新阳硅密上海半导体技术有限公司专利技术

新阳硅密上海半导体技术有限公司共有96项专利

  • 本实用新型公开了一种电镀装置及其阳极组件,阳极工件包括:互不导通的若干块第一阳极本体,若干块第一阳极本体互相套设且同轴,其中位于中心的第一阳极本体为圆柱体,其他的第一阳极本体为环状结构;互不导通的若干块第二阳极本体,若干块第二阳极本体互...
  • 本实用新型公开了一种电镀装置及其分流结构,该分流结构包括至少一分流通道,分别设置于所述电镀装置的电镀槽内,并且用于将流向所述电镀槽的溢流位置处的电镀液进行分流;分流管路,分别与所述至少一分流通道连接,并且用于将通过所述至少一分流通道中分...
  • 本发明公开了一种晶圆清洗系统及晶圆清洗方法,该晶圆清洗系统包括:清洗槽;相互连接的晶圆夹具和机械手,所述晶圆夹具用于固定晶圆,所述机械手驱动所述晶圆进出所述清洗槽,并驱动所述晶圆在所述清洗槽内旋转。该晶圆清洗系统通过设置用于搬运晶圆进出...
  • 本发明公开了一种电镀液在线回收方法,其包括以下步骤:电镀环节:对晶圆进行电镀;回收环节:使晶圆表面的电镀液脱离晶圆;再利用环节:将脱离晶圆的电镀液输送至电镀池内。该电镀液在线回收方法,将电镀后位于晶圆表面的残余电镀液收集并输送至电镀池中...
  • 本发明公开了一种密封性在线检测装置和方法。所述密封性在线检测装置用于检测待测元件的密封性,其包括:盖板、测量装置和密封件,所述待测元件设于所述盖板和所述密封件之间;所述盖板设于所述待测元件的上表面,所述盖板设有凹槽,所述凹槽与所述待测元...
  • 本发明公开了一种电镀装置及其分流结构,该分流结构包括至少一分流通道,分别设置于所述电镀装置的电镀槽内,并且用于将流向所述电镀槽的溢流位置处的电镀液进行分流;分流管路,分别与所述至少一分流通道连接,并且用于将通过所述至少一分流通道中分流的...
  • 本实用新型公开了一种阳极组件。所述阳极组件包括导电基体和设于所述导电基体上的阳极本体,所述导电基体的表面具有保护层。通过在导电基体表面设置保护层,有效避免了导电基体在电镀过程中由于发生氧化和钝化导致电阻发生变化,提高了电路电流分布的均匀...
  • 本实用新型公开了一种预润湿设备及预润湿系统,预润湿设备用于晶圆的预润湿,包括第一箱体,所述第一箱体的内部具有容置腔,所述容置腔用于通入预润湿液体,所述预润湿设备还包括夹持部,所述夹持部设置在所述容置腔的内部,所述夹持部用于卡持所述晶圆的...
  • 本实用新型公开了一种屏蔽环、屏蔽装置及电镀设备,屏蔽环用于晶圆电镀,所述屏蔽环包括扰流部,所述扰流部与所述屏蔽环的内环面相连接,所述扰流部用于扰动电镀所述晶圆的电镀液,以使所述晶圆被均匀的电镀。本实用新型通过将屏蔽环设置在晶圆之前,使得...
  • 本实用新型公开了一种可调节屏蔽装置,所述可调节屏蔽装置包括:一屏蔽板,所述屏蔽板具有一镂空的圆心部以及若干镂空的圆弧部,所述圆弧部设置在所述圆心部的外围;若干遮挡板,所述遮挡板分别与各所述圆弧部对应,且所述遮挡板相对于所述圆弧部移动从而...
  • 本发明公开了一种预润湿设备、预润湿系统及晶圆预润湿的预处理方法,预润湿设备用于晶圆的预润湿,包括第一箱体,所述第一箱体的内部具有容置腔,所述容置腔用于通入预润湿液体,所述预润湿设备还包括夹持部,所述夹持部设置在所述容置腔的内部,所述夹持...
  • 本发明公开了一种可调节屏蔽装置以及利用其实现的电镀屏蔽方法,所述可调节屏蔽装置包括:一屏蔽板,所述屏蔽板具有一镂空的圆心部以及若干镂空的圆弧部,所述圆弧部设置在所述圆心部的外围;若干遮挡板,所述遮挡板分别与各所述圆弧部对应,且所述遮挡板...
  • 本发明公开了一种屏蔽环、屏蔽装置、电镀设备及电镀方法,屏蔽环用于晶圆电镀,所述屏蔽环包括扰流部,所述扰流部与所述屏蔽环的内环面相连接,所述扰流部用于扰动电镀所述晶圆的电镀液,以使所述晶圆被均匀的电镀。本发明通过将屏蔽环设置在晶圆之前,使...
  • 本实用新型提供一种搅拌装置及含其的电镀设备,搅拌装置包括:至少一个搅拌单元,搅拌单元具有旋转轴,搅拌单元以旋转轴为中心圆周均布;驱动机构,驱动机构连接于搅拌单元,并驱动多个搅拌单元沿对应的旋转轴转动。该搅拌装置通过驱动机构驱动该搅拌单元...
  • 本发明公开了一种阳极组件及其应用。所述阳极组件包括导电基体和设于所述导电基体上的阳极本体,所述导电基体的表面具有保护层。通过在导电基体表面设置保护层,有效避免了导电基体在电镀过程中由于发生氧化和钝化导致电阻发生变化,提高了电路电流分布的...
  • 本发明公开了一种电镀装置的电镀方法,对形成于电镀工件上的电镀层进行修正电镀。本发明可对一次或多次电镀后电镀层不均匀的情况进行修正,以提高电镀层的均匀性,以及电镀工艺的稳定性。
  • 本发明公开了一种搅拌装置及含其的电镀设备,搅拌装置包括:至少一个搅拌单元,搅拌单元具有旋转轴,搅拌单元以旋转轴为中心圆周均布;驱动机构,驱动机构连接于搅拌单元,并驱动多个搅拌单元沿对应的旋转轴转动。该搅拌装置通过驱动机构驱动该搅拌单元沿...
  • 本发明公开了一种电镀方法、电镀装置及其阳极组件。其中,所述阳极组件包括若干阳极本体;当给所述阳极组件供电时,所述若干阳极本体互不导通。本发明可对一次或多次电镀后电镀层不均匀的情况进行修正,以提高电镀层的均匀性,以及电镀工艺的稳定性。
  • 本实用新型公开了一种电镀装置及其阳极组件。其中,所述阳极组件包括若干阳极本体;当给所述阳极组件供电时,所述若干阳极本体互不导通。本实用新型可对一次或多次电镀后电镀层不均匀的情况进行修正,以提高电镀层的均匀性,以及电镀工艺的稳定性。
  • 本实用新型公开了一种光阻过滤器。所述光阻过滤器包括槽体、槽盖及过滤桶。所述槽体具有容纳槽。所述槽盖设置在所述槽体的顶端,并密封所述容纳槽地设置。所述过滤桶容置在所述容纳槽内。所述过滤桶与所述槽体和/或所述槽盖连接设置。所述过滤桶具有容腔...