本发明是一种太阳能电池用基板的制造方法，所述太阳能电池用基板由单晶硅构成，所述制造方法的特征在于，具有以下步骤：制作单晶硅棒；由前述单晶硅棒切出硅基板；以及，以800℃以上且低于1200℃的温度对前述硅基板进行低温热处理；并且，在进行前...

本发明为新的鎓盐、化学放大抗蚀剂组合物和图案化方法。提供新的鎓盐和包含其作为PAG的抗蚀剂组合物。当通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行处理时，抗蚀剂组合物的酸扩散降低，曝光裕度、MEF和LWR改善。

本发明提供一种加成固化型有机硅组合物，其包含：(A‑1)平均组成式(1)表示的有机聚硅氧烷，(R

本发明的目的在于提供一种在产业上有用的、具有脂环结构(特别是降冰片烷环)与羰基的水解性硅化合物的高效的工业制备方法。一种硅化合物的制备方法，其为基于下述通式(1)所示的氢硅烷化合物与下述通式(2)所示的含羰基脂环烯烃化合物的氢化硅烷化反...

本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。包含以下组分的感光性树脂组合物是储存稳定的：(A)含有环氧基和/或酚羟基的有机硅树脂，(B)光致产酸剂，和(C)选自二氮杂双环十一烯、二氮杂双环壬烯、二氮杂双环十一烯衍生物的有机盐和二...

本发明为下述通式(1)所表示的有机硅化合物。由此，提供一种用于固化性导热性硅酮组合物的有机硅化合物，该固化性导热性硅酮组合物能够高度填充导热性填充材料，且即使在高度填充有导热性填充材料的情况下，也能够抑制固化性导热性硅酮组合物的强度降低...

在各种基材的外表面上设置以二氧化硅纳米粒子为主成分的特定厚度的二氧化硅层后，在该二氧化硅层的外表面上设置了以含氟有机硅化合物的固化物为主成分的特定厚度的拒水拒油层的拒水构件能够稳定且简便地对各种基材提供耐磨损性优异的拒水拒油被膜，所述拒...

本发明为一种化妆品，其特征在于，其含有一种或两种以上下述通式(1)表示的、沸点在205～255℃的范围内且粘度小于5mm

本发明提供了一种稀土烧结磁铁，其中多层主相颗粒存在于从该烧结磁体的表面至少500μm内，该多层主相颗粒至少部分在主相颗粒的表面附近具有多个层，其中所述多个层包括具有R

本发明为一种非水电解质二次电池用负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，其中，所述负极活性物质颗粒含有包含硅化合物(SiO

本发明涉及一种具有受控的导热率分布的树脂片材及其制造方法。树脂片材具有单一组成，并且导热率根据部位而变化。树脂片材包括导热率比整个树脂片材导热率的平均值大1W/mK以上的区域。树脂片材的制造方法包括：将树脂组合物形成为具有片材形状的成型...

本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供具有式(1)的新型鎓盐和包含该鎓盐作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当使用高能辐射通过光刻法加工抗蚀剂组合物时，形成抗蚀剂图案，其在LWR和CDU方面得到改善。在式(1)中，R

本发明为一种纤维素纳米纤维担载无机粉体，其包含纤维素纳米纤维与无机粉体，其特征在于，通过将所述纤维素纳米纤维担载于所述无机粉体而成。由此，提供一种能够容易地将纤维素纳米纤维均匀分散于树脂或橡胶的组合物中，能够通过添加于组合物而改善树脂或...

本发明提供一种不易在电材料层的外周端产生瑕疵，并且不易产生从外周端的剥离的声表面波器件用的复合基板及其制造方法。声表面波器件用复合基板是压电材料单晶薄膜和支承基板在接合面处接合在一起的复合基板，其特征在于，支承基板具备闭合的第一轮廓线，...

本发明提供相移型光掩模坯料和相移型光掩模。具体提供一种相移型光掩模坯料，其包括透明衬底和其上的相移膜，所述相移膜由单层或多层组成，所述单层或多层包括选自由过渡金属、硅、氮和氧构成的层和由硅、氮和氧构成的层中的至少一层，对于波长为200n...

本发明的目的在于提供一种单体化合物及其制备方法，所述单体化合物是具有聚硅氧烷结构的聚合性单体，其可以给予在具有作为眼科用器件有益的高透氧性的同时具有充分的相容性和耐水解性的聚合物。式(1)所表示的硅氧烷化合物，其特征在于：该化合物在硅氧...

本发明的目的在于提供一种单体化合物及其制备方法，所述单体化合物是具有聚硅氧烷结构的聚合性单体，其可以给予在具有作为眼科用器件有益的高透氧性的同时具有充分的相容性和耐水解性的聚合物。式(1)所表示的硅氧烷化合物，该化合物在硅氧烷链的一个末...

本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的产酸剂的抗蚀剂组合物不管其为正型还是负型，都提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU。

本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的猝灭剂的抗蚀剂组合物提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU，而不管其为正色调的还是负色调的。

本发明的目的在于提供一种能够解决产品的性能劣化或成品率下降的问题的图案形成方法。所述图案形成方法的特征在于包括以下工序：(1)在基板上形成有机下层膜，在其上形成含硅中间膜，进一步在其上形成上层抗蚀剂膜的工序；(2)对所述上层抗蚀剂膜进行...