相对运动，以便调节抛光垫；原位声学监测系统，所述原位声学监测系统具有声学传感器，以从调节器盘接收声学信号；以...

提供了一种用于在等离子体蚀刻腔室中蚀刻基板的方法和装置。在一个示例中，所述方法包括将在基板支撑件的基板支撑表面上设置的基板暴露于处理腔室内的等离子体，以及在多个宏观蚀刻循环期间在将基板暴露于等离子体的同时将电压波形施加于在基板支撑件中设...

一种化学机械研磨设备，包括支撑研磨垫的平台、将基板表面固定抵靠在研磨垫上的承载头、在平台与承载头之间生成相对运动以研磨基板上的覆盖层的电动机、包括从基板表面接收声学信号的声学传感器的原位声学监测系统，及被配置为基于从原位声学监测系统接收...

兹描述产生自对准结构的方法，所述自对准结构包含金属硫系化物。某些方法包含以下步骤：于基板特征中形成含金属膜，并将含金属膜暴露于硫系前驱物，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。某些方法包含以下步骤：于基板特征中形成含金属膜；使含金属膜膨胀...

描述了沉积保形含碳间隔件层的方法。示例性处理方法可包括使第一前驱物在经图案化表面及基板之上流动以在结构上形成初始含碳膜的第一部分。方法可包括自基板移除第一前驱物流出物。可接着使第二前驱物在基板之上流动以与初始含碳膜的第一部分反应。方法可...

本文所公开的实施例包括一种校准处理工具的方法。在一实施例中，该方法包括提供具有第一发射率的第一基板、具有第二发射率的第二基板和具有第三发射率的第三基板。在一实施例中，该过程可包括对第一基板、第二基板和第三基板中的每一个运行配方，其中该配...