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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
图像显示装置用紫外线固化型液状有机聚硅氧烷组合物制造方法及图纸
本发明提供一种图像显示装置用紫外线固化型液状有机聚硅氧烷组合物,其能够给予透明性高、粘合性优异、高温耐久性良好且段差追随性优异的固化物,且阴暗部也能够进行加热固化。所述图像显示装置用紫外线固化型液状有机聚硅氧烷组合物的特征在于,其含有:...
室温湿气固化型有机硅凝胶组合物及其固化物以及物品制造技术
含有下述组分的室温湿气固化型有机硅凝胶组合物可成为在超过230℃的耐热条件下采用针入度等指标所评价的低应力性的变动率也小、耐热性优异的有机硅凝胶固化物:(A)两末端硅烷醇基封端二有机聚硅氧烷,(B)下式(2)的水解性有机硅化合物和/或其...
聚合性单体、导电聚合物用高分子化合物及其制备方法技术
本发明提供一种适合用作燃料电池用或导电材料用的掺杂剂的导电聚合物用高分子化合物与其制备方法,该导电聚合物用高分子化合物由共聚聚合物形成,该共聚聚合物含有具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基、正羰基氟磺酰胺基的重复单元与具有3,3,3‑三氟‑2‑羟基...
加成固化型硅酮树脂组合物及光学元件制造技术
本发明提供一种加成固化型硅酮树脂组合物,该组合物给与高透明、低折射率且高强度的产品可靠性优异的固化物。所述加成固化型硅酮树脂组合物含有:(A)具有硅原子键合脂肪族不饱和基团及硅原子键合CF
聚硅氧硅氮烷化合物、其制备方法和包含其的组合物及其固化产物技术
本发明涉及聚硅氧硅氮烷化合物、其制备方法和包含其的组合物及其固化产物。本发明提供一种聚硅氧硅氮烷化合物,其包括以下通式(1)的重复单元并且具有如通过凝胶渗透色谱法相对于聚苯乙烯标样测量的500至100,000的数均分子量,
透明涂膜形成用组合物制造技术
本发明提供一种透明涂膜形成用组合物,其使用了对聚硅氮烷的溶解性高、涂布时以适当的速度挥发、安全性及作业性高的有机溶剂,并在固化后形成均质且具有高透明性及硬度的涂膜。该透明涂膜形成用组合物至少含有:(A)聚硅氮烷,其具有下述式(1)所示的...
含硅抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法技术
本发明涉及一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法。本发明目的为提供在利用以酸作为催化剂的化学增幅抗蚀剂形成的微细图案中可改善LWR、CDU的抗蚀剂下层膜。解决方法为一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组成物,至少含有:下述通式(P‑0)表...
多晶硅棒、多晶硅杆及其制造方法技术
本发明涉及多晶硅棒、多晶硅杆及其制造方法。提供适合作为基于FZ法的单晶硅的制造用原料的多晶硅杆。在对通过西门子法培育出的多晶硅棒(10)进行外圆磨削的工序中,以使多晶硅杆(30)的中心轴(C
树脂组合物、树脂膜、半导体层叠体、半导体层叠体的制造方法及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
本发明提供一种翘曲小且粘合力优异的树脂组合物、由该组合物膜化而成的高粘合树脂组合物膜、具有该膜的固化物的半导体层叠体及其制造方法、以及由该半导体层叠体单片化而成的半导体装置及其制造方法。所述树脂组合物含有下述(A)~(D):(A)以14...
新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法技术
本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐,其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中,高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等...
量子点及其制造方法、以及树脂组合物、波长转换材料、发光元件技术
本发明提供一种量子点,其含有粒径为20nm以下的半导体晶体颗粒,所述量子点的特征在于,具有2个以上与该半导体晶体颗粒进行相互作用的官能团的配体以二齿以上的方式配位于所述半导体晶体颗粒表面。由此,提供一种使用具有2个以上与半导体晶体颗粒进...
硬化性硅酮剥离剂组合物制造技术
本发明的目的在于提供一种如下的加成反应型硅酮剥离剂组合物,所述加成反应型硅酮剥离剂组合物提供一种即便为低温短时间的条件下的硬化,与基材的密接性也优异、且自基材剥离的力低的硬化物。一种含有下述(A)成分至(E)成分的硅酮组合物、以及将所述...
有机基团改性的有机硅树脂及其制造方法以及化妆料技术
由下述平均组成式(1)表示的有机基团改性的有机硅树脂。[a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0<b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0<f≤1000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数。]本发明的有机...
热硬化性含硅化合物、含硅膜形成用组成物以及图案形成方法技术
本发明涉及热硬化性含硅化合物、含硅膜形成用组成物以及图案形成方法。本发明的课题是为了提供一种热硬化性含硅化合物,其可使用于能达成互为相反的性能的含硅抗蚀剂下层膜材料,该互为相反的性能为虽具有碱显影液耐性,但却会改善溶解于不含过氧化氢的碱...
硅氧烷化合物及其制造方法技术
本发明的目的在于提供一种硅氧烷化合物及其制造方法,所述硅氧烷化合物为具有聚硅氧烷结构的聚合性单体,且具有作为眼科用设备而有益的纯度与高透氧性以及与其他聚合性单体的充分的相容性。本发明通过使在聚硅氧烷的硅原子上具有大体积的取代基的环氧改性...
复合基板、纳米碳膜的制作方法和纳米碳膜技术
本发明涉及复合基板、纳米碳膜的制作方法和纳米碳膜。本发明提供一种纳米碳膜形成用复合基板的制造方法,其中,从单晶碳化硅基板的表面注入离子以形成离子注入区域,在该单晶碳化硅基板的离子注入面、以及操作基板的与单晶碳化硅基板贴合的表面分别形成薄...
伸缩性配线膜及其形成方法技术
本发明的课题是为了提供伸展时导电性的降低少,且膜表面的拨水性优良的伸缩性配线膜及其形成方法。一种伸缩性配线膜,含有:(A)伸缩性膜,至少表面由含有有机硅聚氨酯树脂的伸缩性膜材料的固化物构成,且该伸缩性膜的表面形成有深度为0.1μm~5m...
感光树脂组合物、层叠体和图案形成方法技术
本发明涉及感光树脂组合物、层叠体和图案形成方法。涂布包含(A)含有机硅骨架的聚合物、(B)光致产酸剂和(C)过氧化物的感光树脂组合物形成感光树脂涂层,其在保持挠性的同时不易发生塑性变形。还提供了使用该组合物的图案形成方法。
伸缩性膜及其形成方法技术
本发明的目的是提供具有优良的伸缩性且膜表面的拨水性优良,而且表面不发粘的伸缩性膜及其形成方法。一种伸缩性膜,至少表面由含有有机硅聚氨酯树脂的伸缩性膜材料的固化物构成,其特征为:该伸缩性膜的表面形成有深度0.1μm~2mm、节距0.1μm...
聚苯醚树脂组合物和硅烷改性共聚物制造技术
本发明提供给予介电特性优异、并且与铜箔的密合性提高的固化物的聚苯醚树脂组合物。聚苯醚树脂组合物,其含有聚苯醚树脂和由下述式(1)表示的硅烷改性共聚物。
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