提供在高浓度下也为低粘度、长期保存中的粘度上升小的胶体二氧化硅及其制造方法。胶体二氧化硅，其含有二氧化硅粒子、选自天冬氨酸和谷氨酸中的一种以上的分散剂、和水。

本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供下式(1)表示的锍盐、含有该锍盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。式中，Z‑是具有至少1个环状结构的芳香族磺酸阴离子。

本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供下式(1)表示的锍盐、含有该锍盐作为淬灭剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。式中，Z‑为也可具有取代基的芳香族羧酸阴离子。

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供下式(A)表示的锍盐型单体、含有来自该锍盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。(式中，Z‑...

本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供下式(1)表示的锍盐、含有该锍盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。式中，Z‑是不具有聚合性基团的氟烷烃磺酸阴离子。

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度，且为高对比度而且LWR、CDU、MEF、EL、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐、含有该鎓盐...

本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供具有优良的蚀刻耐性、及有机溶剂溶解性，且含有能产生具有适当的酸强度且扩散小的酸的聚合物键结型酸产生剂的化学增幅负型抗蚀剂组成物、以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的抗...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且LWR小、CDU良好、曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，含有下式(a)表示...

本发明为一种有机硅粘着剂组合物，其包含：具有特定结构的含苯基的硅化合物、及具有具有特定结构的含环氧基的有机基团的水解性硅化合物。由此，提供一种相较于现有技术而言进一步改善了对塑料膜基材的密合性的有机硅粘着剂。

提供光造形用紫外线固化性有机硅组合物，其含有：（A）在1分子中具有2个由下述式（1）表示的基团的有机聚硅氧烷（式中，R1表示一价烃基，R2表示氧原子或者亚烷基，R3表示丙烯酰氧基烷基、甲基丙烯酰氧基烷基、丙烯酰氧基烷氧基、甲基丙烯酰氧基...

提供在高浓度下也为低粘度、长期保存中的粘度上升小的胶体二氧化硅及其制造方法。胶体二氧化硅，其含有二氧化硅粒子、选自1，2‑苯并异噻唑啉‑3‑酮和异噻唑啉‑3‑酮中的一种以上的分散剂、和水。

本发明涉及有机膜形成用组成物用聚合物及其制造方法、以及使用该聚合物的有机膜形成用组成物、使用该组成物的有机膜形成方法及图案形成方法。本发明提供一种有机膜材料组成物，其可形成基板上的针孔等涂布缺陷、成膜性、填埋性等涂布性优异的膜，提供使用...

由下述式（1）表示、相容性、乳化性能、乳化稳定性等作为表面活性剂的功能优异、在化妆料中配混的情况下能够赋予优异的使用感（发粘少、铺展良好、驻留感）和被膜感的有机聚硅氧烷。[式中，R2为选自由下述式（2‑1）或（2‑2）表示的基团中的基团...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优异，同时即便在微细图案形成中仍抗图案崩塌强，蚀...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知抗蚀剂材料的高感度、高分辨率，且LWR小、CDU良好、曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，含有下式(a)表示...

本发明提供一种剥离片用有机硅组合物，其包含：(A)一分子中具有2个以上的烯基且烯基含量为规定范围量的有机聚硅氧烷；(B1)一分子中包含规定量以上的具有经由碳原子键合于硅原子的缩水甘油基和/或缩水甘油醚氧基的硅氧烷单元、包含规定范围量的硅...

本发明提供一种热自由基固化性导热性有机硅组合物，其特征在于，其含有：下述(A)成分与(B)成分的加成反应物、相对于所述组合物整体为20~95质量%的(C)导热系数为10W/m·K以上的导热性填充剂、(D)铂族金属催化剂、相对于100质量...

本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐型单体、包含来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、包含该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法，该鎓盐型单体是在使用高能...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光刻中的溶剂溶解性优异、高感度、高对比度度且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐型单体、包含来自该锍盐型...

本发明提供一种能够在不将缺陷误检测为基准标记的情况下可靠地检测基准标记的反射型掩模坯料及其制造方法以及反射型掩模坯料关联基板的检查方法。一种反射型掩模坯料，至少具备：基板；多层反射膜，其设置在该基板上，反射曝光光；以及吸收体膜，其设置在...