信越化学工业株式会社专利技术

信越化学工业株式会社共有3967项专利

  • 本发明为一种合成石英玻璃基板用的抛光剂,其为用于合成石英玻璃基板的抛光剂,其特征在于,所述抛光剂包含湿式二氧化铈颗粒与非球形二氧化硅颗粒,所述湿式二氧化铈颗粒的平均一次粒径为30nm~50nm,所述非球形二氧化硅颗粒的平均一次粒径为80...
  • 二氧化硅被覆有机硅弹性体球状粒子的制造方法,其为制造二氧化硅被覆有机硅弹性体球状粒子的方法,其包含如下工序:通过在包含(A)有机硅弹性体球状粒子、(B)碱性物质、(C)选自阳离子性表面活性剂和阳离子性水溶性高分子化合物中的1种以上和(D...
  • 本发明提供可形成防水防油性、耐磨损性优异的固化被膜的含氟聚醚基聚合物、和包含该聚合物和/或其部分(水解)缩合物的表面处理剂、以及经该处理剂进行表面处理的物品。下式的含氟聚醚基聚合物:R f
  • 本发明为一种免冲洗护发化妆品,其特征在于,其含有聚氧化烯改性有机聚硅氧烷化合物,该化合物在末端键合有式(1)所表示的具有聚氧化烯基的硅氧烷链,且在分子内具有50个以上式(2)所表示的结构单元,该化合物在25℃下的粘度为50,000mPa...
  • 本发明提供了一种制备下式(3)的4‑甲基‑5‑壬酮的方法:该方法至少包括使下式(1)的戊酸酐和以下通式(2)的2‑戊基亲核试剂进行亲核取代反应从而生成4‑甲基‑5‑壬酮(3)的步骤,其中M代表Li、MgZ
  • 本发明提供了一种制备下式(3)的4‑甲基‑5‑壬酮的方法:该方法至少包括使下式(1)的2‑甲基戊酸酐和以下通式(2)的正丁基亲核试剂进行亲核取代反应从而生成4‑甲基‑5‑壬酮(3)的步骤,其中M代表Li、MgZ
  • 有机聚硅氧烷组合物,其含有:(A)在1分子中具有至少2个与硅原子结合的烯基的有机聚硅氧烷、(B)在1分子中具有至少2个与硅原子结合的氢原子的有机氢聚硅氧烷、(C)铂催化剂和(D)特定的异腈化合物。
  • 本发明为一种化妆品,其特征在于,其含有(A)下述通式(1)所示的有机(聚)硅氧烷。由此提供一种具有干爽的触感、延展性,且稳定性高、持妆性良好的化妆品。[化学式1]
  • 本发明提供感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。包含以下的感光性树脂组合物具有改进的膜性质:含有硅亚苯基骨架和芴骨架并且在分子内具有可交联位点的聚合物,Mw为300‑10,000的酚化合物,光致产酸剂,和苯并三唑或咪唑化合物。即使...
  • 本发明涉及复合伸缩性膜及其形成方法。本发明提供具有优良的伸缩性及强度且膜表面的拨水性也优良的伸缩性膜及其形成方法。一种复合伸缩性膜,是伸缩性膜,其特征为:在由聚氨酯2的固化物构成的内部膜上叠层由聚氨酯1的固化物构成的表面膜而成,所述聚氨...
  • 本发明涉及光蚀刻用防尘薄膜及具备该防尘薄膜的防尘薄膜组件。本发明的目的是提供即使不设支撑框亦具有足够的强度的防尘薄膜及具备该防尘薄膜的防尘薄膜组件。本发明是一种光蚀刻用防尘薄膜及一种光蚀刻用防尘薄膜组件,该光蚀刻用防尘薄膜是张设于防尘薄...
  • 本发明是鉴于所述情况而成,目的在于提供一种容易自剥离衬垫剥离、剥离后的硅酮粘着剂不依存于剥离速度、并可显示出强粘着力的粘着剂组合物,以及提供一种具有所述组合物的硬化物的粘着带、粘着片、以及包含所述组合物的硬化物的双面粘着片。本发明提供一...
  • 通过包含(A)用含有氟聚醚基的聚合物改性了的具有烷氧基甲硅烷基和/或芳氧基甲硅烷基的硅烷和/或其部分水解缩合物和(B)用含有氟聚醚基的聚合物改性了的具有酰氧基甲硅烷基和/或芳酰氧基甲硅烷基的硅烷和/或其部分水解缩合物,使其质量比成为(A...
  • 提供导热性硅脂组合物,该导热性硅脂组合物含有(A)特定运动粘度的有机聚硅氧烷;(B)特定运动粘度的有机聚硅氧烷;(C)具有特定的平均球形度、表面羟基数、平均粒径,在激光衍射型粒度分布中25~45μm处的粗粒子的比例位于特定范围的球状氧化...
  • 下述的聚硅氧烷由于可加成交联,因此适合作为耐热涂料等的粘结剂成分、涂布材料,所述聚硅氧烷由包含下述式(1)(式中,R
  • 本发明为一种消泡剂,其包含:(A)有机聚硅氧烷,其中,构成主链的有机聚硅氧烷链段的硅原子中的至少一个具有式(1)所表示的可水解基团,且所述有机聚硅氧烷含有占整体的10摩尔%以上的式(2)所表示的硅氧基单元;(B)除(A)成分的有机聚硅氧...
  • 本发明涉及防尘薄膜框架及防尘薄膜组件。本发明提供一种防尘薄膜框架、及使用该防尘薄膜框架而构成的防尘薄膜组件;该防尘薄膜框架,可减少因防尘薄膜的张力所造成的防尘薄膜框架的往内侧的挠曲,抑制防尘薄膜组件的曝光区域的减少,且使皱褶不易进入至防...
  • 本发明涉及一种光掩模坯料和制造光掩模的方法。该光掩模坯料用于在通过具有波长为至多250nm的曝光光的图案转印中使用的光掩模的材料,包括透明衬底、在衬底上直接形成的或者以在透明衬底和含铬膜之间插入光学膜的方式形成的含铬膜。含铬膜包括区域(...
  • 提供设计包含透明基材和其上的光学膜的光掩模坯料的方法。所述光掩模坯料被加工成具有光学膜图案的透射性光掩模使得在通过光掩模透射曝光光时可转印该膜图案。使用比反射率作为指标来选择该光学膜,该比反射率等于反射率除以膜厚度。
  • 本发明提供混炼型硅橡胶组合物,其特征在于,含有:(A)由用特定的平均组成式表示的分子链两末端用三烯基甲硅烷氧基封端的有机聚硅氧烷生橡胶、用特定的平均组成式表示的分子链两末端用单烯基二烷基甲硅烷氧基封端的有机聚硅氧烷生橡胶的(A‑1)和(...