在以有机聚硅氧烷作为基础聚合物、含有导热性填充材料而成的导热性有机硅组合物中包含平均粒径10～100μm的氮化铝和平均粒径0.1～5μm的破碎状氧化铝作为导热性填充材料、含有氮化铝和破碎状氧化铝的合计量中的15～55质量％的破碎状氧化铝...

包含由下式(1)或(2)：Rf

本发明为锍盐、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。涂布包含衍生自具有聚合性基团的特定结构的锍盐的重复单元的聚合物，以形成因为改进的LWR、CDU和分辨率而适于精确图案化的抗蚀剂膜。

本发明涉及一种光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法。提供光掩模坯料，其包括透明衬底、在该衬底上的含铬材料的第一膜和与该第一膜邻接设置的含有硅/氧的材料的第二膜。该第二膜包括与该第一膜邻接的第一层和在膜厚方向上与该第一层间隔的第...

本发明提供一种成为具有高度的嵌入/平坦化特性、蚀刻耐性的有机膜形成用组合物的材料的树脂、该组合物、及使用该组合物的图案形成方法。所述有机膜形成用组合物含有：(I)树脂，其在重复单元的至少一部分包含下述通式(1)所示的、包含芳香环的环结构...

本发明提供适合作为单晶硅制造用原料的多晶硅棒和多晶硅棒的制造方法。在通过基于化学气相法的析出而制造直径为150mm以上的多晶硅棒时，在反应炉内配置多对硅芯线，将所述多晶硅棒的最终直径的平均值设为D(mm)、将所述多对硅芯线的相互间隔设为...

本发明涉及非水电解质二次电池用负极材料，其包含硅复合体，该硅复合体是具有硅的微晶或微粒在与该微晶或微粒组成不同的物质中分散的结构的硅复合体，基于X射线衍射中归属于Si(220)的衍射峰的半值宽度，由Scherrer式求出的上述微晶或微粒...

提供一种生产高粘度水溶性纤维素醚的方法，该纤维素醚具有小的不溶解纤维含量和高的松散堆积密度。更具体来说，提供一种生产方法，包括以下步骤：使纤维素浆粕与碱金属氢氧化物溶液接触，得到碱纤维素混合物；将碱纤维素混合物排液，得到碱纤维素；使碱纤...

本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具...

本发明涉及一种光掩模坯料和光掩模。具体涉及一种用于ArF准分子激光的曝光光的光掩模坯料，包括：透明衬底和包含钼、硅和氮的遮光膜。将该遮光膜形成为由单一组成层或组成梯度层组成的单层或者多层，远离该衬底的一侧的遮光膜的反射率为40％以下，并...

本发明提供一种负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，其特征在于，负极活性物质颗粒含有包含硅化合物SiOx(0.5≦x≦1.6)的硅化合物颗粒，硅化合物颗粒在至少一部分包含晶质的Li2SiO3，且由

本发明提供一种负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，该负极活性物质颗粒含有包含硅化合物SiOx(0.5≦x≦1.6)的硅化合物颗粒，硅化合物颗粒在至少一部分包含晶质的Li2SiO3和Li2Si2O5，且由

本发明提供一种负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，其特征在于，负极活性物质颗粒含有包含硅化合物SiOx(0.5≦x≦1.6)的硅化合物颗粒，硅化合物颗粒在至少一部分包含晶质的Li2Si2O5，且由

本发明提供一种负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，其特征在于，所述负极活性物质颗粒含有SiOx(0.5≦x≦1.6)表示的硅化合物，在所述负极活性物质进行Li的吸留时，所述负极活性物质颗粒所包含的Si

本发明提供一种负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，其特征在于，负极活性物质颗粒含有包含硅化合物(SiOx：0.5≦x≦1.6)的硅化合物颗粒，硅化合物颗粒含有Li化合物，该负极活性物质包含Al元素和Na元素作为负极活性物质颗粒的构成元...

由式(1)表示的有机硅化合物在添加到橡胶组合物中的情况下给予提高其固化物的抗湿滑性能、进而可大幅地降低滞后损失、同时可实现所期望的低耗油量轮胎的橡胶组合物。(式中，R

本发明涉及一种光刻用护层膜和护层。具体涉及这样的光刻用护层膜，其为在护层框的一个端面上方伸展的护层膜，并且特征在于，包括：聚合物膜、和在该聚合物膜的一侧或两侧上形成的不透气层；并且涉及设置有该护层膜的光刻用护层。

本发明提供一种热固性氟聚醚型粘接剂组合物以及使用所述热固性氟聚醚型粘接剂组合物的电气部件/电子部件，所述热固性氟聚醚型粘接剂组合物能够在短时间内进行固化，且能够对金属、陶瓷以及塑料等的各种基材进行粘接。所述热固性氟聚醚型粘接剂组合物使用...

本发明为一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其由研磨颗粒及水组成，其特征在于，所述研磨颗粒以二氧化铈颗粒为母体颗粒，在该母体颗粒的表面担载有铈与选自除铈以外的其他三价稀土元素中的至少一种稀土元素的复合氧化物颗粒。由此，可提供一种具有高研磨速度...

本发明涉及一种光掩模坯料及制造方法。将光掩模坯料加工成透射光掩模，该透射光掩模用于使用曝光光在接受体上形成图案的光刻。该光掩模坯料包括：透明衬底、可通过氯/氧基干蚀刻来蚀刻的材料的第一膜、和含硅材料的第二膜。该第二膜包括相对于检查光的波...