本发明涉及含硅的抗蚀剂膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明为一种含硅的抗蚀剂膜形成用组成物，其形成LWR及CDU优良的超微细的抗蚀剂图案，形成的抗蚀剂膜在和有机材料之间具有高蚀刻选择性，且不会发生因为图案化结束后残存的残渣导致缺陷的图...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的锍盐型单体、含...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是在使用高能射线的光学光刻中，提供溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐型单体、含...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供使用于在使用高能量射线的光学光刻中，为高感度，分辨性优良，改善EL、LWR、CDU、DOF等的光刻性能，此外可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物中的新颖鎓盐、...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为在使用高能射线的光学光刻时，提供溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐型单体、含...

本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，为高感度，分辨度优良，改善EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。该课题的解决手段为一种鎓...

本发明涉及鎓盐型单体、单体型光酸产生剂、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF优良，抗图案崩塌，蚀刻耐性亦优良的鎓盐型单体。本发明的解决手段是式(...

本发明的课题为提供溶剂溶解性优异、高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF优异，抗图案崩塌强，蚀刻耐性亦优异的鎓盐型单体、单体型光酸产生剂、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的解决手段为式(a)表示的鎓盐型单体。...

本发明提供一种环氧树脂组合物及其应用，其虽然能够在低温下、短时间内硬化，但保存稳定性或硬化物性优异。一种环氧树脂组合物，包含：(A)在一分子中具有两个以上的环氧基的未经硅酮改性的环氧树脂；(B)在一分子中具有两个以上的氨基的芳香族胺系硬...

本发明提供一种阻气膜，其能够对膜和聚硅氮烷树脂均匀地进行涂布，此外还具有不损及操作性的应力松弛性。作为解决方法为一种应力松弛性阻气膜，其特征在于，其为将固化覆膜层与应力松弛层彼此交互地层叠1层以上而形成的应力松弛性阻气膜，该固化覆膜层为...

提供一种氟聚醚系固化性组合物，其与以往相比，可使用时间延长，能够室温固化或加热固化，可形成硬度减小、具有良好的机械物理性质的固化物，该氟聚醚系固化性组合物含有：（A）在1分子中具有至少2个仲氨基并且在主链中具有2价的全氟聚醚基的含氟化合...

含有如下成分的有机硅组合物通过紫外线照射而迅速地固化，给予具有脱模性的固化物：（A）聚硅氧烷，其具有（a）式（1）（R1表示一价烃基，R2表示氧原子等，R3表示丙烯酰氧基烷基等，p表示0≤p≤10，a表示1≤a≤3）的单元、和（b）R1...

本发明的课题为提供已将质量管理成标准化的非化学增幅型抗蚀剂组成物的制造方法、及图案形成方法。该课题的解决手段为一种非化学增幅型抗蚀剂组成物的制造方法，其特征为按顺序包含：步骤(i)，于容器中放入含羧基的聚合物、高价碘化合物、及溶剂并进行...

本发明的课题为提供已将品质管理成标准化的非化学增幅型抗蚀剂组成物的制造方法、及图案形成方法。该课题的解决手段为一种非化学增幅型抗蚀剂组成物的制造方法，其特征为按顺序包含：步骤(i)，于容器中放入羧酸化合物、高价碘化合物、及溶剂并进行混合...

提供环境变化时的带电变化小、用作调色剂外添剂的情况下能够对调色剂给予良好的印刷特性的表面处理溶胶凝胶二氧化硅粒子等。表面处理溶胶凝胶二氧化硅粒子，其在表面具有R2SiO3/2单元和R43SiO1/2单元（R2和R4为一价烃基），满足（1...

以提供一种在两末端以高比例具有（甲基）丙烯酸基并在分子链中具有季铵阳离子部位的硅酮大分子单体为目的。即，本发明提供一种由下述通式（1）表示的在分子链中具有叔氨基的两末端（甲基）丙烯酸改性硅酮大分子单体。而且，本发明提供一种由下述通式（4...

本发明的目的在于，提供一种有机聚硅氧烷，其是用于提供在两末端以高比例导入（甲基）丙烯酸基并在分子链中含有季铵阳离子部位的硅酮大分子单体的中间体化合物。即，本发明提供一种由下述通式（1）表示的在分子链中具有叔氨基的有机聚硅氧烷。（在通式（...

本发明涉及鎓盐化合物、酸扩散抑制剂、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明为通式(1)表示的鎓盐化合物。借此提供使用于化学增幅型抗蚀剂材料中的酸扩散抑制剂，该化学增幅型抗蚀剂材料是在以高能射线作为光源的光学光刻中，无损感度而LWR等光刻性...

本发明涉及掩模坯料基板，当限定以所述主表面的对角线的交点为中心并且由位于距152mm或更大×152mm或更大的矩形主表面的四条边的向内方向上的5mm处且平行于所述主表面的四条边的四条边围成的矩形区域时，所述矩形区域的平坦度为100nm或...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，无论正型或负型皆为高感度，分辨度优良，改善EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓...