实施方式也可包括残余化学反应诊断装置。该残余化学反应诊断装置可包括基板及在该基板上形成的残余化学反应传感器。在一实施方式中，该残余化学反应传感器响应于残余化学反应的存在而提供电输出。在一实施方式中，该基板为装置基板，且该传感器形成于该装...

在低压环境中将原子层沉积(ALD)处理与物理气相沉积(PVD)处理结合，以产生高质量的阻挡膜。使用ALD处理将初始阻挡膜沉积在基板上，并接着移动到PVD腔室以处理阻挡膜，以增加阻挡膜的密度和纯度，从而降低阻挡膜的电阻率。将双材料源溅射到...

本公开的实施方式涉及：用于测量温度的方法和一种用于校正在处理腔室中的基板支撑件的温度控制而不与所述基板支撑件的表面相接触的工具。在一个实施方式中，具有温度传感器的测试夹具可移除地被安装至所述处理腔室的腔室主体的上表面，以使得所述温度传感...

提供一种等离子体处理设备，包含：射频功率源；直流功率源；腔室，所述腔室封围处理容积；以及基板支撑组件，所述基板支撑组件被设置在所述处理容积中。所述基板支撑组件包含：基板支撑件，所述基板支撑件具有基板支撑表面；电极，所述电极被设置在所述基...

描述了一种用于在真空腔室(101)中的载体对准的设备(100)。此设备包括支撑件(110)，在真空腔室(101)中于第一方向(X)中延伸；磁性悬浮系统(120)，装配以在真空腔室(101)内于第一方向(X)中传送第一载体(10)，磁性悬...

本公开涉及用于等离子体过滤的系统和方法。系统和方法可用于制定等离子体过滤。示例性处理腔室可包括喷淋头。处理腔室可包括基板支撑件。处理腔室可包括电源，所述电源与基板支撑件电气耦合并且经构造以向基板支撑件提供电力，来在喷淋头与基板支撑件之间...

描述一种用于在真空腔室(101)中处理基板(10)的设备(100)。所述设备包括：第一载体运输系统(31)，所述第一载体运输系统用于在第一方向(X)上沿着第一运输路径运输第一载体(11)；以及第二载体运输系统(32)，所述第二载体运输系...

提供一种用于在真空腔室中将基板或掩模支撑于第一平面中或平行于第一平面支撑的载体。载体包括用于将载体固定至对准装置的夹持装置和将夹持装置连接至载体的机械运动元件，机械运动元件允许夹持装置与载体的至少一个自由度的相对移动，并且提供在夹持装置...

提供一种用于在处理腔室中进行处理期间将载体固定或夹持到装置的布置。所述布置包括：第一夹持元件，所述第一夹持元件耦接到所述载体；和第二夹持元件，所述第二夹持元件耦接到所述装置。所述第一夹持元件和所述第二夹持元件被配置为可相对于彼此固定或夹...

描述了一种用于在真空腔室(101)中对准载体的设备(100)。所述设备包括：第一载体运输系统(120)，所述第一载体运输系统(120)被配置为在第一方向(X)上沿着第一运输路径运输第一载体(10)；和对准系统(130)。所述对准系统包括...

描述了一种用于在真空腔室中处理载体的设备(100)。所述设备包括真空腔室(101)，所述真空腔室具有带有开口(106)的壁(102)。第一驱动单元(142)布置在所述真空腔室(101)外部，并且被配置为使延伸穿过所述开口(106)到所述...

本文讨论的系统和方法与在处理腔室中使用以制造半导体、电子器件、光学器件和其它器件的基板支撑基座相关联。所述基板支撑基座包括静电吸盘主体，所述静电吸盘主体经由结合层结合到冷却基部。气流通道形成在所述静电吸盘主体的顶表面与所述冷却基部的底表...

本公开涉及用于通过功率供应波导中的光圈的微波旋转和阻抗偏移的通用圆柱形空腔系统。针对空腔的任何谐振模式TE

一种用于基板支撑组件的垫圈可以具有：顶表面，所述顶表面具有表面区域；和多个区，所述多个区一起限定所述顶表面的所述表面区域。所述多个区可以包括至少：a)第一区，所述第一区包括第一垫圈层堆叠，所述第一区具有在第一方向上的第一平均热导率，和b...

本文描述了用于校准高度可调整的边缘环的设备。在一个示例中，提供一种用于相对于参考表面定位边缘环的校准夹具，所述校准夹具包括：透明板；多个传感器，所述多个传感器耦接到所述透明板的第一侧；以及多个接触垫，所述多个接触垫耦接到所述透明板的相对...

此处说明用于无缝间隙填充的方法，包括以下步骤：在特征中沉积膜；处理膜以改变某些膜特性；以及从顶部表面选择性地蚀刻膜。重复沉积、处理以及蚀刻的步骤以在特征中形成无缝间隙填充。

本公开内容的实施方式大体涉及一种改进的批量处理装载锁定腔室、一种具有所述改进的批量处理装载锁定腔室的群集工具、以及一种使用所述改进的装载锁定腔室清洁设置在内的多个基板的方法。在一个实施方式中，一种装载锁定腔室包括：腔室主体；匣盒，所述匣...

提供一种用于基板的光学检查的系统。此系统包括至少第一处理腔室及第二处理腔室。此系统包括至少传送腔室，用以从第一处理腔室接收基板及用以传送所述基板至第二处理腔室。传送腔室设置有检查装置，检查装置用以对在第一处理腔室中处理的基板执行光学检查。

增材制造设备包括平台、支撑件、致动器、一个或多个打印头、支撑于平台上方的多个可单独寻址的能量源、及控制器，致动器耦接到平台与支撑件中的至少一者，并经配置以沿着第一轴线在其间产生相对运动，使得支撑件在平台上扫描，一个或多个打印头支撑于平台...

提供了用于处理基板的工艺配件、处理腔室和方法。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第...