本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度度且LWR、CDU、MEF、EL、DOF等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐、包含该鎓盐作为光酸产生剂的化...

本发明的目的在于提供一种在样品测定时被检物质的量会在测定装置内增减这样的测定体系中，更正确地对被检物质进行定量的方法。一种定量方法，其为对包含被检物质的样品中的该被检物质进行定量的方法，其特征在于，包括：(1)使用测定装置对同一所述样品...

本发明涉及含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板。本发明目的为提供在喷墨适应性平坦化所使用的覆板中，用以使接触面平坦化，并借由等离子处理而提供适当的接触角的透明的含硅的膜形成用组成物及使用该组成物的膜的形成方法与覆板本体。该课题的解决...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法。本发明的课题为提供兼具填埋/平坦化特性的有机膜形成用组成物，其特征为含有(A)含有芳香族环的树脂、(B)含有下式(1)表示的含有β二酮结构的重复单元的聚合物、(C)溶剂。上式(...

室温固化性树脂组合物，其包含由下述式（1）表示的有机硅化合物，给予高强度化的固化物。（式中，R1独立地为不包括脂肪族不饱和键的未取代或取代的碳原子数1～12的一价烃基，R2为氢原子或碳原子数2～12的脂肪族不饱和一价烃基，R3独立地为不...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：式(1)～(4)中的任一者...

本发明为一种自旋波导波结构体，具有：绝缘磁性体膜；以及周期性导电体膜，其配置于所述绝缘磁性体膜的两表面中的至少一个表面上，由具有周期性结构的导电体膜构成，所述周期性导电体膜的周期性结构为所述导电体膜由多个小片膜的集合体构成，所述小片膜相...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：超原子价碘化合物，为下式(...

本发明的目的在于，提供一种有机聚硅氧烷，其是用于提供在两末端以高比例导入（甲基）丙烯酸基并在分子链中含有季铵阳离子部位的硅酮大分子单体的中间体化合物。即，本发明提供一种由下述通式（1）表示的在分子链中具有叔氨基的有机聚硅氧烷。（在通式（...

提供一种三维(3D)成型品的制造方法，其能够获得不用为了固化而使用加热、光照射等特别的能量就可以固化且耐候性、耐久性等优异的成型品。所述制造方法具有以下工序：i)通过用3D打印机将触变系数为5以上且低于10的第一室温固化性有机聚硅氧烷组...

本发明涉及鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明为下述通式(A)表示的鎓盐单体。由此会展现优良的溶剂溶解性、高感度、及高的酸扩散抑制能力，借此可实现会展现优良的光刻性能的化学增幅抗蚀剂组成物。式中，相对于SO3‑基...

提供光造形用紫外线固化性有机硅组合物，是包含（A）在1分子中具有2个以上介由与硅原子直接结合的氧原子结合于该硅原子的含有自由基聚合性基团的基团（其中，不包括包含氧原子以外的杂原子的基团）的有机聚硅氧烷、（B）平均粒径为10nm～1000...

提供稀土烧结磁铁，其特征在于，将距磁铁表面的深度0.1～200μm的范围内的任意的区域中的R（为1种以上的稀土元素，以Nd为必需）、Fe、Co、Cu、Ga、M1（为选自Co、Cu、Ga中的2种以上的元素，以Co为必需）的原子百分比分别设...

提供一种物品，其可被用能够形成斥水斥油性、耐磨损性优异、液滴滑落性优异的固化被膜的、含有具有硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基的含氟聚醚基聚合物和/或其部分(水解)缩合物的表面处理剂进行表面处理。所述物品为在表面具有包含含氟聚醚基的聚合物和/...

提供高热导率、低粘度、可抑制导热性填充剂的分离沉淀的导热性双组分加成固化型有机硅组合物，其由第一组分和第二组分构成，第一组分含有（B），第二组分不含下述（E）。（A）具有烯基的有机聚硅氧烷，（B）具有氢原子的有机氢聚硅氧烷，（C）导热性...

提供在高浓度下也为低粘度、长期保存中的粘度上升小的胶体二氧化硅及其制造方法。胶体二氧化硅，其含有二氧化硅粒子、包含含有具有酸酐结构的基团、具有酸酐水解的结构的基团或这两者的有机聚硅氧烷的分散剂、和水。

粘度稳定性优异的化妆料包含(a)氨基醇改性有机硅和(b)聚甘油改性有机硅表面活性剂。

提供包括基板、多层反射膜、保护膜和具有相移功能的吸光膜的反射型掩模坯料。吸光膜含有钌、钽和氮并且不含氧，且钌含量为80至90原子％、钽含量为5至15量％、氮含量为不大于10原子％，具有38至50nm的厚度和对于为在极紫外范围内的光的曝光...

本发明提供一种负极体，其特征在于，所述负极体具有负极，所述负极包含：表面进行了粗糙化的负极集电体；设置于该负极集电体上的负极活性物质层；及该负极活性物质层的表面的具有锂离子传导性的离子传导层，同时所述负极体还具有与所述离子传导层邻接的固...

本发明涉及层叠体、层叠体的制造方法及图案形成方法。本发明的课题提供一种层叠体，具备：由可应用于使用高能射线的光学光刻，尤其可应用于电子束(EB)光刻及EUV光刻，且感度及极限分辨性优异的非化学增幅抗蚀剂组成物而得的抗蚀剂膜、以及在其下的...