本发明的一个目的是提供一种高收率的制备(4Z,7Z)‑4,7‑癸二烯‑1‑基乙酸酯的方法，其减少了步骤数，且不使用保护基。提供一种制备(4Z,7Z)‑4,7‑癸二烯‑1‑基乙酸酯的方法，该方法包括至少以下步骤：还原通式(1)的10‑卤代...

本发明提供一种太阳能电池，其具备具有第一导电型的半导体基板，在该基板的第一主表面上，具备具有与所述第一导电型相同导电型的第一导电型层及具有与所述第一导电型相反的第二导电型的第二导电型层，在位于所述第一主表面的第一导电型层上具备第一集电极...

本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。

本发明提供一种有机膜形成用组合物，其即使在用于防止基板腐蚀的不活性气体中的成膜条件下也不产生副产物，不仅形成于基板上的图案的嵌入和平坦化特性优异，而且能够形成基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机膜，进一步，即使在该有机膜上形成CVD硬掩...

本发明提供一种有机膜形成用组合物，其即使在用于防止基板腐蚀的不活性气体中的成膜条件下也不产生副产物，不仅形成于基板上的图案的嵌入和平坦化特性优异，而且能够形成基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机膜，进一步，即使在该有机膜上形成CVD硬掩...

本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物，其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层，适应微加工，并且对于...

本发明为锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。包含特定结构的锍化合物作为PAG的抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如最小的缺陷、高感光度、改善的LWR和CDU，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。

本发明提供一种可降低压电结晶膜和支承基板的接合界面上的波的反射造成的杂散的、温度特性良好且为高性能的表面声波器件用复合基板。表面声波器件用复合基板包含压电单晶基板和支承基板而构成，其特征在于，在压电单晶基板和该支承基板的接合界面部，至少...

本发明提供一种即使在贴合后的工序中加热到400℃以上也不会产生压电单晶膜的整面剥落的声表面波器件用复合基板。通过准备压电单晶基板和支承基板，将由无机材料构成的膜成膜于压电单晶基板和支承基板中的至少任意一方，并且将压电单晶基板与支承基板以...

本发明的目的在于提供可提供对基材、特别是塑料膜基材的密合性优异、而且将粘结材料由该固化皮膜剥离后可在粘结材料上残留高粘接强度的固化皮膜的无溶剂型硅氧烷组合物、以及提供具有该固化皮膜的剥离纸和剥离膜。提供硅氧烷组合物，其含有(A)1分子中...

本发明提供一种能够以喷墨的方式被喷出的紫外线固化性硅酮组合物。该紫外线固化性硅酮组合物包括：(A)以下述通式(1)表示的有机聚硅氧烷，

本发明提供一种化妆品，其掺合有有机硅氧烷接枝聚乙烯醇类聚合物，所述有机硅氧烷接枝聚乙烯醇类聚合物具有下述通式(1)所表示的结构单元及下述通式(3)所表示的结构单元，利用GPC测定的聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为5,000～500,0...

本发明的目的在于廉价地提供高转换效率的太阳能电池。本发明的太阳能电池具备保护半导体基板(101)的钝化膜、在半导体基板的主面与半导体基板连接的第一副栅线电极(201)、与第一副栅线电极(201)交叉的第一主栅线电极(202)、和设置于第...

本发明提供一种附有抗蚀剂多层膜的基板，其能够使用不会对半导体装置基板和图案化工序中所必需的有机抗蚀剂下层膜造成损伤的剥离液、例如半导体制程中通常所使用的被称为SC1的含过氧化氢的氨水溶液，容易地将已因干蚀刻而改性的硅成分残渣湿式去除。所...

本发明为感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含(A)包含具有式(a1)的重复单元和具有式(b1)的重复单元的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成感光性树脂涂层...

本发明为含有机硅结构的聚合物、感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含分子中具有交联性基团或易交联反应的反应位点的含有机硅结构的聚合物的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成具有改进的基底粘合性、图案形成...

本发明提供一种可形成有机膜的有机膜形成用组合物，该有机膜能够通过使用不会对半导体装置基板和图案化工序中所必需的有机抗蚀剂下层膜造成损伤的剥离液、例如半导体制程中通常所使用的被称为SC1的含过氧化氢的氨水溶液，容易地与已因干蚀刻而改性的硅...

本发明的目的在于提供能防止由于表膜构件框架上的粘合层的内缘部从截面观察时为曲面而发生的表膜的绷紧的表膜构件框架和表膜无绷紧而外观优异的种表膜构件。本发明是一种框状的表膜构件框架，在设置表膜的面上，设有从内缘侧向外缘侧下降的倾斜面，从该倾...

本发明为一种造粒处理二氧化硅，其为一次粒径为5～50nm的二氧化硅粉末经水造粒而成的造粒处理二氧化硅，其特征在于，所述二氧化硅粉末的表面被含硅原子疏水剂疏水化，所述造粒处理二氧化硅的疏水化度为40以上，松散堆积密度为150g/L以上。由...

本发明提供加成固化性液体硅橡胶组合物,其在维持着良好的固化性下给予固化后的硬度计A型硬度为5～15且高撕裂强度的硅橡胶。加成固化性液体硅橡胶组合物，其含有：(A)在1分子中具有2个以上的硅原子结合烯基、平均聚合度为1500以下、25℃下...