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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
紫外线固化型有机硅压敏粘合剂组合物及其固化物制造技术
含有下述组分的紫外线固化型有机硅压敏粘合剂组合物的作业性、固化性良好,给予作为临时固定材料具有优异的压敏粘合性、强度的固化物:(A)在1分子中具有2个由下述通式(1)(R
负极活性物质、混合负极活性物质材料、以及负极活性物质颗粒的制造方法技术
本发明是一种负极活性物质,其包含负极活性物质颗粒,所述负极活性物质的特征在于,负极活性物质颗粒含有硅化合物颗粒,该硅化合物颗粒包含含氧的硅化合物,硅化合物颗粒含有锂化合物,构成硅化合物颗粒的Si的至少一部分以不含Li的Si
粉体的疏水化度的解析方法、高疏水化度处理着色颜料以及含有其的化妆料技术
本发明评价粉体的疏水性。本发明中,将粉体投入由亲油性溶剂和亲水性溶剂组成的混合溶剂中,在投入了粉体的混合溶剂中添加亲油性溶剂,同时每隔规定时间间隔就测定混合溶剂的电压率R,对于任意的电压率R定义与粉体浓度相关的参数x,定义对于与该x对应...
含有氟聚醚基的聚合物改性有机硅化合物、表面处理剂和物品制造技术
使用了下式(1)或(2)的化合物的表面处理剂即使不具有水解性基团,也可在室温等温和的条件下形成耐磨损性优异的防水防油层。[Rf为1价或2价的含有氟代氧亚烷基的聚合物残基,Y
含氟涂布剂组合物和含有该组合物的表面处理剂以及物品制造技术
通过将包含(A)用含有氟代氧亚烷基的聚合物残基改性了的含有羟基或水解性基团的有机硅化合物和/或其部分(水解)缩合物和(B)用含有氟代氧亚烷基的聚合物残基改性了的含有羟基或水解性基团和聚醚基的有机硅化合物和/或其部分(水解)缩合物、(A)...
控制梨圆蚧的方法技术
提供一种使用信息素制品控制梨圆蚧的方法,所述信息素制品包含梨圆蚧的信息素物质。提供一种用于控制梨圆蚧的方法,该方法至少包括在田间安装信息素制品的步骤,使得所安装的信息素制品的数量范围为每公顷200至5000,每个信息素制品包括梨圆蚧的信...
具有耐热性的防水/防油处理剂,制备方法和处理的制品技术
一种防水/防油处理剂,其包含特定的聚合物改性的硅烷和/或其部分(共)水解/缩合物,所述聚合物改性的硅烷在主链上具有氟氧化烯结构且在分子链末端具有可水解基团,该处理剂在250℃下暴露一小时之后,具有10%或更小的百分比重量损失。所述处理形...
化合物、化合物的制备方法及有机膜形成用组合物技术
本发明提供化合物、该化合物的制备方法及使用了该化合物的有机膜形成用组合物,该化合物能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物,耐热性及形成于基板的图案的嵌入或平坦化特性优异,且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的...
光掩膜坯料关联基板的评价方法技术
技术问题:提供一种光掩膜坯料关联基板的评价方法,在光掩膜坯料关联基板中,能够简便地评价其表面状态(例如,形成于透明基板上的光学膜等的透射率、光学常数以外的膜质)。解决方案:在光掩膜坯料关联基板的评价方法中,拍摄所述光掩膜坯料关联基板的表...
环状氨基有机氧硅烷化合物及其制备方法技术
环状氨基有机氧硅烷化合物,具有以下通式(1):
化合物及有机膜形成用组合物制造技术
本发明提供一种化合物,其能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物,耐热性及形成在基板上的图案的嵌入或平坦化特性优异,且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物为下述通式(1‑1)所示的化合物。[...
自熔合高介电性硅橡胶组合物和自熔合高介电性带制造技术
本发明提供自熔合高介电性硅橡胶组合物和自熔合高介电性带。可通过挤出成型或采用压延辊的压延成型进行常压热空气硫化的自熔合高介电性硅橡胶组合物,其含有:(A)由下述平均组成式(1)表示、在1分子中含有至少2个与硅原子键合的烯基的有机聚硅氧烷...
光掩模坯料及其制造方法技术
本发明涉及一种光掩模坯料,所述光掩模坯料在对含有硅的无机膜实施硅烷化处理后形成抗蚀膜,并提供一种光掩模坯料及其制造方法,其能够抑制在显影后因抗蚀剂残渣等所引起的缺陷的产生。为了解决上述问题,提供一种光掩膜坯料的制造方法,其是制造以下的光...
合成石英玻璃基板的制造方法技术
本发明提供一种合成石英玻璃基板的制造方法,该方法包括将间隔件配置成与合成石英玻璃基板的外周侧面接触,在板材从基板表面凸出的状态下,将所述板材配置成与所述间隔件的外周侧面接触,并且对所述基板表面进行喷砂。
薄型基板的制造方法技术
本发明提供使用了用于将应加工背面的基板临时粘合至支撑体的基板加工用临时粘合膜的薄型基板的制造方法,其特征在于,所述临时粘合膜含有重均分子量为3,000~500,000的含硅氧烷键聚合物10质量%以上100质量%以下,其同时包括:(a)在...
抗蚀剂组合物及图案化方法技术
本发明涉及抗蚀剂组合物及图案化方法。抗蚀剂组合物,包含基础聚合物和具有碘化苯环的N‑羰基磺酰胺的
光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模技术
本发明提供一种光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模。具体提供一种光掩模坯料,其在基板上包括加工膜和由含铬材料制成的膜,所述由含铬材料制成的膜形成为与加工膜接触并具有第一、第二和第三层的三层结构,所述第一、第二和第三层的每个层都含铬、氧和...
低热阻有机硅组合物制造技术
低热阻有机硅组合物,其包括(A)具有特定的运动粘度的有机聚硅氧烷;(B)具有特定的运动粘度的有机聚硅氧烷;(C)α‑氧化铝粉末,α‑氧化铝具有特定的晶体结构和D/H比例在预定范围内的颗粒形状,其中将平行于六方密排晶格的六方晶格面的最大颗...
含碳酸酯基的硅烷化合物及其制备方法技术
本发明为含碳酸酯基的硅烷化合物及其制备方法。提供了具有至少两个通过碳链连接的硅原子的特性结构的含碳酸酯基的硅烷化合物。该硅烷化合物是化学稳定的。当用作非水性电解质溶液的添加剂时,该硅烷化合物不会损害锂离子二次电池的安全性。
(2E,6Z)-2,6-壬二烯醛和(2E)-顺-6,7-环氧-2-壬烯醛的制备法制造技术
本发明提供一种制备(2E,6Z)‑2,6‑壬二烯醛的方法,该方法至少包括以下步骤:使通式为Ar
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