通过使高架RF源功率施加器绕倾斜轴倾斜来执行等离子体蚀刻速率分布中的歪斜校正，倾斜轴的角度是由处理数据中的歪斜来确定的。通过结合对浮置板进行支撑的精确的三个轴向运动伺服系统来提供运动的完全自由度，从该浮置板悬挂高架RF源功率施加器。

本发明大体提供用于在半导体基板上形成干净且无伤害的表面的设备及方法。本发明的一个实施例提供一系统，该系统含有一清洁腔室，该清洁腔室适于在基板表面上形成外延层之前，将基板表面暴露于等离子体清洁处理。在一实施例中，采用一方法以减少在清洁腔室...

本发明的实施方式主要涉及用于通过氢化物气相外延(HVPE)工艺形成III-V族材料的方法。在一个实施方式中，提供了一种用于在处理室中基板上形成氮化镓材料的方法，其包括：加热金属源以形成加热的金属源；其中加热的金属源含有镓、铝、铟、其合金...

本发明包含用以在基板边缘区域进行蚀刻的装置与方法。于一实施例中，该装置包含腔室主体、基板支撑件、等离子体产生器以及气体传送组件，该腔室主体具有处理容积；该基板支撑件设置在该处理容积内侧，且该基板支撑件具有基板支撑表面；该等离子体产生器连...

本发明涉及用于半导体晶圆处理的高效率静电夹盘组件，大体上提供了高效率的静电夹盘，该夹盘包括挠性堆叠件，该挠性堆叠件具有设置于介电材料的两个层之间的电极。这些层中的至少一个层是标准的或高纯度的热塑性膜。该挠性堆叠件可以在基板支撑表面上具有...

本发明提供了一种方法，用于在消耗低k膜中碳的工艺之后将碳重新加入到该膜中。此外，还描述了一种用于补偿被消耗碳并用氮化钽覆盖的方法。

本发明揭示一种对基板进行共形掺杂的方法，所述基板具有沟道，所述沟道具有侧壁和底部部分，所述方法包括：将所述基板放置在等离子体腔室内；向所述腔室提供掺杂剂源和蚀刻剂；在所述腔室中形成电感耦合等离子体；给所述基板施加偏压；以及在掺杂剂注入所...

提供一种模组化基板处理系统，用以处理柔性基板。该系统包含于水平方向中相互邻近设置的至少两个处理模组。该处理模组包含气垫滚轮，气垫滚轮适于无接触导引柔性基板，并适于使柔性基板在垂直方向中转向。

本发明提供用于形成电阻式存储器件的方法与设备，其中该电阻式存储器件的部件之间具有良好附着力。在基板上形成第一导电层，并且处理该第一导电层的表面以将附着力促进材料添加到该表面。附着力促进材料可在该表面上形成一层，或者它们可并入到该表面内或...

本发明实施例提供一种用于在传送期间加热一或多个基板的设备及方法。一实施例提供一种机械臂叶片组件，用于支撑设置于机械臂叶片组件上的基板或基板载体。该机械臂叶片组件包含：底板；感应加热组件，设置于该底板上；及顶板，设置于该感应加热组件上方。...

本发明的实施例涉及形成太阳能电池器件以降低复合损失的方法和通过所述方法制得的太阳能电池器件，例如背接触太阳能电池，诸如发射极缠绕穿通(EWT)太阳能电池。所述方法包括在形成于基板背表面上的电荷补偿区域中设置一定量的杂质，和在至少一部分电...

藉由控制例如扫描器速度及激光器切换点等方面，利用激光划线形成在工件内的片段的缝缀点可获得改善，例如以容许引入、引出、以及重迭时期。可选择缝缀点的位置以使缝缀点与现有接线重合，从而现有接线会在发生偏移时连接这些片段的功能。

揭示了一种形成氧化硅层的方法。该方法可包含下列步骤：混合一种无碳的含硅与氮前驱物及自由基前驱物，并沉积一种含硅与氮层于基材上。接着将含硅与氮层转变为氧化硅层。

本发明实施例提供使用多个电磁能量脉冲将薄膜固相再结晶的方法。在一个实施例中，可使用本发明方法通过将多个能量脉冲传递至结晶晶种区域或层来退火整个基板表面或基板表面的选择区域以再结晶非晶层，其中在结晶晶种区域或层上沉积有所述非晶层，使得所述...

本发明提供加热腔室中的基板的方法与设备。一实施例中，该设备包括基板支撑组件，该基板支撑组件具有适以接收基板的支撑表面；及多个向心件，多个向心件用以在平行于支撑表面且相隔一距离处支撑该基板，并相对于实质垂直于支撑表面的参照轴让基板朝向中心...

本发明的实施例一般地涉及在衬底上进行化学气相沉积(CVD)的方法和设备，且具体涉及在金属有机化学气相沉积中所使用的处理腔室和部件。该设备包括界定处理容积的腔室主体。在第一平面中的喷洒头界定处理容积的顶部部分。承载板在第二平面中沿着处理容...

量子阱结构的一个实施方式包含有源区，所述有源区包括有源层，所述有源层包含量子阱和障壁层，其中有源层中的一些或全部为p型掺杂的。P型掺杂有源层中的一些或全部通过将P-N结的位置定位在元件的有源区中进而使主要辐射复合能够发生在有源区内，来改...

一种用于厂房中以产生太阳能电池的基板(150)或其它电子装置的测试设备，包含支撑座(16)和多个测试探针(42)，所述支撑座(16)实质上为平坦且可在其表面上直接或间接支撑进行电气测试的至少一个基板(150)或其它装置。所述支撑座(16...

本发明涉及一种清洁装置，其用来清洁丝网印刷设备(100)的丝网印刷网(12)，该丝网印刷设备利用印刷材料在基材(150)上丝网印刷一或多个印刷线路，该清洁装置包含第一轴杆(20)、第二轴杆(22)及条片(21)，该第一轴杆(20)及第二...

大体上平坦的基板托盘具有前部、后部和一对侧边。所述前部和所述后部之间的距离以及所述侧边之间的距离明显大于所述基板托盘的厚度。在相对于室温的用于高温处理系统的温度中，所述基板托盘的垂直偏移与所述侧边之间的距离的比例小于1％。