化妆品制造技术

本发明专利技术为一种化妆品，其特征在于，其含有(A)下述通式(1)所示的有机(聚)硅氧烷。由此提供一种具有干爽的触感、延展性，且稳定性高、持妆性良好的化妆品。[化学式1]

Cosmetics

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化妆品
本专利技术涉及一种化妆品。
技术介绍
防晒化妆品中使用有紫外线吸收剂，紫外线吸收剂通常会在涂抹时产生粘腻感或油腻感。虽然有报告指出，特别是在利用固体的有机紫外线吸收剂时，通过使用高极性油或4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲酰甲烷可改善稳定性，但仍有油腻感，在使用感上存在问题(专利文献1、2)。另一方面，在油成分之中，硅油具有干爽的触感，虽尝试了同时使用硅油与有机紫外线吸收剂，但在稳定性、使用感方面仍然存在问题(专利文献3、4)。此外，虽已提出了使用改性硅酮的方法，但其并不充分(专利文献5、6)。进一步，虽记载有通过使用含有苯基的硅酮而尝试赋予化妆品减少二次附着的效果或改善光泽，但含有苯基的硅酮不溶于酯油(专利文献7)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-162988号公报专利文献2：日本特开2017-7969号公报专利文献3：日本特开2003-171253号公报专利文献4：日本特开2014-111583号公报专利文献5：日本特开2008-24789本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化妆品，其特征在于，其含有：(A)下述通式(1)所示的有机(聚)硅氧烷，/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171113 JP 2017-2184401.一种化妆品，其特征在于，其含有：(A)下述通式(1)所示的有机(聚)硅氧烷，
[化学式1]



式(1)中，R1独立地表示选自由取代或非取代的碳原子数为1～20的烷基及取代或非取代的碳原子数为6～20的芳基组成的组中的、除下述通式(2)以外的基团，R2及R3分别独立地为R1或下述通式(2)所表示的有机基团，n为0～3的整数，其中，式(1)中的R2及R3中的至少一者为下述通式(2)所表示的有机基团，
[化学式2]



式(2)中，X表示取代或非取代的碳原子数为2～20的亚烷基，Y表示选自由氢原子、取代或非取代的碳原子数为1～20的直链状、支链或环状的烷基、取代或非取代的碳原子数为6～20的芳基、取代或非取代的碳原子数为7～40的芳烷基、取代或非取代的碳原子数为1～20的烷氧基...

【专利技术属性】
技术研发人员：森谷浩幸，龟井正直，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP