提供了一种反射掩模坯，其包括基板、形成在基板上并且反射曝光光的多层反射膜、形成在多层反射膜上的保护膜，以及与保护膜接触形成并且吸收曝光光的吸收膜。该反射掩模坯是用于使用EUV光作为曝光光的EUV光刻中的反射掩模的材料。吸收膜包括占吸收膜...

本发明涉及高价铋化合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻，尤其电子束(EB)光刻及EUV光刻中，感度及分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种高...

本发明涉及空白光掩模、空白光掩模的加工方法及空白光掩模的制造方法。本发明的课题提供，一种空白光掩模，含有在将吸收体层借由干蚀刻进行加工时，可发挥作为硬掩模的功能、且对于抗蚀剂图案的分辨性改善亦有所贡献的含硅硬掩模膜。本发明的解决手段是一...

本发明提供了一种表面处理剂组合物、颗粒和制品。该表面处理剂组合物含有机硅烷化合物(α)和/或其部分反应缩合物及溶剂，有机硅烷化合物(α)是非氟基化合物，具有选自O、S、N和Si的至少一者，含具3至60个碳原子的直链、支链或环状一价烃基和...

本发明涉及锍盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性良好，且分辨性、LER、图案形状等光刻性能优异的化学增幅正型抗蚀剂组成物；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方...

本发明涉及錪盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性良好且分辨性、LER、图案形状等光刻性能优异的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(A...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法及化合物。本发明的课题为提供成膜性(面内均匀性)及填埋特性优良，且会抑制突起，而且制程宽容度优良的有机膜形成用组成物。该课题的解决手段为一种有机膜形成用组成物，含有：有机膜形成用...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题为提供作为膜形成材料用的聚合物。又，提供含有该聚合物的有机膜材料组成物及有机膜形成方法。又，提供使用了运用该有机膜形成用组成物的抗蚀剂膜的图案形成方法。该...

本发明涉及鎓盐单体、单体型光酸产生剂、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明是一种鎓盐单体，其特征在于，为下述通式(A)表示者。借此，提供在使用高能量射线的光学光刻中，光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐单体。[化...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供作为在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且光刻性能优异化学增幅抗蚀剂组成物中含有的光酸产生剂使用的鎓盐、由该鎓盐构成的光酸产生剂、含有该光酸产生剂的化...

包含（A）由下述式（1）表示的有机硅树脂的二烯系橡胶用配合剂在添加于橡胶组合物中的情况下，在不会使组合物的加工性、耐磨损性能、低油耗性能恶化的情况下给予可实现所需的硬度、拉伸特性和耐久性的橡胶组合物。（SiO4/2）a（R1SiO3/2...

分散体，其含有下述（A）～（D）成分，不仅刚制造后的分散性而且粘度稳定性（分散稳定性）良好。（A）25℃下运动粘度为1～100mm2/s的不挥发性油剂：15～65质量%，（B）粉体：30～70质量%，（C）在（A）成分中溶解的分散剂：1...

本发明涉及鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明为下述通式(A)表示的鎓盐单体。借此可实现展现优良的溶剂溶解性、高感度、及高酸扩散抑制能力，并借此展现优良的光刻性能的化学增幅抗蚀剂组成物。[化1]式中，位在相对于S...

本发明为形成具有氮空位中心的金刚石晶体层的金刚石衬底的制造方法，其用CVD法并用包含烃气与氢气的原料气体在基底衬底上形成金刚石晶体，其中，为了在金刚石晶体的至少一部分形成具有氮空位中心的金刚石晶体层，将氮气或氮化物气体混入原料气体，同时...

本发明涉及鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中所含的使用作为光酸产生剂的鎓盐、由该鎓盐构成的光酸...

本发明涉及锍盐型单体、锍盐型淬灭剂、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且光刻性能优良，同时即使在微细图案形成时，图案崩塌耐性强，蚀刻耐性亦优良...

本发明涉及锍盐型单体、锍盐型淬灭剂、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、光刻性能优异而且即使是微细图案形成时仍耐图案崩塌、蚀刻耐性也优良的化学增幅抗蚀剂组成...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的锍盐型单体、含...

本发明提供反射型空白掩膜及其制造方法，所述反射型空白掩膜能够以较低的成本且较高的产出量制作基准标记，并能够提升检测器检测位置的精度。该反射型空白掩膜的特征在于，至少具备：基板、设置于该基板上且反射曝光光线的多层反射膜及设置于该多层反射膜...

光透过性物品，是在基材的外表面上具备由折射率不同的2种以上的材料的层叠结构构成的减反射层、在该减反射层的外表面上具备由不含氟原子的材料构成的保护层的光透过性物品，其中，保护层的有无导致的物品表面的视感反射率变化不到0.5%，下述的耐碱试...