包含下式（1）的含有氟聚醚基的聚合物和/或其部分（水解）缩合物的表面处理剂可形成拒水拒油性、耐钢丝绒磨损性和耐橡皮磨损性优异的固化被膜。（Rf为1价或2价的氟聚醚基，B为单键或不含F的2价的有机基团，E为具有氧亚烷基的1价的基团，T为单...

本发明提供一种脱模膜，其为具有柔软性的脱模膜，其特征在于，脱模层以2g/m2以上且10g/m2以下的方式直接层叠在树脂膜上，该树脂膜的拉伸强度为20MPa以上，断裂伸长率为300%以上，且厚度为10μm以上且100μm以下。由此，提供一...

本发明提供一种用于安全气囊的加成固化型液状硅橡胶组合物，其含有：(A)直链状有机聚硅氧烷、(B)粉末状的三维网状有机聚硅氧烷树脂、(C)在一分子中含有2个以上的氢硅基的有机氢聚硅氧烷、(D)BET法比表面积为50m2/g以上的二氧化硅微...

提供单晶制造的异常检测方法和单晶制造的异常检测系统，能够消除由于操作员的异常遗漏而导致的不合格，进而进行自动判定，所以操作员不需要确认，也导致省力化。本发明是单晶2的制造的异常检测方法，包括将投入到坩埚4中的单晶用原料通过加热源5加热熔...

本发明涉及鎓盐型单体、单体型光酸产生剂、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中含有的聚合物的材料即作为单体型...

本发明涉及抗蚀剂组成物、层叠体及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻，尤其电子束(EB)光刻及EUV光刻中，感度及分辨率优良的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特...

本发明涉及一种相移掩模坯料和相移掩模的制造方法。该相移掩模坯料包括相移膜和与相移膜接触地形成并由含铬材料形成的遮光膜，其中相移膜由含硅而不含碳的材料形成，遮光膜由含铬、氧、氮和碳的材料形成，遮光膜具有包括四层的层叠结构：第一层、第二层、...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供可获得改善图案形成时的分辨度，且LER、分辨度、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物，及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化...

本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供图案形成时的分辨性提升且能获得LER、分辨性、图案忠实性及剂量宽容度有所改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，并提供抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅负型抗蚀剂组成物...

本发明涉及鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，虽控制酸扩散但仍为高感度、高对比度，且光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中所含的使用作为光酸产生剂的鎓盐、由...

提供形成高强度、具有长期耐热性和抗漏电起痕性的固化物的热固化性树脂组合物。该热固化性树脂组合物包含：(A)由下述式(1)表示的脂肪族双柠康酰亚胺化合物，【化1】(式(1)中，A为碳原子数2～12的2价的脂肪族烃基。)，和(B)在1分子中...

本发明提供液体硅橡胶组合物，其包含：（A）在1分子中含有2个以上与硅原子键合的烯基的液体有机聚硅氧烷，（B）平均粒径0.1～300μm的填充剂，（C）由下述式（1）表示的3‑缩水甘油氧基丙基硅烷醇低聚物（式中，R1为1价烃基，R2为可被...

本发明是一种一分子中含有一个以上（甲基）丙烯酰氧基的聚硅氧烷化合物，其特征在于，所述聚硅氧烷化合物的侧链末端具有三级羟基。由此，能够提供一种适用于医用材料的聚硅氧烷化合物、使用了所述聚硅氧烷化合物的聚合物、包含所述聚合物的水凝胶、包含所...

本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供可获得图案形成时的分辨性提升且LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含(A)由下式(A)表示...

本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供可产生具有适当的酸强度且扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种鎓盐，以下式(A...

本发明涉及层叠体、层叠体的制造方法及图案形成方法。本发明为提供在使用高能射线的光学光刻中，兼顾高感度及高分辨率且形成微细图案的层叠体，层叠体的制造法及图案形成方法。该课题的解决手段为一种层叠体，其特征为按顺序具备：基板，含硅的抗蚀剂下层...

本发明涉及锍盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性良好，且分辨度、LER、图案形状等光刻性能优良的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。...

本发明涉及锍盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性良好，且分辨性、LER、图案形状等光刻性能优异的化学增幅正型抗蚀剂组成物；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方...

本发明涉及分子抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、分辨性及LWR优异的分子抗蚀剂组成物、以及使用该分子抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明为一种分子抗蚀剂组成物，其特征在于：包含下式(1)或(2...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有下式(1)～(4)中任一者表...